一種金色膜的製作方法
2023-06-20 15:53:06 1
本實用新型涉及鍍膜領域，具體涉及一種金色膜，所述金色膜耐高溫高溼性能好，所述金色膜主要應用於手機、平板電腦、智能手錶等的蓋板和背蓋領域。
背景技術：
蓋板玻璃是觸控螢幕的保護層，在消費用電子設備、汽車中控屏、工業控制等方面有著廣泛的應用。蓋板玻璃市場空間大，有較大的增長潛力。2015年全球蓋板玻璃出貨面積為3300萬平方米，同比增長13％，市場規模為101.7億美元。隨著市場需求的多元化，蓋板玻璃不僅起到保護觸控螢幕的作用，其美化裝飾的功能也日益凸顯。近幾年智慧型手機市場迅速增長，手機蓋板玻璃的需求量也在迅速增加。各大手機品牌廠商在加大技術創新的同時，外觀上也在尋求突破。自蘋果iphone5金色款智慧型手機受到消費者的青睞以來，其他手機廠商也相繼推出金色款智慧型手機。目前已有的金色膜大多結構疏鬆，易造成劃傷等不良。且該金色膜在高溫高溼條件下會存在變色問題。因此，本領域需要提供一種新的金色膜。
技術實現要素：
本實用新型針對目前蓋板玻璃上鍍制的金色膜在高溫高溼條件下容易變色問題，提出一種新的金色膜。該金色膜具有很強的金屬光澤度；產品具體顏色易調節，能根據用戶要求製備不同色彩和視覺效果的金色膜；產品中膜層結構緻密，能有效減少薄膜表面的劃傷，提高生產良率。
因此，本實用新型提供一種金色膜，所述金色膜包括用蒸發鍍膜法設置在透明基底上的金屬層和先後設置在金屬層兩側的第一鈦氧化物層和第二鈦氧化物層，其中第一鈦氧化物層更靠近透明基底，所述金色膜還包括設置在第一鈦氧化物層和/或第二鈦氧化物層另一側的氧化矽層，所述金屬層中鍍設的金屬為選自銦、錫、鉻、銅和鈦中的一種或多種，所述金屬層的厚度為10～90nm，所述第一鈦氧化物層的厚度為0.5～50nm，第二鈦氧化物層的厚度為5～50nm，所述氧化矽層的厚度為1～100nm。
本實用新型中，所述金屬層中的金屬選自銦、錫、鉻、銅和鈦。所述金屬層中的金屬可以是單一金屬，也可以是兩種以上金屬同時混合鍍設，還可以是先後鍍設多種不同的金屬。
在一種具體的實施方式中，所述金屬層的厚度為40～80nm，所述第一鈦氧化物層的厚度為20～40nm，第二鈦氧化物層的厚度為10～35nm，所述氧化矽層的厚度為10～30nm。
在一種具體的實施方式中，所述鈦氧化物為二氧化鈦和/或五氧化三鈦，所述透明基底為玻璃或PET。
在一種具體的實施方式中，所述金屬膜上最遠離透明基底的鍍膜層的外側還設置有油墨層6。
在一種具體的實施方式中，所述第一鈦氧化物層和透明基底間設置有氧化矽層，使得所述金色膜包括依次設置在透明基底1上的氧化矽層5、第一鈦氧化物層3、金屬層2和第二鈦氧化物層4。
在一種具體的實施方式中，所述金屬層中鍍設的金屬為銦。
本實用新型提供的金色膜在高溫高溼條件下，其變色問題得到很大的改善，滿足了用戶越來越嚴格的要求。
附圖說明
圖1為本實用新型製備的含金屬膜的基底結構示意圖。
具體實施方式
為了更好的理解上述技術方案，下面將結合說明書附圖以及具體實施方式對上述技術方案進行詳細說明。
其中，金色膜的變色情況檢測如下：絲印完黑色油墨的樣品用分光光度計測量其L*，a*，b*值。L*是明度，所謂明度就是色彩的明暗、深淺程度，規定範圍為0～100，0為最暗，100為最亮。a*是由綠到紅得色彩變化，範圍-128～128，純綠為-128，純紅為正128。b*是由藍到黃得色彩變化，範圍-128～128，純藍為-128，純黃為正128。為驗證樣品高溫高溼變色情況，絲印完黑色油墨的樣品需在高溫高溼箱中靜置72小時，高溫高溼箱中的溫度為85度，溼度為85％。在高溫高溼箱中靜置72小時後的樣品，用分光光度計測量L*，a*，b*值，根據樣品高溫高溼實驗前後的L*，a*，b*值變化計算出ΔE(具體計算由儀器設備自動完成)，ΔE值越大說明變色越嚴重。
本實用新型所述製備方法中，除了在鍍設金屬層時使用氬氣和鍍設金屬層之後使用氧氣轟擊處理，在蒸發鍍膜的其它步驟中不需要使用任何氣體。所述氧化矽層和氧化鈦層均是通過蒸發氧化矽和氧化鈦原材料而將其鍍設在透明基底上的，所述原材料均是在鍍膜前就已經置於鍍膜機內。本實用新型中，在鍍設金屬層時，加氬離子輔助沉積，離子源所使用的氬氣的加入並不會對膜系的化學組成產生影響。本實用新型中，因使用的蒸發鍍膜設備的能量沒有磁控濺射鍍膜設備的能量高，因而在金屬層之後使用氧氣形成氧離子對金屬層進行轟擊時並不會形成相應的金屬氧化物膜層結構，也即蒸發度鍍膜法離子源所使用的氧氣的加入也不會對膜系的化學組成產生影響。本實用新型中，sccm是一個體積流量單位，即標況毫升每分。
如圖1所示，本實用新型的目的是製備一種耐高溫高溼金色膜，所述含金色膜的玻璃片依次包括透明基底1、二氧化矽層5、第一鈦氧化物層3、金屬層2、第二鈦氧化物層4和油墨層6。
具體地，使用的鍍膜機為光弛2350型蒸發鍍膜機。將4片清洗乾淨的玻璃置於鍍膜機傘具上，關門抽氣至5.0×10-3pa，鍍膜前用離子源對玻璃基底進行離子清洗，清洗時間為1～20分鐘，例如為5分鐘。離子清洗結束後，按照基底/SiO2/TiO2/In/TiO2膜系開始鍍膜，膜系厚度為15nm/30nm/60nm/30nm，鍍膜時氧化矽的鍍膜速度為6A/s，氧化鈦的鍍膜速度為2A/s，金屬層的鍍膜速度為4A/s，在鍍銦層過程中加氬離子輔助沉積，氬氣流量為50sccm，鍍完銦層後加氧離子轟擊銦層10分鐘，通入的氧氣流量為50sccm。鍍膜結束後，真空室放氣，取出鍍好膜的4片玻璃，在其鍍膜面絲印黑色油墨，80℃下烘烤15分鐘。烘烤後樣品標記為S1，S2，S3和S4，最後製備的金色膜結構如圖1所示。將製備的金色膜置於高溫高溼箱中靜置72小時，高溫高溼箱的溫度為85℃，溼度為85％RH。高溫高溼試驗前後的金色膜的L*，a*，b*值如表1所示。
表1
表1為高溫高溼試驗前後樣品L*、a*、b*值以及ΔE值的結果。從表1看出，ΔE值在1～1.5之間，遠小於同等測試條件下普通金色膜的實驗前後ΔE值(一般大於4)，說明本實用新型提供的金色膜的高溫高溼變色現象有了非常大的改善。
本實用新型通過設置一定順序的膜層、一定厚度範圍的膜層，以及結合使用一定的鍍膜工藝得到了一種高溫高溼條件下變色不明顯的金屬膜。
以上所述僅為本實用新型的優選實施例而已，並不用於限制本實用新型，對於本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。