材料噴射頭的清潔的製作方法
2023-06-05 20:35:26
專利名稱：材料噴射頭的清潔的製作方法
技術領域：
本發明涉及對材料噴射頭的清潔以及裝備有自動清潔的材料噴射頭的生產機器和設備。
「材料噴射頭」可以理解為一些噴墨彩色列印頭也可以理解為一些粘稠製品或者粉末製品的流體噴射頭。
另外，本發明使用的領域在於除了用墨水彩色列印以外的，具有醫學、生物學、基因學，化學、聲學、絕緣或者導電的功能或者性質的材料，或者類似物的噴射。
例如在文獻WO-A-9919900中，示出了，除了列印以外材料噴射的多種應用。
使用了一些材料噴射頭的這些裝置用於在一種材料基體上噴灑材料滴，使得形成三維的圖象或者結構。
由本申請人申請的文獻FR-A-2790421，描述了一種設有至少一個噴墨頭的列印材料噴射機。
該文獻給出了一種用於在諸如晶片卡的基體上列印圖案的材料噴射頭的應用。
文獻US-5449754描述了通過在一種基體上噴射多種流體溶液滴進行的一種化合物實施方法。
該文獻給出了用於化學應用的材料噴射頭的實例。
噴射材料滴的方法和裝置的特徵在於材料輸出噴嘴易於碎裂。
事實上，這些噴嘴的直徑為十幾個微米，因此最小的雜質也能防礙材料噴射。
另外，對於材料噴射的功能來說，這些噴嘴非常容易被用後的乾材料殘留物堵塞。
已經提出了對材料噴射頭進行周期的清潔的裝置。
特別地，已知設置一個清掃階段，在該階段期間，通過輸出噴嘴將大量的材料排出，設置另外一個容器收集該清掃的材料。
這個方案具有某些的缺點，其中包括密封該容器噴嘴組件非常困難，因為該容器是可拆卸的。另外，在材料噴射頭能夠處於不同位置的情況下，留下流動物的痕跡的危險是很大的。
還知道設置一個橡膠刮刀，該刮刀能夠在清潔階段期間刮擦材料輸出噴嘴，以便排出殘留材料滴。
這種裝置事實上不令人滿意，因為難於回收被刮下的材料並且必須周期清潔該刮刀本身。
還已知設置一些清潔材料噴射頭的階段在材料噴射頭下面設置一個帶形物，藉助於一個塞子將該帶形物貼靠在材料輸出噴嘴上，然後使該帶形物移動以便擦拭噴嘴。
儘管比上述的方案更令人滿意的方案不具有足夠適用於高品質材料噴射的表面狀態。
本發明解決了這些缺陷，特別是通過給出一種簡單的清潔解決這些缺陷，該簡單的清潔允許確保一種與精確的材料噴射的要求兼容的完美的清潔度，和/或者本發明還解決了不用使用複雜且昂貴的機構實現高生產率。
因此，本發明的第一目標是清潔至少一個材料噴射頭的方法，該材料噴射頭的包括一個待噴射材料的輸出裝置；該方法包括在由該噴射頭進行的所有材料噴射之外的清潔循環，該清潔循環包括預定的步驟a)設置一個吸收元件，該吸收元件能夠吸收材料並且在空間中根據第一幾何關係相對材料輸出裝置設置；b)設置一個刮擦元件，該刮擦元件在空間中根據第二幾何關係相對該材料輸出裝置和吸收元件設置；c)到達一個稱為清潔初始位置的位置，在該位置中，該吸收元件的至少一段插在該刮擦元件和該材料輸出裝置之間，該吸收元件和刮擦元件構成了一個清潔組件；d)產生沿大致與在該清潔組件和材料輸出裝置之間的上升方向垂直的清潔平面的相對移動，以便該刮擦元件刮擦該材料輸出裝置，幾乎同時通過該吸收元件進行吸收。
該材料噴射頭選自噴墨列印頭、粘稠流體噴射頭和分配系統和類似物。
該被噴射的材料選自一些染色的物質、醫學物質、生物物質、基因物質、化學物質、導電物質或者絕緣物質及類似物。
所公開的該材料輸出裝置可以包括至少一個材料輸出噴嘴。
另外，在披露的第一幾何關係中，該吸收元件可以是大致平面形狀的並且相對該材料輸出裝置設置在清潔平面中。
同樣，在第二幾何關係中，該刮擦元件設置成使得該吸收元件設置在該材料輸出裝置和刮擦元件之間。
在一種實施方式中，在步驟c)中該清潔元件是由該刮擦元件和吸收元件擠壓該材料輸出裝置形成的。
在另一個實施方式中，該清潔方法在步驟b)之後還包括一個清掃循環，該清掃循環包括下述的預設步驟b1)靠著該材料輸出裝置使用該吸收元件；b2)在清潔平面中使得該吸收元件相對該材料輸出裝置移動，並且同時在預定的期間內通過該材料輸出裝置連續排出一些材料；b3)沿上升方向使該吸收元件與該材料輸出裝置分開。
在一個實施方式中，該清潔方法在步驟b)之後還包括一個噴射循環，該噴射循環包括下述的預定步驟b1)靠近該材料輸出裝置設置該吸收元件；b2)在該噴射循環期間內均勻間隔地準時實施穿過該材料輸出裝置的材料射流。
本發明的第二目標在於一種材料噴射頭的清潔系統，該清潔系統包括一個材料輸出裝置，該裝置包括-一個吸收元件，該吸收元件能夠吸收材料並且根據第一幾何關係相對該材料輸出裝置設置在該空間中；-一個刮擦元件，該到擦元件根據第二幾何關係相對該材料輸出裝置和該吸收元件設置在該空間中；-一些在該清潔平面中平移移動該刮擦元件的第一裝置；-一些第二移動裝置，這些第二裝置沿上升方向在兩個位置之間移動該刮擦元件，其中在一個位置中該刮擦元件與材料的輸出裝置分開，在另一個位置中該刮擦元件壓在該吸收元件和該材料輸出裝置上；-一些第三移動裝置，這些第三裝置在該清潔平面中相對該材料輸出裝置移動該吸收元件；-一些第四移動裝置，這些第四裝置沿上升方向在兩個位置之間移動該吸收元件，在一個位置中，該吸收元件與該材料輸出裝置分開，在另一個位置中，該吸收元件保持倚靠在該材料輸出裝置上；-一些按照至少一個清潔循環控制第一、第二、第三和第四裝置移動的裝置，在該清潔循環中，大致同時該刮擦元件刮擦該材料輸出裝置，同時該吸收元件吸收被刮擦下來的材料。
在披露的第一幾何關係中，該吸收元件可以是大致平面形狀的，並且相對該材料輸出裝置設置在該清潔平面中。
同樣，在披露的第二幾何關係中，該刮擦元件設置成使吸收元件位於該材料輸出裝置和刮擦元件之間。
這些第一移動裝置可以包括一個導向裝置，該導向裝置允許該刮擦元件沿該吸收元件的移動方向平移。
該第二移動裝置可以包括一個電磁致動裝置。
在一個實施形式中，該吸收元件為吸收材料的帶狀物形式，這些第三移動裝置包括一個退繞筒子和一個卷繞筒子以及兩個引導軸，這兩個筒子能夠配合用來在兩個引導軸之間放出吸收材料的帶狀物。
這些第四移動裝置可以包括至少一個導向裝置，該導向裝置允許至少一個引導軸沿該上升方向平移。
可替換的，這些第四移動裝置可以包括至少一個偏心輪，該偏心輪允許至少一個引導軸沿上升方向平移。
在一個優選實施形式中，這些控制裝置能夠確保一個清潔循環，在該清潔循環期間-這些第四移動裝置受控，用來保持吸收元件與該材料輸出裝置分開；-這些第三移動裝置受控，用來相對該材料輸出裝置在清潔平面中移動吸收元件；-這些第二移動裝置受控，用來將該刮擦元件擠壓在吸收元件和該材料輸出裝置上。
另外，這些控制裝置能夠確保一個清掃循環，在該清掃循環期間-這些第四移動裝置受控，用來保持該吸收元件倚靠在該材料輸出裝置上；-這些第三移動裝置受控，用來在清潔平面中相對該材料輸出裝置移動該吸收元件；-這些第二移動裝置受控，用來保持該刮擦元件與該材料輸出裝置分開。
同樣，這些控制裝置能夠確保一個噴射循環，在該噴射循環期間-這些第四移動裝置受控，用來保持吸收元件與該材料輸出裝置分開；-這些第二移動裝置受控，用來保持與該材料輸出裝置分開的刮擦元件。
本發明的第三個目標在於一種材料噴射機器，該機器特別是按照本發明的清潔方法工作，和/或者包括一個根據本發明的清潔系統，這個機器包括-一個材料噴射頭，該噴射頭包括至少一個材料輸出噴嘴；-一些控制裝置，控制該材料噴頭進行材料噴射；-一些清掃裝置；這些清掃裝置設置用來經由材料輸出裝置向吸收元件疏通，以便來自一個容器和/或者材料輸出裝置的待噴射的材料被該吸收元件回收。
在一個實施例中，在對該清潔系統進行清掃循環時，在一個預定期間中，這些清掃裝置能夠連續控制通過該材料輸出裝置排出材料。
在另一個實施例中，這些控制進行材料噴射的控制裝置，在該清潔系統的噴射循環時，能夠在噴射循環期間均勻間隔地控制通過該材料輸出裝置實施的準時的材料噴射。
本發明的第四個目的在於生產一種諸如電子裝置的結構的設備，這個設備-設計根據本發明的方法進行的清潔；和/或者-包括根據本發明的清潔系統；和/或者-包括根據本發明的機器。
本發明的第五個目的在於生產諸如電子裝置的結構、信息載體的結構的方法，該電子裝置例如是智能化便攜物品或者電子器件，該信息載體例如是光碟或者磁碟或者類似物，該方法的特徵在於-設計一種按照本發明的方法進行的清潔；和/或者-使用根據本發明的清潔系統；和/或者-特別是在根據本發明的一個機器上進行生產；和/或者-特別是在本發明的設備上進行生產。
本發明的其它特徵和優勢將出現在藉助附圖進行的描述中，附圖包括-
圖1是本發明的材料噴射機器的側面的簡示圖；-圖2是類似於圖1的簡示圖；-圖3是對應於圖2的正面視圖；-圖4是本發明的清潔系統的簡示圖；-圖5是類似於圖4的視圖；-圖6是本發明的清掃和清潔循環的曲線圖；-圖7是本發明的清掃和雙清潔循環的曲線圖；-圖8是本發明的清掃/材料噴射和清潔的曲線圖；-圖9是本發明的清掃循環的曲線圖；-圖10是本發明的材料噴射循環的曲線圖；和-圖11A-11D示出了本發明清潔循環的四個步驟。
在與附圖相伴的正交標記中，縱向方向用X軸表示，橫向方向用Y軸表示，而上升方向用Z軸表示。
圖1簡示示出了側面看去的材料噴射機器，該機器裝備了一種根據本發明進行的清潔系統。僅僅示出在該清潔階段中用到的元件。
該機器包括一個用於材料噴射的材料噴射頭1，該材料由材料容器2提供。該頭部可以沿縱向方向Y移動以便能夠到達該機器的材料噴射區域，並且在如圖1-5所示的清潔階段時能夠設置在該清潔系統的上面。
事實上，該清潔系統在該材料噴射頭的橫向移動路徑(沿橫向方向)上固定在該材料噴射機器的側面上。
該材料噴射頭包括一個大致平面的噴管盤11，該噴管盤11匯集多個材料輸出噴嘴。
該清潔系統包括一個吸收材料構成的帶狀物3，其寬度大於該材料噴射頭1的寬度(見圖3)，並且能夠在該噴射頭1的下面通過退繞筒子4和卷繞筒子5的動作而行進，該卷繞筒子5通過馬達6和變速裝置被驅動。
該帶狀物3可以具有的寬度(沿橫向方向Y)為80毫米，厚度為0.25毫米，一個新的退繞筒子4的直徑為70毫米，該直徑對應於滿的卷繞筒子5的75毫米的直徑，兩個筒子4，5之間的軸間距為54毫米。
通過兩個沿橫行方向Y旋轉安裝並且平行設置的滾筒7，8進行定位和引導，以便大致平面地保持在材料噴射頭1下面張緊的帶狀物3的一部分。
這些構成了引導軸的滾筒7，8另外可以沿上升方向移動。它們安裝在沿上升方向Z移動的裝置上，例如在一些導向裝置或者偏心輪上，控制這些移動裝置的控制裝置允許位於軸7和8之間的帶狀物3的部分沿上升方向Z定位。
該退繞筒子4的軸的旋轉被馬達6的控制裝置所控制，以便為了保持在引導軸7，8之間的帶狀物3的張力並且確保回復效應而提供抵抗該筒子4退繞的阻力。
另外，例如通過一個編碼輪控制筒子4，5的旋轉，以便檢測任何情況，例如帶狀物3的斷裂或者馬達6的故障，在檢測到一種這樣的情況時不實施清掃操作。
馬達6同樣設置有用於控制該筒子5的旋轉速度的控制裝置，以便該帶狀物3的行進速度保持不變，不管在該筒子5上卷繞多長的帶狀物3，關於該筒子5的直徑的信息通過任何合適的裝置給出，例如遙測儀，機械測量規或者電位計。
所述的滾筒4，5的機構允許了在噴管盤11下面連續行進該帶狀物3，例如圖2所簡示的。
帶狀物3的在兩個滾筒7，8之間張緊的部分的下面，設有一個安裝在一個導向裝置10上的橡膠刮刀9，該導向裝置允許刮刀9沿縱向方向X在大於該噴管盤11的長度(沿縱向方向X)的距離上移動。
另外，該刮刀9垂直於該材料噴射頭1、沿橫向方向Y在至少與該噴管盤11的寬度相等的寬度上延伸。
該刮刀還由電磁致動裝置12控制，該電磁致動裝置固定在該導向裝置10上並且能夠將該刮刀9貼靠在該噴管盤11上，此時該電磁致動裝置被致動，在致動裝置12處於靜止狀態時，該刮刀9通過一個彈簧13與該噴管盤11保持分開。
該致動裝置12確保了該刮刀9與該噴管盤11的接觸，例如該致動裝置12的特徵在於-壓力為12N-在靜止位置的回覆力為1.5N
-可以控制施加在該刮刀上的壓力-最小行程4毫米該材料噴射頭另外裝備有一個清掃裝置，該清掃裝置設置用於擠壓該材料容器2，以及迫使材料連續通過材料輸出噴嘴輸出，因此確保了該材料噴射的迴路的清掃。
上述的清潔系統如後面所述的方式工作。
在該材料噴射階段時，該材料噴射頭在待列印的基體上面平行於該橫向方向Y移動。
在清潔階段時，該材料噴射頭位於橫向方向Y行程的盡頭，以便設置在該機器的側面，在這裡在該帶狀物3』(例如圖1所示)的上面設置了該清潔系統。
在這個階段，該清潔系統處於靜止狀態，即該刮刀9通過彈簧13保持與該帶狀物3分開，沿上升方向Z，引導軸7，8設置成保持帶狀物3的位於它們之間的部分距離該噴管盤11為2毫米數量級的間距。
該清潔系統可以根據上述的不同的循環被控制，參照圖6-10，在這些附圖中，縱軸示出了時間，橫軸示出了不同元件的狀態(致動或者靜止)，包括-接觸帶狀物控制C1；-刮刀控制C2；-馬達控制C3；-清掃控制C4；-壓力控制C5。
圖6示出了清潔的順序，該清潔順序首先包括一個清掃循環P，在該清掃循環P期間-該接觸帶狀物C1被致動，即引導軸7，8被移動以便將帶狀物3貼靠在該噴管盤11上；-該刮刀控制C2不動作，即該刮刀9處於與該帶狀物3分開的位置，該致動裝置12位於靜止狀態；-馬達控制C3被致動，即該馬達6啟動，以便使該帶狀物3行進；-該清掃控制C4被致動，建立了通過該噴管盤11的材料流動。
通過清掃操作產生的材料因此被帶狀物3吸收，該帶狀物以足夠速度行進，以便不留下任何流出物的痕跡。
參照附圖4，帶狀物與該噴管盤11的接觸最好通過將引導軸7，8沿上升方向Z設置而進行，以便-在該帶狀物3(軸8)的行進方向的下遊，軸Z上的最高點設置在與噴管盤11所形成平面的相同的高度處；-在該帶狀物3(軸7)的行進方向的上遊，軸Z上的最高點設置在噴管盤11所形成的平面下面大約2毫米的位置處。
因此確保了帶狀物3與該噴管盤11的整個表面的接觸，在清掃時，避免了在圖4和5的標誌14的位置處材料的積累。
圖6的清潔順序包括在清掃P循環之後，進行一個清潔循環N，在該清潔循環N中-該接觸帶狀物控制C1不工作；-該刮刀控制C2被致動；-該馬達控制C3被致動；-該清掃控制C4不工作。
在清潔循環N期間，該帶狀物3處於與該噴管盤11分開的位置，而該刮刀9略微對著該噴管盤11升起一個線性部分。一個清潔元件因此形成，因為帶狀物3的由該刮刀9的擠壓形成的該線性部分(沿橫向方向Y)構成一個覆蓋有吸收材料的刮刀。
該馬達控制C3被致動，帶狀物3在該噴管盤11下面行進，該刮刀9自由移動地安裝在該導向裝置10上，並且與該帶狀物3接觸，因此刮刀9被移動驅動以便該清潔元件經過該噴管盤11的整個長度(沿X)，確保優選的清潔。
圖7示出了另一個清潔順序，首先包括一個上述的清掃循環P，然後是一個雙清潔循環2N，該雙清潔循環2N包括第一清潔TE1，類似於上述的清潔循環N，然後是在這兩個清潔之間的第二清潔TE2，之後對導向裝置10的控制，確保了該刮刀9回到初始位置(在圖1-4中示出)。
本發明的另一個實施形式由圖8表示，圖8示出了清潔順序，該清潔順序包括在圖6的清潔循環N之前一個與壓電的致動C5組合的清掃循環P。
與壓電的致動C5組合的清掃循環P對應於下述的狀態-該接觸帶狀物C1被致動；
-該刮刀控制C2不工作；-該馬達控制C3被致動；-該清掃控制C4被驅動；-該壓電控制C5被致動，即這些負責材料噴射頭的材料噴射作用的壓電元件被啟動，此時材料噴射在一個基體上。
圖9本身示出一個清潔順序，該清潔順序以均勻間隔TCP包括連續的清掃循環，在這個連續的清掃循環期間-該馬達控制C3被致動；-該清掃控制C4被致動，在致動清掃時，該帶狀物3處於靠著該噴管盤11的位置中。
圖10示出另一個清潔順序，其中包括噴射循環，該噴射循環期間-該馬達控制C3在時間TM期間，以均勻間隔被致動；-該壓電控制C5以均勻間隔被致動。
在這些操作期間該帶狀物3處於與該噴管盤11分開的位置，並且起到了材料噴射的基體的作用，這個順序允許了在停止材料噴射時，保持材料噴射頭處於工作狀態，以便確保在恢復材料噴射時立即再啟動材料噴射頭。
這些附圖11A-11D示出了本發明的清潔循環的另一個實施形式。這些附圖中，該材料噴射頭11、刮刀9、帶狀物3和軸7，8被簡示示出。
在這個實施形式中，這些元件的設置是這樣的-該帶狀物3在該材料噴射頭1的下面沿與圖1-5的方向相反的方向行進；-軸7固定在上升方向Z上，其在Z軸上的最高點與含有該噴管盤11的平面處於相同的高度；-軸8可沿上升方向Z移動。
圖11A表示該清潔循環的第一步驟，軸8保持了帶狀物3與該噴管盤11分離，該刮刀處於初始位置。
圖11B示出了第二步驟，在該第二步驟中，該軸8設置成使得該帶狀物3倚靠在該噴管盤11上。
在圖11C中，該刮刀9被控制成倚靠到該噴管盤11上，並且軸8再次佔據初始位置。然後啟動該刮刀9沿縱向方向X的移動，圖11D示出了在行程終點的刮刀9。
權利要求
1.清潔至少一個材料噴射頭(1)的方法，該噴射頭(1)包括一個待噴射材料的輸出裝置(11)；其特徵在於，其在通過這個噴射頭進行的所有的材料噴射之外，包括一個清潔循環，該清潔循環包括下述的預定步驟a)設置一個吸收元件(3)，該吸收元件(3)能夠吸收該材料並且根據第一幾何關係相對該材料輸出裝置(11)設置在該空間(X；Y；Z)中；b)設置一個刮擦元件(9)，其根據第二幾何關係相對該材料輸出裝置(11)和吸收元件(3)設置在該空間(X；Y；Z)中。c)到達稱為清潔初始位置的位置，在該位置中，吸收元件(3)的至少一段被插入在該刮擦元件(9)和材料輸出裝置(11)之間，該吸收元件(3)和刮擦元件(9)構成了一個清潔組件；d)使該清潔組件沿大致與該上升方向(Z)垂直的清潔平面(X；Y)在該清潔組件和材料輸出裝置(11)之間形成相對移動，以便該刮擦元件(9)刮擦該材料輸出裝置，同時由吸收元件進行吸收，並且該刮擦動作根據該刮擦元件(9)在該吸收元件(3)的移動方向中移動而進行。
2.根據權利要求1所述的清潔方法，其中，該材料噴射頭(1)選自噴墨列印頭、粘合的流體噴射頭，分配系統和類似物。
3.根據權利要求1或者2所述的清潔方法，其中，該被噴射的材料選自染色物質、醫學物質、生物物質、基因物質、化學物質、導電物質或者絕緣物質等。
4.根據權利要求1-3中任一項所述的清潔方法，其特徵在於，該材料輸出裝置(11)包括至少一個材料輸出噴嘴。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的清潔方法，其特徵在於，在該第一幾何關係中，該吸收元件(3)為大致平面的形式並且相對於該材料輸出裝置(11)設置在該清潔平面(X；Y)中。
6.根據權利要求1-5中任一項所述的清潔方法，其特徵在於，在該第二幾何關係中，該括擦元件(9)設置成使得該吸收元件(3)位於該材料輸出裝置(11)和該括擦元件(9)之間。
7.根據權利要求1-6中任一項所述的清潔方法，其特徵在於，在步驟c)，該清潔元件通過括擦元件(9)和吸收元件(3)壓在該材料輸出裝置(11)上而形成。
8.根據權利要求1-7中任一項所述的清潔方法，其特徵在於，在步驟b)之後還包括一個清掃循環，該清掃循環包括下述的預定步驟b1)將該吸收元件(3)施加在材料輸出裝置(11)上；b2)在清潔平面(X；Y)中相對材料輸出裝置(11)移動該吸收元件(3)，同時在預定的期間內，通過該材料輸出裝置(11)連續排出該材料；b3)沿上升方向(Z)使得該吸收元件(3)與該材料輸出裝置(11)分開。
9.根據權利要求1-7中任一項所述的清潔方法，其特徵在於，在步驟b)之後，還包括一個噴射循環，該噴射循環包括如下的預定步驟b1)靠近該材料輸出裝置(11)設置該吸收元件(3)；2)在噴射循環期間以均勻間隔通過該材料輸出裝置(11)準時實施材料噴射。
10.清潔一種材料噴射頭(1)的清潔系統，該噴射頭(1)包括材料輸出裝置(11)，其特徵在於在於，該清潔系統包括-一個吸收元件，其能夠吸收該材料並且根據第一幾何關係相對該材料輸出裝置(11)設置在該空間(X；Y；Z)中；-一個括擦元件(9)，其根據第二幾何關係相對該材料輸出裝置(11)和吸收元件(3)設置在該空間(X；Y；Z)中；-一些第一移動裝置(10)，其使該括擦元件(9)在該清潔平面(X；Y)中平移移動；-一些第二移動裝置(12)，其使該括擦元件(9)沿該上升方向(Z)在兩個位置之間移動，在一個位置中，該括擦元件(9)與材料輸出裝置(11)分開，在另一個位置中，該括擦元件(9)壓在該吸收元件(3)和材料輸出裝置(11)上；-一些第三移動裝置(4，5，6，7，8)，其使吸收元件(3)在清潔平面(X；Y)中相對該材料輸出裝置(11)移動；-一些第四移動裝置，其使吸收元件(3)沿上升方向(Z)在兩個位置之間移動，在一個位置中，該吸收元件(3)與材料輸出裝置(11)分開，在另一個位置中，該吸收元件(3)保持壓在該材料輸出裝置(11)上；-一些控制裝置，其根據至少一個清潔循環控制第一，第二，第三，第四移動裝置移動，在該清潔循環中，大致同時，該括擦元件(9)按照該括擦元件(9)在該吸收元件的移動方向括擦該材料輸出裝置(11)，而該吸收元件(3)吸收被括擦的材料。
11.根據權利要求10所述的清潔系統，其特徵在於，在該第一幾何關係中，該吸收元件(3)為大致平面的形式並且相對於該材料輸出裝置(11)設置在該清潔平面(X；Y)中。
12.根據權利要求10或者11所述的清潔系統，其特徵在於，在該第二幾何關係中，該括擦元件(9)設置成使得該吸收元件(3)位於該材料輸出裝置(11)和該括擦元件(9)之間。
13.根據權利要求10或者11所述的清潔系統，其特徵在於，這些第一移動裝置包括導向裝置(10)，該導向裝置(10)允許了該括擦元件(9)沿該吸收元件(3)的移動方向平移。
14.根據權利要求10-12中任一項所述的清潔系統，其特徵在於，這些第二移動裝置包括一個電磁致動裝置(12)。
15.根據權利要求10-13中任一項所述的清潔系統，其特徵在於，該吸收元件(3)為吸收材料的帶狀物的形式，這些第三移動裝置包括一個退繞筒子(4)和一個卷繞筒子(5)以及兩個引導軸(7，8)，這兩個筒子能夠配合使該吸收材料帶狀物在兩個引導軸(7，8)之間行進。
16.根據權利要求15所述的清潔系統，其特徵在於，這些第四移動裝置包括允許至少一個引導軸(7，8)沿上升方向(Z)平移的至少一個導向裝置。
17.根據權利要求15所述的清潔系統，其特徵在於，這些第四移動裝置包括允許至少一個引導軸(7；8)沿上升方向(Z)平移的至少一個偏心輪。
18.根據權利要求10-17中任一項所述的清潔系統，其特徵在於，這些控制裝置能夠確保一個清潔循環，在該清潔循環中-第四移動裝置受控，用來保持該吸收元件(3)與該材料輸出裝置(11)分開；-第三移動裝置(4，5，6，7，8)受控，用來在該清潔平面(X；Y)中相對該材料輸出裝置(11)移動該吸收元件(3)；-第二移動裝置(12)受控，用來將括擦元件(9)壓靠在該吸收元件(3)和該材料輸出裝置(11)上。
19.根據權利要求10-18中任一項所述的清潔系統，其特徵在於，這些控制裝置能夠確保一個清掃循環，在該清掃循環中-第四移動裝置受控，用來保持該吸收元件(3)壓在該材料輸出裝置(11)上；-第三移動裝置(4，5，6，7，8)受控，用來沿清潔平面(X；Y)相對該材料輸出裝置(11)移動吸收元件(3)。-第二移動裝置(12)受控，用來保持該括擦元件(9)與材料輸出裝置(11)分開。
20.根據權利要求10-19中任一項所述的清潔系統，其特徵在於，這些控制裝置能夠確保一個噴射循環，在該噴射循環中-第四移動裝置受控，用來保持該吸收元件(3)與材料輸出裝置(11)分開；-第二移動裝置(12)受控，用來保持該括擦元件(9)與該材料輸出裝置(11)分開。
21.根據權利要求1-9中任一項所述的的清潔方法，和/或者根據權利要求10-20中任一項所述的清潔系統進行工作的材料噴射機，該噴射機包括-一個包括至少一個材料輸出噴嘴的材料噴射頭(1)；一一些控制材料噴射頭(1)進行材料噴射操作的控制裝置；-一些清掃裝置；其特徵在於，這些清掃裝置設置成經由該材料輸出裝置(11)通向該吸收元件(3)，以便來自容器(2)和/或者材料輸出裝置(11)的待噴射的材料被該吸收元件(3)回收。
22.根據權利要求21所述的材料噴射機，同時權利要求21從屬於權利要求10-20中的任一項，其特徵在於，這些清掃裝置在清潔系統的清掃循環時，能夠通過該材料輸出裝置(11)在一個預定期間中控制材料連續排出。
23.根據權利要求21或者22所述的材料噴射機，同時權利要求21或者22從屬於權利要求10-20中的任一項，其特徵在於，這些控制材料噴射操作的控制裝置，在清潔系統的噴射循環時，能夠控制材料穿過該材料輸出裝置，在該噴射循環期間以均勻間隔，準時進行噴射。
24.生產諸如電子裝置例如智能便攜物品或者電子器件，諸如信息載體，例如光碟或者磁碟或者類似物的結構的生產設備，其特徵在於，該生產設備-設置一個根據權利要求1-9中任一項所述的方法的清潔；和/或者-包括一個根據權利要求10-20中任一項所述的清潔系統；和/或者-包括一個根據權利要求21-23中任一項所述的噴射機。
25.生產諸如電子裝置例如智能便攜物品或者電子器件，諸如信息載體，例如光碟或者磁碟或者類似物的結構的生產方法，其特徵在於，該生產方法-設置一個根據權利要求1-9中任一項所述的方法的清潔；和/或者-使用根據權利要求10-20中任一項所述的清潔系統；和/或者-在根據權利要求21-23中任一項所述的噴射機上進行生產；和/或者-在根據權利要求24所述的設備上進行生產。
全文摘要
對一個材料噴射頭(1)的清潔包括在材料噴射循環之外的清潔循環，該清潔循環包括如下預定的步驟a)設置一個吸收元件(3)；b)設置一個刮擦元件(9)；c)到達一個稱為清潔初始位置的位置，在該位置中吸收元件(3)的至少一段插入到該刮擦元件(9)和該材料輸出裝置(11)之間，該吸收元件(3)和刮擦元件(9)因此構成了一個清潔組件；d)產生了沿與在該清潔組件和材料輸出裝置(11)之間的上升方向(Z)大致垂直的清潔平面(X；Y)的相對移動，使得在幾乎與吸收元件所進行的吸收同時，刮擦元件(9)刮擦該材料輸出裝置(11)。
文檔編號B05C11/10GK1617802SQ02827734
公開日2005年5月18日 申請日期2002年11月28日 優先權日2001年11月30日
發明者O·奧德 申請人:格姆普拉斯公司