一種保護片、保護片的製作方法及電子設備與流程

2023-05-27 19:27:46 2

本發明涉及一種保護片、保護片製作方法及採用所述保護片的電子設備。

背景技術：
隨著電子設備如手機、平板電腦等智能化發展，相機功能已經是各種電子設備一項必不可少的附加功能，其使用量越來越大，用戶對相機功能和拍照效果的要求也越來越高。現有技術中，在電子設備的外殼對應攝像頭的位置會安裝一塊玻璃、塑膠或樹脂等材質的透明保護片形成保護窗，用於對攝像頭光學系統及晶片的前置保護。然而，所述透明保護片與攝像頭之間通常具有一定空氣間隙(空氣層)。因為空氣層的存在，光線通過保護片的內、外表面都會部分的光線被反射。反射光消弱了入射光的強度，使得光通量降低，入射光利用率下降。導致圖像清晰度下降，畫質暗沉，逆光拍攝時產生眩光。目前，為了減弱光反射的影響，一般會在保護片的內、外表面會鍍制減反射膜(AR膜)。基於防指紋的要求，還會在保護片的外表面加鍍防指紋膜(AF膜)。所述減反射膜及防指紋膜通常採用真空蒸鍍或濺射鍍法形成。真空蒸鍍工藝比較簡單，容易操作，成膜速度快，效率高。濺射法鍍制的薄膜附著力好，膜層結構緻密。但是，採用蒸鍍或者濺鍍的方法形成鍍膜存在著如下不足：首先，採用蒸鍍、濺鍍方法鍍制的薄膜成本高。這是因為：第一，蒸鍍、濺鍍方法的製造設備、維修費用以及膜材成本較高。第二，如果鍍膜出現不良，損失的不僅是膜材，基底玻璃也將報廢，從而增加了加工成本。其次，保護片需要雙面鍍膜，至少需要兩次鍍膜過程，生產效率低。進一步地，由於蒸鍍、濺鍍過程中不同方向的膜材沉積厚度不一致，導致同一鍍膜室內的不同位置放置的膜層組成不一致，使得同一批次的產品性能不一。

技術實現要素：
本發明實施例所要解決的技術問題在於，提供一種保護片、保護片的製作方法及電子設備，所述保護片的製作方法能夠降低保護片的製作成本，並且提升保護片的生產效率。第一方面，提供了一種保護片。保護片，用於保護電子設備的相機模組並透射光線，所述保護片包括基底、第一粘結層、第一透明膜及第一減反射層，所述第一粘結層粘結於所述基底與第一透明膜之間，所述第一減反射膜形成於第一透明膜遠離第一粘結層一側的表面，所述基底、第一粘結層、第一透明膜及第一減反射膜均採用透光材料製成，所述第一減反射膜用於減少光線透射所述保護片時產生反射光。在第一方面的第一種可能的實現方式中，所述第一減反射膜為單層膜，所述第一減反射膜為氟化鎂單層膜、多孔二氧化矽薄膜或者蛾眼膜。在第一方面的第二種可能的實現方式中，所述第一減反射膜由多層膜組成，所述第一減反射膜為二氧化矽膜與氮化矽膜組成的多層膜、二氧化矽膜與三氧化二鋁膜組成的多層膜、二氧化矽膜與五氧化二鈮膜組成的多層膜、二氧化矽膜與二氧化鈦膜組成的多層膜、二氧化鈰膜與三氧化二鋁膜組成的多層膜或二氧化鈰膜與二氧化矽膜組成的多層膜。在第一方面的第三種可能的實現方式中，所述第一減反射膜的材料為氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、五氧化二鉭、五氧化二鈮、氧化鈰、氧化鉻、氧化鉿、氧化鋁、一氧化矽、二氧化矽或氟化鎂。在第一方面的第四種可能的實現方式中，所述基底包括相對的內表面和外表面，所述第一粘結層、第一透明膜及第一減反射層形成於所述基底的內表面一側。結合第一方面的第四種可能的實現方式，在第五種可能的實現方式中，所述保護片還包括防指紋膜，所述防指紋膜形成於所述基底的外表面。結合第一方面的第四種可能的實現方式，在第六種可能的實現方式中，所述保護片還包括第二粘結層、第二透明膜及第二減反射膜，所述第二粘結層粘結於所述基底的外表面與第二透明膜之間，所述第二減反射膜形成於第二透明膜遠離第二粘結層一側的表面，所述第二粘結層、第二透明膜及第二減反射膜均採用透光材料製成。結合第一方面的第六種可能的實現方式，在第七種可能的實現方式中，所述保護片還包括防指紋膜，所述防指紋膜形成於所述第二減反射膜遠離第二透明膜的表面。在第一方面的第八種可能的實現方式中，所述第一透明膜採用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯或三醋酸纖維素製成，所述第一粘結層採用光學膠、壓敏膠或者矽膠製成。第二方面，提供一種保護片的製作方法。保護片的製作方法，用於製作所述保護片，包括步驟：提供透明膜及基底；採用溼法塗覆的方式在透明膜的一側表面形成減射反膜；裁切形成有減反射膜的透明膜，使得所述透明膜形狀與所述基底相對應；以及採用粘結層將裁切後的透明膜及減反射膜貼合於所述基底至少一側表面。在第二方面的第一種可能的實現方式中，所述第一減反射膜為多孔二氧化矽膜，形成所述第一減反射膜包括：配製二氧化矽溶膠-凝膠；將所述二氧化矽溶膠-凝膠塗布於所述透明膜的一側表面；以及將所述透明膜表面的二氧化矽溶膠-凝膠烘乾形成減射反膜。結合第二方面的第一種可能的實現方式，在第二種可能的實現方式中，將所述二氧化矽溶膠-凝膠塗布於所述透明膜表面採用甩膠法、浸鍍、噴霧塗層、流動塗鍍、自旋塗鍍、毛細管塗鍍或滾動/照相凹版塗鍍方法。在第二方面的第三種可能的實現方式中，所述減反射膜為具有蛾眼結構，形成所述減反射膜包括步驟：在透明膜的表面塗覆的光刻膠形成光刻膠層；採用壓印模板對光刻膠層進行壓印，從而在所述光刻膠層的表面一側形成蛾眼結構；以及固化形成有蛾眼結構的光刻膠層，形成減反射膜。在第二方面的第四種可能的實現方式中，所述減反射膜為多層膜，形成所述減反射膜包括依次在所述透明膜的表面形成多層膜，所述多層膜共同構成減反射膜。第三方面，提供一種電子設備。電子設備包括電子設備主體、殼體及以上各種保護片，所述設備主體設置於所述殼體內，所述設備主體包括相機模組，所述殼體與相機模組像側相對的位置形成有窗口，所述保護片設置於所述窗口內，所述保護片用於保護所述相機模組並透射光線。本發明提供的保護片及其製作方法，所述減反射膜通過溼法塗布的方式形成於透明膜的表面，然後再進行裁切和粘貼的方式將減反射膜貼合至基底表面形成保護片。由於減反射膜採用溼法塗布的方式形成，相對於蒸鍍及濺鍍，製造設備的成本、工藝要求均較低，可以降低保護片的生產成本。另外，由於減反射膜通過貼合的方式與基底連接，當減反射膜製作出現不良時，不會對基底產生影響。進一步的，由於減反射膜可以大面積製作後再進行裁切貼合，可以保證同批生產的多個產品的減反射膜厚度一致，膜系組成相同，性能穩定。附圖說明為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1是本發明第一技術方案的第一較佳實施方式提供的保護片的剖面示意圖；圖2是本發明第一技術方案的第二較佳實施方式提供的保護片的剖面示意圖；圖3是本發明第二技術方案的第一較佳實施方式提供的保護片的製作方法的流程圖；圖4是本發明第二技術方案的第二較佳實施方式提供的保護片的製作方法的流程圖；圖5是本發明第二技術方案的第三較佳實施方式提供的保護片的製作方法的流程圖；圖6是本發明第三技術方案提供的電子設備的示意圖。具體實施方式下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。請參閱圖1，為本發明第一技術方案的第一較佳實施方式提供的保護片100，所述保護片100可以用於保護電子設備內置的攝像頭。所述保護片100包括基底110、第一粘結層120、第一透明膜130、第一減反射膜140、第二粘結層150、第二透明膜160及第二減反射膜170。所述基底110為片狀，由透光性良好的材料製成，如玻璃或者塑料等。所述基底110具有相對的內表面111和外表面112。所述第一粘結層120、第一透明膜130及第一減反射膜140形成於所述內表面111一側。所述第二粘結層150、第二透明膜160及第三減反射膜170形成於所述外表面112一側。所述第一粘結層120用於將第一透明膜130和第一減發射膜140粘結於基底110。所述第一粘結層120形成於所述內表面111，其採用透光性良好的光學膠製成。所述第一粘結層120的材料為光學膠、壓敏膠或者矽膠等。所述第一透明膜130用於承載所述第一減反射膜140。所述第一透明膜130可以採用柔性的有機材料製成，具體可以為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三醋酸纖維素(TAC)或者COP(日本瑞翁，1420R)等。所述第一減發射膜140用於減少光線的反射。所述第一減反射膜140採用溼法塗覆的方式形成。所述第一減反射膜140的折射率應小於所述基底110的折射率，以起到減反射的作用。所述第一減反射膜140的材料可以為無機物，如氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、五氧化二鉭、五氧化二鈮、氧化鈰、氧化鉻、氧化鉿、氧化鋁、一氧化矽、二氧化矽、氟化鎂或金屬等，所述第一減反射膜140的材料也可以為有機物。所述第一減反射膜140可以為單層膜，如氟化鎂單層膜、多孔二氧化矽薄膜或者蛾眼膜等。所述第一減反射膜140也可以採用多層膜組成，如二氧化矽膜與氮化矽膜組成的多層膜、二氧化矽膜與三氧化二鋁膜組成的多層膜、二氧化矽膜與五氧化二鈮膜組成的多層膜、二氧化矽膜與二氧化鈦膜組成的多層膜、二氧化鈰膜與三氧化二鋁膜組成的多層膜或二氧化鈰膜與二氧化矽膜組成的多層膜等。所述第二粘結層150的材料和結構可以與第一粘結層120的材料及結構相同。所述第二透明膜160的材料和結構可以與第一透明膜130的材料及結構相同。所述第二減反射膜170的材料和結構可以與第一減反射膜140的材料及結構相同。所述第二粘結層150用於將第二透明膜160和第二減發射膜170粘結於基底110。所述第二粘結層150形成於所述外表面112，其採用透光性良好的光學膠製成。所述第二粘結層150的材料為光學膠、壓敏膠或者矽膠等。所述第二透明膜160用於承載所述第二減反射膜170。所述第二透明膜160可以採用柔性的有機材料製成，具體可以為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三醋酸纖維素(TAC)或者COP(日本瑞翁，1420R)等。所述第二減發射膜170用於減少光線的反射。所述第二減反射膜170採用溼法塗覆的方式形成。所述第二減反射膜170的折射率應小於所述基底110的折射率，以起到減反射的作用。所述第二減反射膜170的材料可以為無機物，如氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、五氧化二鉭、五氧化二鈮、氧化鈰、氧化鉻、氧化鉿、氧化鋁、一氧化矽、二氧化矽、氟化鎂或金屬等，所述第二減反射膜170的材料也可以為有機物。所述第二減反射膜170可以為單層膜，如氟化鎂單層膜、多孔二氧化矽薄膜或者蛾眼膜等。所述第二減反射膜170也可以採用多層膜組成，如二氧化矽膜與五氧化二鈮膜組成的多層膜、二氧化矽膜與二氧化鈦膜組成的多層膜、二氧化鈰膜與三氧化二鋁膜組成的多層膜或二氧化鈰膜與二氧化矽膜組成的多層膜等。可以理解的是，所述保護片100也可以僅在一側形成減反射膜。即，所述保護片100可以僅包括基底110、第一粘結層120、第一透明膜130及第一減反射膜140，而不包括第二粘結層150、第二透明膜160及第二減反射膜170。請參閱圖2，為本發明第一技術方案的第二較佳實施方式提供的保護片200。所述保護片200的結構與第一較佳實施方式提供的保護片100的結構相近，所述保護片200也包括基底210、第一粘結層220、第一透明膜230、第一減反射膜240、第二粘結層250、第二透明膜260及第二減反射膜270。不同之處在於，所述保護片200還包括防指紋膜280。所述防指紋膜280形成於所述基底210的外表面一側的第二減反射膜270的表面。所述防指紋膜280用於防止人觸碰所述保護片200後在保護片200表面留下指紋。可以理解的是，所述保護片200也可以僅在一側形成減反射膜。即，所述保護片200可以僅包括基底210、第一粘結層220、第一透明膜230及第一減反射膜240及防指紋膜280，所述防指紋膜280可以直接形成於所述基底210的外表面212。所述保護片200也可以僅包括基底210、第二粘結層250、第二透明膜260及第二減反射膜270及防指紋膜280。本發明第二技術方案提供一種保護片的製作方法。請參閱圖3，為本發明第二技術方案的第一較佳實施方式提供的保護片的製作方法。下面，以製作第一技術方案第一實施方式提供的保護片100為例來說明所述保護片的製作方法，具體包括：步驟S101，提供透明膜及基底110。步驟S102，採用溼法塗覆的方式在透明膜的一側表面形成減反射膜，所述減反射膜為單層膜。所述減反射膜可以採用溶膠-凝膠法形成。本實施方式中，以製作多孔二氧化矽反射膜為例來進行說明。首先，配製二氧化矽溶膠-凝膠。然後，將所述二氧化矽溶膠-凝膠塗布於所述透明膜的一側表面。將二氧化矽溶膠-凝膠塗布於所述透明膜具體可以採用甩膠法、浸鍍、噴霧塗層、流動塗鍍、自旋塗鍍、毛細管塗鍍、滾動/照相凹版塗鍍等方法。最後，將所述透明膜表面的二氧化矽溶膠-凝膠烘乾形成減反射膜。可以理解的是，為了提高生產效率，所述透明膜可以是捲軸狀的，在透明膜的一側表面形成減反射膜可以採用卷對卷的方式。所述減反射膜也可以採用氟化鎂製成。步驟S103，裁切形成有減反射膜的透明膜，使得所述透明膜的形狀與基底110相對應。步驟S104，採用粘結層將裁切後的透明膜及減反射膜貼合於所述基底110的表面，形成保護片100。貼合於基底110的內表面111的粘結層、透明膜及減反射膜對應成為第一粘結層120、第一透明膜130及第一減反射膜140。貼合於基底110的外表面112的粘結層、透明膜及減反射膜對應成為第二粘結層150、第二透明膜160及第二減反射膜170。可以理解的是，當僅需在基底110的一側形成減反射膜時，所述裁切後的透明膜及減反射膜可以僅貼合於基底110的內表面111或者外表面112。可以理解的是，當需要保護片100需要形成防指紋膜時，可以在步驟S102形成減反射膜之後，在減反射膜的表面通過塗布防指紋塗料的方式形成防指紋膜，之後再進行步驟S103。請參閱圖4，本發明第二技術方案第二較佳實施方式提供一種保護片的製作方法。下面，以製作第一技術方案第一實施方式提供的保護片100為例來說明所述保護片的製作方法，具體包括：步驟S201，提供透明膜及基底110。步驟S202，採用溼法塗覆的方式在透明膜的一側表面形成減反射膜，所述減反射膜具有蛾眼結構。所述減反射膜也可以為具有蛾眼結構的減反射膜。所述具有蛾眼結構的減反射膜可以採用如下方法形成：首先，在透明膜的表面塗覆的光刻膠形成光刻膠層。所述光刻膠可以為紫外敏感光刻膠。然後，採用壓印模板對光刻膠層進行壓印，從而在所述光刻膠層的表面一側形成蛾眼結構。所述壓印模板的壓印面具有與蛾眼結構對應的百納米級圓錐孔。最後，固化形成有蛾眼結構24的光刻膠層，形成減反射膜。本實施方式中，可以採用紫外光照射所述光刻膠層，使得光刻膠發生化學反應而固化。步驟S203，裁切形成有減反射膜的透明膜，使得透明膜的形狀與基底110的形狀相對應。步驟S204，採用粘結層將裁切後的透明膜及減反射膜貼合於所述基底110的表面，形成保護片100。貼合於基底110的內表面111的粘結層、透明膜及減反射膜對應成為第一粘結層120、第一透明膜130及第一減反射膜140。貼合於基底110的外表面112的粘結層、透明膜及減反射膜對應成為第二粘結層150、第二透明膜160及第二減反射膜170。可以理解的是，本實施方式中，當僅需在基底110的一側形成減反射膜時，所述裁切後的透明膜及減反射膜可以僅貼合於基底110的內表面111或者外表面112。當需要保護片100需要形成防指紋膜時，可以在步驟S202形成減反射膜之後，在減反射膜的表面通過塗布防指紋塗料的方式形成防指紋膜，之後再進行步驟S203。請參閱圖5，本發明第二技術方案第三較佳實施方式提供一種保護片的製作方法。下面，以製作第一技術方案第一實施方式提供的保護片100為例來說明所述保護片的製作方法，具體包括：步驟S301，提供透明膜及基底110。步驟S302，採用溼法塗覆的方式在透明膜的一側表面形成減射反膜20，所述減反射膜為多層膜。所述減反射膜可以採用如下方法形成：首先，在透明膜的表面形成第一膜層。所述第一膜層可以採用溶膠-凝膠法形成。以製作第一膜層為二氧化矽為例來進行說明。先配製二氧化矽溶膠-凝膠。再將所述二氧化矽溶膠-凝膠塗布於所述透明膜的一側表面。將二氧化矽溶膠-凝膠塗布於所述透明膜具體可以採用甩膠法、浸鍍、噴霧塗層、流動塗鍍、自旋塗鍍、毛細管塗鍍、滾動/照相凹版塗鍍等方法。後將所述透明膜表面的二氧化矽溶膠-凝膠烘乾形成減射反膜的第一膜層。然後，在第一膜層表面形成第二膜層。所述第二膜層的材料可以為二氧化鈦或者五氧化二鈮等。所述第二膜層的形成方法可以與第一膜層的形成方法相同。接著，按照相同的方法，繼續在第二膜層表面形成第三膜層、第四膜層等，依次形成多層膜。所述多層膜構成減反射膜。本實施例中，所述多層膜為二氧化矽膜層與二氧化鈦膜層交替層疊的多層膜。所述多層膜也可以為二氧化鈰膜與三氧化二鋁膜組成的多層膜或二氧化鈰膜與二氧化矽膜組成的多層膜等。步驟S303，裁切形成有減反射膜的透明膜，使得透明膜的形狀與基底110形狀相對應。步驟S304，採用粘結層將裁切後的透明膜及減反射膜貼合於所述基底110的內表面111和外表面112，形成保護片100。貼合於基底110的內表面111的粘結層、透明膜及減反射膜對應成為第一粘結層120、第一透明膜130及第一減反射膜140。貼合於基底110的外表面112的粘結層、透明膜及減反射膜對應成為第二粘結層150、第二透明膜160及第二減反射膜170。可以理解的是，本實施方式中，當僅需在基底110的一側形成減反射膜時，所述裁切後的透明膜及減反射膜可以僅貼合於基底110的內表面111或者外表面112。當需要保護片100需要形成防指紋膜時，可以在步驟S302形成減反射膜之後，在減反射膜的表面通過塗布防指紋塗料的方式形成防指紋膜，之後再進行步驟S303。本技術方案提供的保護片的製作方法，所述減反射膜通過溼法塗布的方式形成於透明膜的表面，然後再進行裁切和粘貼的方式將減反射膜貼合至基底表面形成保護片。由於減反射膜採用溼法塗布的方式形成，相對於蒸鍍及濺鍍，製造設備的成本、工藝要求均較低，可以降低保護片的生產成本。另外，由於減反射膜通過貼合的方式與基底連接，當減反射膜製作出現不良時，不會對基底產生影響。進一步的，由於減反射膜可以大面積製作後再進行裁切貼合，可以保證同批生產的多個產品的減反射膜厚度一致，膜系組成相同，性能穩定。請參閱圖6，本發明第三技術方案一個較佳實施方式提供的一種電子設備40，所述電子設備40包括殼體41、電子設備主體(圖未示)及保護片100。所述電子設備可以為手機、相機及平板電腦等具有相機功能的電子設備。所述電子設備主體收容於所述殼體41內。所述電子設備主體包括相機模組。所述殼體41與所述相機模組相對的位置形成有窗口411。所述保護片100安裝於所述窗口411，用於透射光線並保護所述相機模組。最後應說明的是：以上實施例僅用以說明本發明的技術方案，而非對其限制；儘管參照前述實施例對本發明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解：本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應以權利要求的保護範圍為準。