鍍膜件及其製作方法
2023-06-03 10:15:51 1
鍍膜件及其製作方法
【專利摘要】本發明提供一種鍍膜件及該鍍膜件的製作方法。該鍍膜件包括一基體及一形成於基體表面的抗指紋層，該抗指紋層為錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛的混鍍層、或一聚甲醛層。該鍍膜件的製作方法包括如下步驟：提供一基體；採用真空蒸鍍法在該基體的表面蒸鍍一抗指紋層，該抗指紋層為錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛的混鍍層、或一聚甲醛層。
【專利說明】鍍膜件及其製作方法
【技術領域】
[0001]本發明是關於一種鍍膜件及其製作方法，尤其涉及一種具有抗指紋功能的鍍膜件及其製造方法。
【背景技術】
[0002]近年來，消費者對於3C產品的要求越來越高。除具有更多、更強的功能外，還對產品的外殼提出了更高的要求，如希望外殼可防腐蝕、防鏽、防塵、防水及具有抗指紋功能等。
[0003]為了實現抗指紋功能，現有的方法一般是將具有抗指紋性能的塗料或溶液塗覆於外殼的表面形成一抗指紋薄膜。但該抗指紋薄膜的硬度較低，易被刮傷，且該抗指紋薄膜的製備較繁瑣。
【發明內容】
[0004]鑑於此，本發明提供一種易於製備的具有抗指紋功能的鍍膜件。
[0005]另外，本發明還提供一種上述鍍膜件的製作方法。
[0006]一種鍍膜件，其包括一基體及一形成於基體表面的抗指紋層，該抗指紋層為錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛 的混鍍層、或一聚甲醛層。
[0007]—種所述的鍍膜件的製作方法，其包括如下步驟:
提供一基體；
採用真空蒸鍍法在該基體的表面蒸鍍一抗指紋層，該抗指紋層為錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛的混鍍層、或一聚甲醛層。
[0008]相較於現有技術，所述的鍍膜件通過在基體表面蒸鍍一錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛的混鍍層、或一聚甲醛層以實現抗指紋的功能，該方法簡單易行，且鍍膜件的硬度較高，不易被刮傷。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0009]圖1是本發明一較佳實施例鍍膜件的剖視圖；
圖2是本發明一較佳實施例真空蒸發鍍膜機的示意圖。
[0010]主要元件符號說明
【權利要求】
1.一種鍍膜件，其包括一基體及一形成於基體表面的抗指紋層，其特徵在於:該抗指紋層為錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛的混鍍層、或一聚甲醛層。
2.如權利要求1所述的鍍膜件，其特徵在於:所述基體的材質為鋁或不鏽鋼。
3.如權利要求1所述的鍍膜件，其特徵在於:所述抗指紋層的厚度為10-20um。
4.如權利要求1所述的鍍膜件，其特徵在於:該錫和聚甲醛的混鍍層中，錫的質量百分比為30-50%，聚甲醛的質量百分比為50-70%;該銦和聚甲醛的混鍍層中，銦的質量百分比為30-50%，聚甲醛的質量百分比為50-70% ;該錫和聚甲醛的混鍍層呈白色，該銦和聚甲醛的混鍍層呈灰白色；該聚甲醛層呈白色。
5.一種鍍膜件的製作方法，其包括如下步驟: 提供一基體； 採用真空蒸鍍法在該基體的表面蒸鍍一抗指紋層，該抗指紋層為錫和聚甲醛的混鍍層、銦和聚甲醛的混鍍層、或一聚甲醛層。
6.如權利要求5所述的鍍膜件的製作方法，其特徵在於:採用一真空蒸發鍍膜機對該基體進行真空蒸鍍處理，該真空蒸發鍍膜機包括一鍍膜室及設置於該鍍膜室中的一治具、一坩堝、及二電極。
7.如 權利要求6所述的鍍膜件的製作方法，其特徵在於:真空蒸鍍時，將質量為300-500g的聚甲醛顆粒放入該坩堝中，並於該二電極之間設置一金屬絲，其中該金屬絲的材質為銦或錫。
8.如權利要求7所述的鍍膜件的製作方法，其特徵在於:加熱該坩堝，且加熱速率為100-120°C /min,當該坩堝的溫度為400_410°C時，以0.5-0.8°C /min的加熱速率加熱該坩堝；與此同時，向該二電極中通入220V的電壓，加熱該金屬絲。
9.如權利要求5所述的鍍膜件的製作方法，其特徵在於:製作該抗指紋層的時間為15-25分鐘。
10.如權利要求5所述的鍍膜件的製作方法，其特徵在於:真空蒸鍍結束後，向該鍍膜室中通入流量為600-800sccm的液氮約5_6min ;再向該鍍膜室中通入流量為300-500sccm的液氮約9-10min。
【文檔編號】C23C14/06GK103895288SQ201210587822
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2012年12月29日 優先權日:2012年12月29日
【發明者】張春傑, 劉旭 申請人:深圳富泰宏精密工業有限公司