一種偏振光學調製器的製作方法

2023-06-20 20:13:36 1

專利名稱：一種偏振光學調製器的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及光學和雷射領域，尤其涉及一種偏振光學調製器。
背景技術：
通常經Walk-off晶體出射的O光與e光並沒有嚴格相互平行，有時o光與e光的夾角會達到0.016° -0.019°，這對一些對O光與e光平行度要求較高的場合無疑是不適用的。如圖I所示，經過Walk-off晶體而出射的O光與e光的夾角A 0為0.016° -0.019°。在此說明的是，o光與e光的夾角A 9為o光與e光出射方向的夾角。
發明內容·[0004]為解決上述現有技術經過Walk-off晶體而出射的O光與e光的存在一定夾角，而非平行導致光學設計質量降低的技術問題，本實用新型採用如下技術方案一種偏振光學調製器，其包括Walk-off晶體和楔角片，所述Walk-off晶體和楔角片相鄰設置，所述楔角片設置在Walk-off晶體的光線出射面。進一步地，所述楔角片設置在e光的出射光路方向。進一步地，所述楔角片設置在O光的出射光路方向。本實用新型的有益效果在於本實用新型通過在Walk-off晶體的光線出射面設置楔角片，對出射出的偏振光進行補償，從而獲得平行度很高的O光和e光，提高了光學設計的質量，精密性進一步提升。

圖I為現有技術一種偏振光學調製器的光路示意圖；圖2為本實用新型一種偏振光調製器第一實施例示意圖；圖3為本實用新型一種偏振光調製器第二實施例示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖詳細說明本實用新型的優選實施例。請參閱圖2，其是本實用新型一種偏振光調製器第一實施例示意圖本實用新型提供一種偏振光學調製器，其包括Walk-off晶體20和楔角片30。其中，Walk-off晶體20和楔角片30相鄰設置。楔角片30設置在Walk-off晶體20的光線出射面，且，楔角片30設置在e光的出射光路方向。通過在e光的出射光路設置一楔角片30對e光進行補償，從而獲得平行度很高的O光和e光。請參閱圖3，其是本實用新型一種偏振光調製器第二實施例示意圖相較於第一實施例，其區別點在於在第二實施例中，楔角片30設置在O光的出射光路方向。[0017]通過在o光的出射光路設置一楔角片30對O光進行補償，從而獲得平行度很高的O光和e光。相較於現有技術，本實用新型通過在Walk-off晶體20的光線出射面設置楔角片30，對出射出的O光或者e光進行補償，從而獲得平行度很高的O光和e光，提高了光學設計的質量，精密性進一步提升。這裡本實用新型的描述和應用是說明性的，並非想將本實用新型的範圍限制在上述實施例中。這裡所披露的實施例的變形和改變是可能的，對於那些本領域的普通技術人員來說實施例的替換和等效的各種部件是公知的。本領域技術人員應該清楚的是，在不脫離本實用新型的精神或本質特徵的情況下，本實用新型可以以其它形式、結構、布置、比例， 以及用其它組件、材料和部件來實現。在不脫離本實用新型範圍和精神的情況下，可以對這裡所披露的實施例進行其它變形和改變。
權利要求1.一種偏振光學調製器，其特徵在於，包括Walk_off晶體和楔角片,所述Walk-off晶體和楔角片相鄰設置，所述楔角片設置在Walk-off晶體的光線出射面。
2.根據權利要求I所述的一種偏振光學調製器，其特徵在於，所述楔角片設置在e光的出射光路方向。
3.根據權利要求I所述的一種偏振光學調製器，其特徵在於，所述楔角片設置在0光的出射光路方向。
專利摘要本實用新型公開了一種偏振光學調製器，其包括Walk-off晶體和楔角片，所述Walk-off晶體和楔角片相鄰設置，所述楔角片設置在Walk-off晶體的光線出射面。本實用新型通過在Walk-off晶體的光線出射面設置楔角片，對出射出的偏振光進行補償，從而獲得平行度很高的出射光學，提高了光學設計的質量，進一步提升了光學器件精密性。
文檔編號G02B5/30GK202512302SQ201220194908
公開日2012年10月31日 申請日期2012年5月3日 優先權日2012年5月3日
發明者盧秀愛, 吳礪, 陳衛民, 陳燕平 申請人:福州高意光學有限公司