位移限制框架裝置的製作方法
2023-06-20 06:01:56 1
專利名稱：位移限制框架裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種位移限制框架裝置，特別是涉及一種使用聚醚醚酮(PolyEtherEtherKetone，PEEK)做為材料的位移限制框架裝置，供作為材料研磨時位移限制框架之用。
背景技術：
隨著液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)在計算機、電視、以及行動電話等各種電子產品上應用的普及，使得液晶顯示器重要組成元件之一的玻璃基板的需求量大增。其中又以製造彩色濾光片時所使用的玻璃基板數量最為龐大。
目前，彩色濾光片製造廠大多已將玻璃基板的研磨製作工藝加入該產線的製作工藝當中。研磨製作工藝的主要目的為改善玻璃基板的表面粗糙度及降低Tsuno Height。在研磨製作工藝中經常會使用的位移限制框架裝置，其主要功能是限制玻璃基板的位移，使玻璃基板不會在研磨時因下定盤轉動而偏移。然而位移限制框架裝置本身的設計、製造、貼附位移限制框架的手法及材質都會影響到玻璃基板的破片發生情況。
如圖1a的平面圖及圖1b的立體圖所示的現有技術，位移限制框架裝置多為ㄇ字形或L字形，圖1a為一體成型，圖1b為ㄇ字型。除了加工不良導致的尺寸精度不佳外，另有存放面積需求較寬以及進行貼附位移限制框架時對位不佳等問題。此外，由於貼附位移限制框架時的誤差產生，玻璃基板卡著位移限制框架裝置的情形因而增多，使玻璃基板的破片發生情況增加。此外，傳統位移限制框架裝置的材料為特多龍環氧樹脂(TetronEpoxy)。此種材料易因與研磨液接觸、材料使用時間、以及與玻璃基板的碰撞等因素造成損耗，進而使玻璃基板的破片發生情況增加。以上所述位移限制框架裝置的設計及材質皆有改進的空間。
發明內容
本發明的主要目的在於提供一種位移限制框架裝置，供與旋轉機臺配合使用，以減少被位移限制物的破損。
本發明的另一目的在於提供一種位移限制框架裝置，供與旋轉機臺配合使用，具有長時間使用而不發生偏移現象的特性。
本發明的另一目的在於提供一種位移限制框架裝置，供與旋轉機臺配合使用，具有較方便的使用性。
本發明的另一目的在於提供一種位移限制框架裝置，供與旋轉機臺配合使用，以減少操作位移限制框架程序的時間，以增加產能。
本發明的另一目的在於提供一種使用聚醚醚酮做為材料的位移限制框架裝置，供與旋轉機臺配合使用，具有較佳耐用性。
本發明的另一目的在於提供一種使用聚醚醚酮做為材料的位移限制框架裝置，供與旋轉機臺配合使用，具有較佳的硬度，以減少受位移限制物卡住於本發明的位移限制框架裝置的機率。
本發明的位移限制框架裝置包括多個本體，每一本體包括主嵌合部及副嵌合部，其中主嵌合部及副嵌合部相對設置於本體的相對端部；其中，每一本體的主嵌合部與相鄰本體的副嵌合部可分離地嵌合，且本體的副嵌合部與另一相鄰本體的主嵌合部可分離地嵌合。多個本體共同於其間形成封閉位移限制邊界。
每一該本體具有直線內側邊，該多個直線內側邊共同形成該封閉位移限制邊界。每一本體的該直線內側邊與相對本體的該直線內側邊平行，且每一本體的該直線內側邊與相鄰本體的該直線內側邊垂直。
本體具有定位裝置，供可分離地定位於旋轉機臺上。定位裝置包括定位孔或定位銷。位移限制框架裝置進一步包括底座，其中，底座包括底座定位部。
本體進一步包括定位裝置，其中定位裝置與底座定位部可分離地嵌合。直線內側邊具有夾具槽。封閉位移限制區域於二相鄰直線內側邊交界位置具有凹槽。本體是由聚醚醚酮所製成。
圖1a為現有技術示意圖；圖1b為現有技術立體拆解示意圖；圖2a為本發明較佳實施例單一個本體立體示意圖；圖2b為本發明較佳實施例示意圖；圖2c為本發明較佳實施例立體拆解示意圖；圖3a及3b為本發明具有不同嵌合部的其它實施例示意圖；圖4a為本發明進一步包括定位孔定位裝置的較佳實施例示意圖；圖4b為本發明進一步包括定位銷定位裝置的其它實施例示意圖；圖4c為本發明進一步包括第二定位裝置的較佳實施例示意圖；圖4d及圖4e為本發明具有不同構造定位裝置的其它實施例示意圖；圖5為本發明進一步包括底座的較佳實施例示意圖；圖6a為本發明進一步包括夾具槽的較佳實施例示意圖；圖6b為本發明進一步包括夾具槽的較佳實施例立體示意圖；圖6c為本發明具有不同數量夾具槽的其它實施例示意圖；圖6d為本發明具有不同構造夾具槽的其它實施例示意圖；圖7a為本發明進一步包括凹槽的較佳實施例示意圖；圖7b為本發明進一步包括凹槽的較佳實施例立體示意圖；圖7c為本發明具有不同構造凹槽的其它實施例示意圖。
主要元件符號說明100 第一本體111 第一嵌合部112 第二嵌合部113 第一接觸面114 第四接觸面115 第二接觸面116 第五接觸面117 第三接觸面118 第六接觸面120 第一定位裝置160 第一直線內側邊200 第二本體
211 第四嵌合部212 第三嵌合部220 第二定位裝置260 第二直線內側邊300 第三本體311 第六嵌合部312 第五嵌合部360 第三直線內側邊400 第四本體411 第七嵌合部412 第八嵌合部460 第四直線內側邊500 底座510 底座定位部600 封閉位移限制邊界700 夾具槽800 凹槽具體實施方式
本發明提供一種位移限制框架裝置，供與一旋轉機臺配合使用。以較佳實施例而言，位移限制框架裝置提供限制玻璃研磨時的位移之用。然而在不同實施例中，位移限制框架裝置也可提供限制其它材質對象研磨時的位移之用。
在較佳實施例中，本體組成位移限制裝置，並定位於旋轉機臺上。受研磨的玻璃則置於位移限制裝置所圍成的封閉位移限制邊界之內。
圖2為本發明的位移限制框架裝置的單一個本體的實施例示意圖。在此實施例中，本發明的本體300為直柱狀，具有較佳的收納性。本發明的本體300的側邊360為真直，能減少組成的位移限制裝置的誤差。
本體300包括主嵌合部311及副嵌合部312。其中，主嵌合部311及副嵌合部312相對設置於本體300的相對端部。每一本體300的主嵌合部311與相鄰本體300的副嵌合部312可分離地嵌合，且本體300的副嵌合312部與另一相鄰本體300的主嵌合部311可分離地嵌合。
本發明的位移限制框架裝置包括多個本體。該多個本體共同於其間形成封閉位移限制邊界。在較佳實施例中，本發明的位移限制框架裝置包括四個本體。然而在不同實施例中，為配合不同的研磨對象外型，也可採用不同數量的本體以圍成不同形狀的封閉位移限制邊界。
在如圖2b所示的較佳實施例中，上述多個本體包括有第一本體100、第二本體200、第三本體300及第四本體400。
第一本體100包括第一嵌合部111以及第二嵌合部112，第一嵌合部111及第二嵌合部112相對設置於第一本體100的相對端部。第二本體200包括第三嵌合部212以及第四嵌合部211，第三嵌合部212及第四嵌合部211相對設置於第二本體200的相對端部。
第三本體300包括第五嵌合部312以及第六嵌合部311，第五嵌合部312以及第六嵌合部311相對設置於第三本體300的相對端部，第五嵌合部312與第一嵌合部111可分離地嵌合，第六嵌合部311與第三嵌合部212可分離地嵌合。
第四本體400包括第七嵌合部411以及第八嵌合部412，第七嵌合部411以及第八嵌合部412相對設置於第四本體400的相對端部，第七嵌合部411與第二嵌合部112可分離地嵌合，第八嵌合部412與第四嵌合部211可分離地嵌合。
在如圖2b所示的較佳實施例中，第一本體100、第二本體200、第三本體300、及第四本體400共同於其間形成封閉位移限制邊界600。
第一本體100具有第一直線內側邊160，第二本體200具有第二直線內側邊260，第三本體300具有第三直線內側邊360，第四本體400具有第四直線內側邊460。第一直線內側邊160、第二直線內側邊260、第三直線內側邊360、及第四直線內側邊460共同形成封閉限制邊界600。
在如圖2b所示的較佳實施例中，第一直線內側邊160與第二直線內側邊260平行，第三直線內側邊360與第四直線內側邊460平行，且第三直線內側邊360及第四直線內側邊460與第一直線內側邊160及第二直線內側邊260垂直。
圖2c為圖2b所示實施例的立體拆解圖。其中，各嵌合部的構造可依需求加以調整。在如圖2c所示的較佳實施例中，同一本體的二嵌合部分別位於前端側邊及後端端部，在如圖3a所示的較佳實施例中，同一本體的二嵌合部分別位於前端及後端的相同位置。
一嵌合部以多個接觸面與另一嵌合部接觸嵌合。在如圖2b所示的較佳實施例中，以第一本體100為例，第一嵌合部111以第一接觸面113、第二接觸面115、以及第三接觸面117與第五嵌合部312接觸嵌合。第二嵌合部112以第四接觸面114、第五接觸面116、以及第六接觸面118與第七嵌合部411接觸嵌合。
在如圖2b所示的較佳實施例中，各接觸面互相垂直。然而在如圖3b所示的另一實施例中，各接觸面之間具有特定角度，以形成凸出楔型構造，具有較不易脫出的特性。
第一本體100具有一第一定位裝置120，供可分離地定位於旋轉機臺(未繪示)上。在如圖4a所示的較佳實施例中，定位裝置120包括定位孔，以配合旋轉機臺上的定位銷。然而在如圖4b所示的實施例中，定位裝置120則包括定位銷，以配合旋轉機臺上的定位孔。
第一定位裝置120供與第一本體100定位於旋轉機臺上，進而使位移限制框架裝置定位於旋轉機臺上。同理，位移限制框架裝置的第二本體200、第三本體300、或第四本體400也可具有相同或類似的定位裝置，以加強定位效果。在如圖4c所示的較佳實施例中，第二本體200進一步具有第二定位裝置220。
在較佳實施例中，第一定位裝置120及第二定位裝置220均為穿透本體的圓形孔洞。然而在不同實施例中，第一定位裝置120及第二定位裝置220的數量與構造可依需求而有不同。如圖4d所示的實施例，第一定位裝置120及第二定位裝置220分為未穿透本體的二個圓形凹槽。如圖4e所示的實施例，定位裝置120及第二定位裝置220則分別為穿透本體的矩形孔洞。
如圖5所示的較佳實施例，本發明的位移限制框架裝置進一步包括底座500，其中，底座500包括底座定位部510。如圖5所示，第一定位裝置120及第二定位裝置220與底座定位部510可分離地嵌合。
在如圖6a所示的較佳實施例中，第一直線內側邊160、第二直線內側邊260、第三直線內側邊360、及第四直線內側邊460進一步分別具有夾具槽700，圖6b為圖6a所示較佳實施例的立體圖。
夾具槽700供夾爪(未繪示)伸入，以將被位移限制物(未繪示)自本發明的位移限制框架裝置取出之用。因此，夾具槽700的構造、位置、數量，都可對應夾爪的設計及實際需求而有不同。在如圖6a所示的較佳實施例中，各直線內側邊的夾具槽700各為多個矩形溝槽，在如圖6c所示的實施例中，各直線內側邊的夾具槽700各為單一個矩形溝槽，在如圖6d所示的實施例中，各直線內側邊的夾具槽700各為單一個半圓形溝槽。
如圖7a所示的較佳實施例中，本發明的位移限制框架裝置的位移限定邊界600於第一直線內側邊160與第三直線內側邊360交界位置、第三直線內側邊360與第二直線260交界位置、第二直線內側邊260與第四直線內側邊460交界位置、以及第四直線內側邊460與第一直線內側邊160交界位置進一步分別具有凹槽800。
圖7b為圖7a所示較佳實施例的立體圖。其中，凹槽800供以防止本發明的位移限制框架裝置於分離受位移限制物時卡住受位移限制物而造成破片。因此，凹槽之構造可因實際需求而有不同，在如圖7a所示的較佳實施例中，各凹槽各為一個矩形溝槽，在如圖7c所示的另一實施例中，各凹槽各為一個圓弧形溝槽。
在較佳實施例中，本發明的位移限制裝置是以聚醚醚酮(PolyEtherEtherKetone，PEEK)做為材料。可減少因與研磨液接觸、材料使用時間、以及與玻璃基板的碰撞等因素造成的損耗，進而減少玻璃基板的破片發生情況。
本發明結合上述相關實施例加以描述，然而上述實施例僅為實施本發明的範例。必需指出的是，已揭露的實施例並未限制本發明的範圍。相反地，包括於所要求保護的精神及範圍的修改及均等設置均包括於本發明的範圍內。
權利要求
1.一種位移限制框架裝置，供與一旋轉機臺配合使用，該位移限制框架裝置包括一第一本體，包括一第一嵌合部及一第二嵌合部，其中該第一嵌合部及該第二嵌合部相對設置於該第一本體的相對端部；一第二本體，設置於該第一本體的對側，該第二本體包括一第三嵌合部及一第四嵌合部，其中該第三嵌合部及該第四嵌合部相對設置於該第二本體的相對端部；一第三本體，包括一第五嵌合部及一第六嵌合部，其中該第五嵌合部及該第六嵌合部相對設置於該第三本體的相對端部，其中該第五嵌合部與該第一嵌合部可分離地嵌合，該第六嵌合部與該第三嵌合部可分離地嵌合；以及一第四本體，包括一第七嵌合部及一第八嵌合部，其中該第七嵌合部及該第八嵌合部相對設置於該第四本體的相對端部，其中該第七嵌合部與該第二嵌合部可分離地嵌合，該第八嵌合部則與該第四嵌合部可分離地嵌合；其中，該第一本體、該第二本體、該第三本體及該第四本體共同於其間形成一封閉位移限制邊界。
2.如權利要求1所述的位移限制框架裝置，其中該第一本體具有一第一直線內側邊，該第二本體具有一第二直線內側邊，該第三本體具有一第三直線內側邊，該第四本體具有一第四直線內側邊，其中該第一直線內側邊、該第二直線內側邊、該第三直線內側邊及該第四直線內側邊共同形成該封閉位移限制邊界。
3.如權利要求2所述的位移限制框架裝置，其中該第一直線內側邊與該第二直線內側邊平行，該第三直線內側邊與該第四直線內側邊平行，且該第三直線內側邊及該第四直線內側邊與該第一直線內側邊及該第二直線內側邊垂直。
4.如權利要求1所述的位移限制框架裝置，其中該第一本體具有一定位裝置，供可分離地定位於該旋轉機臺上。
5.如權利要求4所述的位移限制框架裝置，其中該定位裝置包括一定位孔或一定位銷。
6.如權利要求1所述的位移限制框架裝置，該位移限制框架裝置進一步包括一底座，其中該底座包括一底座定位部。
7.如權利要求6所述的位移限制框架裝置，該第一本體進一步包括一定位裝置，其中該定位裝置與該底座定位部可分離地嵌合。
8.如權利要求2所述的位移限制框架裝置，其中該第一直線內側邊、該第二直線內側邊、該第三直線內側邊及該第四直線內側邊進一步分別具有一夾具槽。
9.如權利要求2所述的位移限制框架裝置，其中該封閉位移限制邊界於該第一直線內側邊與該第三直線內側邊交界位置、該第三直線內側邊與該第二直線內側邊交界位置、該第二直線內側邊與該第四直線內側邊交界位置、以及該第四直線內側邊與該第一直線內側邊交界位置進一步分別具有一凹槽。
10.如權利要求1所述的位移限制框架裝置，其中該第一本體、該第二本體、該第三本體及該第四本體分別由聚醚醚酮所製成。
全文摘要
本發明公開一種位移限制框架裝置，供與一旋轉機臺配合使用。位移限制框架裝置主要包括多個本體。每一本體包括一主嵌合部及一副嵌合部，其中主嵌合部及副嵌合部相對設置於本體的相對端部。每一本體的主嵌合部與相鄰本體的副嵌合部可分離地嵌合，且同一本體的副嵌合部與另一相鄰本體的主嵌合部可分離地嵌合。該多個本體共同於其間形成一封閉位移限制邊界。
文檔編號B24B9/06GK1830625SQ20061007543
公開日2006年9月13日 申請日期2006年4月14日 優先權日2006年4月14日
發明者周安正, 黃琇澤, 魏仲立, 黃世名, 韓嘉銘 申請人:友達光電股份有限公司