波前修正設備、光刻設備以及方法

2023-06-08 03:25:06

專利名稱：：波前修正設備、光刻設備以及方法
技術領域：
：本發明涉及光刻設備以及用於製造器件的方法，以及涉及波前修正設備。
背景技術：
：光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底的目標部分上的機器。光刻設備可用於例如集成電路(IC)的製造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用於生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案，並且可以將該圖案成像到具有一層輻射敏感材料(抗蝕劑)的襯底(例如，娃晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通常，單一襯底將包括相鄰目標部分的網絡，所述相鄰目標部分被連續地曝光。公知的光刻設備包括所謂的步進機，在步進機中，通過將全部圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；和所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(「掃描」方向)掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。期望將圖案從圖案形成裝置以高精確度投影到襯底上。投影到襯底上的圖案的精確度部分依賴於用於投影圖案的輻射的光學波前。光學波前離開其理想形狀的偏離可以通過一個或多個波前像差表徵。波前像差可以對通過光刻設備投影圖案的精確度具有顯著的影響。在光刻設備中存在多種波前像差的源，包括例如不理想的光學元件(例如透鏡)構成、光學元件性能隨時間的偏移以及光學元件升溫。因為波前像差通常存在於光刻設備中，因此期望能夠以受控的方式減小一個或多個波前像差，由此允許提高光刻設備投影圖案的精確度。
發明內容期望提供例如新的波前修正設備，其克服或消除這裡指出的或其他地方指出的現有技術的問題。根據本發明一方面，提供一種波前修正設備，包括多個聲波發射器，多個聲波發射器配置成發射至少部分地行進跨過輻射束管道的聲波。多個聲波發射器可以配置成以建立駐聲波，所述駐聲波至少部分地延伸跨過輻射束管道的駐聲波。多個聲波發射器成對地設置,每一對的聲波發射器彼此面對。代替或附加面朝另一聲波發射器，聲波發射器可以面朝反射器。一對聲波發射器中的第一聲波發射器配置成發射頻率與一對聲波發射器中的第二聲波發射器發射的聲波基本上相同的聲波。第一和第二聲波發射器可以發射具有不同頻率的聲波，使得在它們之間建立行進的波。多個聲波發射器配置成用駐聲波基本上填充輻射束管道的橫截面。聲波發射器可以配置成用駐聲波基本上填滿輻射束管道的橫截面的部分。波前修正設備還包括配置成控制由聲波發射器發射的聲波的頻率和相位的控制器。控制器可以配置成控制一對聲波發射器，使得它們都發射具有基本上相同頻率的聲波。控制器配置成啟動或關閉所選擇的聲波發射器以便在輻射束管道內的期望位置處提供駐聲波。一個或多個聲波發射器可以具有可調節的取向。控制器可以配置成控制一個或多個聲波發射器的取向。一個或多個聲波發射器具有可調節的位置。控制器可以配置成控制一個或多個聲波發射器的位置。多個聲波發射器可以設置在基本上相同的平面內。根據本發明的一方面，提供一種光刻設備，包括支撐結構，用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；襯底臺，用以保持襯底；投影系統，用以將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和這裡所述的波前修正設備。波前修正設備的聲波發射器可以設置在光刻設備的投影系統和/或照射系統中，照射系統配置成調節輻射束並且朝向支撐結構傳送所述束。聲波發射器位於光刻設備的光瞳平面內和/或場平面內。聲波發射器位於基本上垂直光刻設備的光學軸線的平面內。聲波發射器配置成發射頻率與通過光刻設備的源或與光刻設備相關聯的源產生的輻射脈衝的重複率相符的頻率的聲波或者發射頻率為通過光刻設備的源或與光刻設備相關聯的源產生的輻射脈衝的重複率的倍數的聲波的聲波。聲波發射器可以配置成發射頻率與光刻設備的源或與光刻設備相關聯的源產生的輻射脈衝的重複率相關或確定的聲波。例如，可以選擇頻率，其針對不同輻射脈衝在不同的期望位置處提供聲波的波腹。控制器可以配置成接收輻射束的波前像差的測量值或預測值，以及確定將減小或消除輻射束的波前像差的駐聲波結構。聲波發射器可以配置成在氣體中建立駐聲波。根據本發明一方面，提供一種器件製造方法，包括步驟使用圖案形成裝置以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；使用投影系統將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和使用聲波發射器發射聲波以建立聲波，所建立的聲波至少部分地行進跨過圖案化的或未圖案化的輻射束在入射到襯底之前所通過的輻射束管道。現在參照隨附的示意性附圖，僅以舉例的方式，描述本發明的實施例，其中，在附圖中相應的附圖標記表示相應的部件，且其中圖I示意地示出根據本發明一個實施例的光刻設備；圖2示意地示出根據本發明一個實施例的波前修正設備；圖3示意地示出根據本發明另一個實施例的波前修正設備；和圖4示意地示出根據本發明另一個實施例的波前修正設備。具體實施例方式雖然在本文中詳述了光刻設備用在製造ICs(集成電路)，但是應該理解到，這裡所述的光刻設備可以有其他應用，例如製造集成光學系統、磁疇存儲器的引導和檢測圖案、液晶顯示器(LCDs)、薄膜磁頭等。本領域技術人員應該認識到，在這種替代應用的情況中，可以將這裡使用的任何術語「晶片」或「管芯」分別認為是與更上位的術語「襯底」或「目標部分」同義。這裡所指的襯底可以在曝光之前或之後進行處理，例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層塗到襯底上，並且對已曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、量測工具和/或檢驗工具中。在可應用的情況下，可以將所述公開內容應用於這種和其他襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如為產生多層1C，使得這裡使用的所述術語「襯底」也可以表示已經包含多個已處理層的襯底。這裡使用的術語「輻射」和「束」包含全部類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射(例如具有約365、248、193、157或126nm的波長或其他波長)。這裡所使用的術語「圖案形成裝置」應該被廣義地理解為表示能夠用於將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標部分上形成圖案的任何裝置。應當注意，被賦予輻射束的圖案可能不與在襯底的目標部分上的所需圖案完全相符。通常，被賦予輻射束的圖案將與在目標部分上形成的器件中的特定的功能層相對應，例如集成電路。圖案形成裝置可以是透射式的或反射式的。圖案形成裝置的示例包括掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻術中是公知的，並且包括諸如二元掩模類型、交替型相移掩模類型、衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型。可編程反射鏡陣列的示例採用小反射鏡的矩陣布置，每一個小反射鏡可以獨立地傾斜，以便沿不同方向反射入射的輻射束；以此方式，反射的束被圖案化。支撐結構保持圖案形成裝置。支撐結構以依賴於圖案形成裝置的方向、光刻設備的設計以及諸如圖案形成裝置是否保持在真空環境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置。所述支撐結構可以採用機械的、真空的、靜電的或其它夾持技術，例如真空條件下的靜電夾持。所述支撐結構可以是框架或臺，例如，其可以根據需要成為固定的或可移動的，並且可以確保圖案形成裝置位於所需的位置上(例如相對於投影系統)。在這裡任何使用的術語「掩模版」或「掩模」都可以認為與更上位的術語「圖案形成裝置」同義。這裡使用的術語「投影系統」應該廣義地解釋為包括任意類型的投影系統，投影系統的類型可以包括折射型光學系統、反射型光學系統、反射折射型光學系統，如對於所使用的曝光輻射所適合的、或對於諸如使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。這裡使用的術語「投影透鏡」可以認為是與更上位的術語「投影系統」同義。照射系統可以包括各種類型的光學構件，例如折射型、反射型、反射折射型光學構件，以引導、成形、或控制輻射束。光刻設備可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺(和/或兩個或更多的支撐結構)的類型。在這種「多臺」機器中，可以並行地使用附加的臺或支撐結構，或可以在一個或更多個臺上執行預備步驟的同時，將一個或更多個其它臺用於曝光。光刻設備也可以是這種類型，其中襯底可以被具有相對高的折射率的液體(例如水)浸沒，以便充滿投影系統的最終元件和襯底之間的空間。浸沒技術在本領域是熟知的用於提高投影系統的數值孔徑。圖I示意地示出根據本發明具體實施例的光刻設備。所述光刻設備包括-照射系統(照射器)IL，其配置用以調節輻射束PB(例如UV輻射或DUV輻射)；-支撐結構(例如掩模臺)MT，用於支撐圖案形成裝置(例如掩模)MA，並與配置用於相對於部件PL精確地定位圖案形成裝置MA的第一定位裝置PM相連；-襯底臺(例如晶片臺)WT，其用於保持襯底(例如塗覆有抗蝕劑的晶片)W，並與配置用於相對於部件PL精確地定位襯底的第二定位裝置PW相連；和-投影系統(例如折射投影系統)PL，其配置成用於將由圖案形成裝置MA賦予輻射束PB的圖案投影到襯底W的目標部分C(例如包括一根或多根管芯)上。·如這裡所示的，所述設備是透射型的(例如，採用透射式掩模)。替代地，所述設備可以是反射型的(例如，採用如上所述類型的可編程反射鏡陣列，或採用反射式掩模)。所述照射器IL接收從輻射源SO發出的輻射束。該源和所述光刻設備可以是分立的實體(例如當該源為準分子雷射器時)。在這種情況下，不會將該源看成形成光刻設備的一部分，並且通過包括例如合適的定向反射鏡和/或擴束器的束傳遞系統BD的幫助，將所述輻射束從所述源SO傳到所述照射器IL。在其它情況下，所述源可以是所述光刻設備的組成部分(例如當所述源SO是汞燈時)。可以將所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要時設置的所述束傳遞系統BD—起稱作輻射系統。所述照射器IL可以包括用於調整所述輻射束的角強度分布的調整器AM。通常，可以對所述照射器的光瞳平面中的強度分布的至少所述外部和/或內部徑向範圍(一般分別稱為σ-外部和ο-內部)進行調整。此外，所述照射器IL可以包括各種其它構件，例如積分器IN和聚光器CO。可以將所述照射器用於調節所述輻射束PB，以在其橫截面中具有所需的均勻性和強度分布。所述輻射束PB入射到保持在支撐結構MT上的所述圖案形成裝置(例如，掩模)MA上。已經穿過圖案形成裝置MA之後，所述輻射束PB通過投影系統PL，所述投影系統將輻射束聚焦到所述襯底W的目標部分C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器IF(例如，幹涉儀器件)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同的目標部分C定位於所述輻射束PB的路徑中。類似地，例如在從掩模庫的機械獲取之後，或在掃描期間，可以將所述第一定位裝置PM和另一個位置傳感器(圖I中未明確示出)用於相對於所述輻射束PB的路徑精確地定位圖案形成裝置ΜΑ。通常，可以通過形成定位裝置PM和PW的一部分的長行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精定位)的幫助來實現物體臺MT和WT的移動。然而，在步進機的情形(與掃描器相反)中，支撐結構MT可以僅連接至短行程致動器，或可以是固定的。可以使用圖案形成裝置對準標記Μ1、Μ2和襯底對準標記Ρ1、Ρ2來對準圖案形成裝置MA和襯底W。圖中示出的光刻設備可以用於下列模式中的至少一種I.在步進模式中，在將支撐結構MT和襯底臺WT保持為基本靜止的同時，將賦予所述輻射束PB的整個圖案一次投影到目標部分C上(即，單一的靜態曝光)。然後將所述襯底臺WT沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標部分C曝光。在步進模式中，曝光場的最大尺寸限制在單次靜態曝光中成像的目標部分C的尺寸。2.在掃描模式中，在對支撐結構MT和襯底臺WT同步地進行掃描的同時，將賦予所述輻射束PB的圖案投影到目標部分C上(B卩，單一的動態曝光)。襯底臺WT相對於支撐結構MT的速度和方向可以通過所述投影系統PL的(縮小)放大率和圖像反轉特徵來確定。在掃描模式中，曝光場的最大尺寸限制了單一動態曝光中所述目標部分的寬度(沿非掃描方向)，而所述掃描運動的長度確定了所述目標部分的高度(沿所述掃描方向)。3.在另一個模式中，將用於保持可編程圖案形成裝置的支撐結構MT保持為基本靜止，並且在對所述襯底臺WT進行移動或掃描的同時，將賦予所述輻射束PB的圖案投影到目標部分C上。在這種模式中，通常採用脈衝輻射源，並且在所述襯底臺WT的每一次移動之後、或在掃描期間的連續輻射脈衝之間，根據需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易於應用於利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型的可編程反射鏡陣列)的無掩模光刻術中。也可以採用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。投影系統PL在圖I中通過一般的圓柱形形狀(但是其可以具有其他形狀)示意地表示。投影系統PL可以包括串聯布置(例如以柱形布置)的多個光學元件(例如，透鏡)。光學元件可以例如由石英形成。光學元件可以包括全部透鏡或其他透射光學元件，包括全部反射鏡或其他反射光學元件，或包括透射和反射光學元件的組合。光學元件可以例如保持在殼體內。殼體可以例如由鋁形成。輻射束PB通過投影系統PL並且成像到襯底W上。投影系統PL可以被看作輻射束通道的示例，因為在光刻設備操作期間輻射束通過投影系統。光刻設備的其他部分，例如照射系統IL還可以被看作輻射束管道。在一個實施例中，波前修正設備2(用虛線示意地表示)設置在投影系統PL內。波前修正設備2連接至控制器CT，其可以控制波前修正設備的操作。控制器CT還連接至源S0。這允許控制器CT同步化波前修正設備2的操作和源SO的操作。圖2示意地示出從上面看的根據一個實施例的波前修正設備2。波前修正設備2包括多個聲波發射器6a-p。聲波發射器6a-p安裝在框架4上,其圍繞福射束PB的外周延伸。每個聲波發射器6a_p配置成朝向相關的發射器發射聲波。例如，聲波發射器6a配置成朝向聲波發射器6d發射聲波,並且聲波發射器6d配置成朝向聲波發射器6a發射聲波。這些聲波發射器6a、d可以看作彼此面對的一對聲波發射器。由聲波發射器6a、d發射的聲波具有相同的頻率(或基本上相同的頻率)。聲波彼此幹涉，由此導致生成駐聲波。駐聲波的波腹和波節的位置依賴於由該對聲波發射器6a、d發射的聲波的相對相位。因此，波節和波腹的位置可以通過修正聲波的相對相位調節。由該對聲波發射器6a、d發射的聲波的頻率和相位可以通過控制器CT(見圖I)控制。由聲波發射器6a、d產生的駐聲波提供跨過福射束PB的部分延伸的壓力分布。投影系統PL內的氣體(例如空氣)折射係數是氣體壓力的函數。因此，壓力分布產生在氣體中的折射係數分布。折射係數分布的最大值和最小值在駐聲波的波腹處。在駐聲波的波節處折射係數基本上不改變。由駐聲波產生的折射係數分布引起輻射束PB的修正。當輻射束的部分通過駐聲波時通過駐聲波應用至輻射束PB的給定部分的效果將依賴於駐聲波的相位。例如，如果在波腹是最大值時輻射束的部分通過駐聲波的波腹，則輻射束的部分將經歷高壓並因此遭受高的折射係數。輻射束的部分行進的光學路徑長度將因此增大(相對於輻射束的部分通過波節所行進的光學路徑)。相反，如果當波腹是最小值時輻射束的部分通過駐聲波的波腹，則輻射束的部分將遭受低壓並因此經歷低的折射係數。輻射束的部分行進的光學路徑長度將因此減小(相對於輻射束的部分通過波節所行進的光學路徑)。相同的情形應用至通過駐聲波的波腹和波節之間部分路徑的輻射束的部分，但是被聲波施加的影響的振幅將較小。圖案通過光刻設備(見圖I)從圖案形成裝置MA被投影到襯底W上的精確度部分依賴於用於投影圖案的輻射束PB的光學波前。輻射束PB的光學波前偏離其理想形狀會對通過光刻設備投影圖案的精確度產生極壞的影響。波前修正設備2可以用於修正輻射束PB的光學波前，並且由此減小或消除輻射束的光學波前偏離其理想形狀。這可以便於改進通過光刻設備投影圖案到襯底W上的精確度。由一對聲波發射器6a_p產生的每個駐聲波將具有有限的直徑,其可以例如通過用於發射聲波的聲波發射器的配置和/或尺寸確定。期望地，可以提供跨過輻射束PB的橫截面的基本上部分或甚至全部的聲波。等同地，期望提供跨過輻射束管道(例如輻射束PB通過的照射系統IL和/或投影系統PL的部分)的基本上部分或甚至全部的聲波。這可以通過圍繞輻射束管道的外部(例如圍繞框架4)提供多個聲波發射器實現。在一個實施例中，聲波發射器可以圍繞在輻射束管道的外部分布(例如設置在框架4上)。聲波發射器可以例如定位成在它們之間具有基本上相等的間隔，或在它們之間具有不同的間隔。聲波發射器可以配置成引導聲波使得它們全部通過中心點(例如示意地通過聲波發射器6a_f部分地表示)。例如，中心點可以與光刻設備的光學軸線一致。替換地，聲波發射器的部分或全部可以配置成引導聲波使得它們不全部通過中心點或根本不通過中心點(例如通過聲波發射器6g-p不意地表不)。聲波發射器可以配置成引導聲波使得它們建立填充(或填充大體部分)輻射束管道的橫截面的格子。通過聲波發射器6g-p產生這種格子在圖2中示意地示出。聲波發射器可以配置成沿任何期望的方向引導聲波。聲波發射器可以配置成用駐聲波基本上充滿輻射束管道的橫截面。可以設置任何合適數量的聲波發射器。每個聲波發射器可以是一對聲波發射器中的一個。該對聲波發射器的每個聲波發射器配置成引導聲波到該對聲波發射器的相對的聲波發射器。由該對聲波發射器的每個聲波發射器發射的聲波具有基本上相同的頻率(包括多個基本上相同的頻率)。以基本上相同的頻率沿相反方向行進的聲波發射導致產生駐聲波。不同對的聲波發射器可以發射具有不同頻率的聲波。在一個實施例中，如圖3所不,波前修正設備2』可以包括一系列單個聲波發射器6a_c代替多對的聲波發射器或作為多對聲波發射器的附加。可以在相對的每個聲波發射器6a_c設置能夠發射聲波的表面。反射表面8a-c可以例如是基本上平的表面，其基本上垂直於由單個聲波發射器發射聲波的傳播方向。在使用單個聲波發射器的情形中，波前修正設備將大體與前面描述的波前修正設備以相同方式運轉。然而，在單個聲波發射器僅與反射表面組合使用的情形中，駐聲波的波節和波腹的位置不能通過控制聲波發射器之間的相位控制，因為在這種組合中僅設置單個聲波發射器。雖然在圖3中示出三個聲波發射器6a_c和三個反射表面8a_c,但是可以設置任何數量的聲波發射器和發射表面。控制器CT可以配置成接通或關閉所選擇的聲波發射器以便在輻射束管道內期望的位置處提供駐聲波。在一個實施例中，一個或多個聲波發射器6a_p可以具有可調節的取向。例如，聲波發射器可以保持在可旋轉調節的基座上(未示出)。可旋轉調節的基座可以允許例如圍繞一個或多個旋轉軸線修正聲波發射器的取向。聲波發射器的取向可以例如通過控制器CT控制(如圖I)。聲波發射器的取向可以通過控制器CT控制以便引導聲波跨過輻射束管道的期望產生駐聲波的部分。在一個實施例中，一個或多個聲波發射器6a_p可以具有可調節的位置。例如，聲波發射器可以保持在允許調節聲波發射器位置的基座上。可以調節的基座可以例如允許沿一個或多個方向改變聲波發射器的位置。聲波發射器的位置可以例如通過控制器CT(見圖I)控制。聲波發射器的位置可以通過控制器CT控制以便引導聲波跨過輻射束管道的期望產生駐聲波的部分。雖然聲波發射器6a_p如圖2示出為安裝在框架4上，但是聲波發射器可以以任何合適的方式固定(框架4不是必須的)。例如，聲波發射器可以安裝在投影系統PL的壁上(可以安裝在照射系統IL的壁上)。在一個實施例中，可以期望在束管道內的特定位置處提供波前修正(例如以便調節在輻射束內的特定位置處的波前)。例如可以通過僅操作那些產生通過該位置的聲波的聲波發射器並且通過選擇使得在該位置處提供駐聲波波腹的聲波發射器的相對相位實現在束管道內的特定位置處提供波前修正。雖然駐聲波在空間上是基本上靜止或固定的，由駐聲波引起的壓力分布隨時間變化。具體地，駐聲波的波腹處的壓力將在駐聲波的頻率確定的時間段從最大值變化至最小值。因為光速比聲速快得多，在輻射束的輻射脈衝經歷的壓力分布不顯著改變的同時，輻射脈衝通過駐聲波。然而，為了幫助確保輻射束的連續輻射脈衝經歷基本上相同的壓力分布，駐聲波和輻射脈衝可以同步。將駐聲波與輻射束的輻射脈衝同步可以限制駐聲波的最大波長。例如，如果光刻設備要具有輻射束脈衝重複率2kHz，則在與輻射脈衝同步提供的同時駐聲波可以具有的最小頻率也是2kHz。聲波的波長等於被聲波的頻率分開的聲速。在這種情形中，可以提供與輻射脈衝同步的聲波的最大波長為350ms_72kHZ=17cm。在通常的光刻設備中，輻射束(或等同地，輻射管道)可以具有大約IOcm的直徑。因此，聲波的最大波長顯著大於輻射束的直徑，並且結果駐聲波能夠提供波前修正用於輻射束中的低級像差。駐聲波不需要具有與輻射脈衝重複率相同的頻率，但是可以替代地例如具有輻射脈衝重複率的倍數的頻率。在這種情況下，連續輻射脈衝將不經受駐聲波的連續的最大值，但是替代地將遭受駐聲波的最大值的二分之一、三分之一或η分之一。這仍然有助於確保連續的輻射脈衝經歷基本上相同的壓力分布，同時允許使用具有較短波長的駐聲波。較短波長的駐聲波將提供具有更大的最大值的壓力分布(最大值的數值由駐聲波的波長確定)O在一個實施例中，駐聲波可以具有不等於輻射脈衝重複率或等於倍數的頻率。在這種情況下，連續的輻射脈衝可以經歷具有不同振幅的駐聲波的波腹。以此方式，可以將時間變化的波前修正應用於輻射束。波前修正的時間變化可以通過聲波的頻率和輻射脈衝的頻率之間的頻率失配確定。通過選擇由用於產生駐聲波的聲波發射器發射的聲波的合適波長可以選擇駐聲波的高壓波腹之間的分隔距離。通過調節用於產生駐聲波的聲波發射器之間的相對相位可以選擇給定駐聲波的高壓波腹的位置。通過選擇由適當地定位並定向的聲波發射器發射的聲波的適當的波長(或頻率)和相位可以實現修正輻射束波前以補償特定或具體像差。在一個實施例中，可以期望，減小駐聲波的波長(並相應地增大其頻率)，同時保持輻射脈衝和聲波最大值之間的一對一的對應關係。在這種情況下，輻射脈衝的重複率可以增大，以便允許駐聲波的波長減小。在實踐中，輻射脈衝的重複率可以是固定不變的，或可以依賴於光刻設備的不容易修正的參數。基於此原因，可以更加直接地將駐聲波的頻率提高至脈衝重複率的倍數而不是增大脈衝重複率。波前修正設備的聲波發射器可以位於投影系統PL的光瞳平面內(或光刻設備的某些其他合適部件內的光瞳平面內)。在這種情況下，波前修正設備將對光瞳平面內的輻射束應用修正，並將因此引入光瞳效應。波前修正設備可以用於應用例如像差偏移。術語「像差偏移」是為了表示將同等地完全應用到場平面內的圖像的像差修正。波前修正因此可以用於減小或校正跨過輻射束的整個波前的輻射束內的像差。例如，如果通過波前修正設備在光瞳平面內引入散焦，則圖像的全部點將基本上等同地散焦，因為來自圖像的每個點的輻射通過相同的光瞳平面。波前修正設備可以修正光瞳平面內的輻射束的波前，而不會引入場平面修正到輻射束中。波前修正設備可以用於減小或消除被投影系統PL(或光刻設備的其他部件)引入至輻射束的不期望的像差偏移。波前修正設備的聲波發射器可以位於投影系統PL的場平面內(或在光刻設備的某些其他部件內的場平面內)。在這種情況下，波前修正設備將應用修正到場平面內的輻射束，並因此將場效應引入到輻射束。波前修正設備可以用於減小或校正存在於輻射束的特定空間位置處的像差。使用基於線柵的設備(如下文中進一步描述的)不能減小或校正存在於輻射束的特定空間位置處的像差，因為在光刻設備的操作期間線柵的線將被成像到襯底上。如上介紹的，將波前修正設備放置在光瞳平面內允許將相同的像差修正應用跨過整個輻射束，而將波前修正設備放置在場平面允許將像差修正應用在輻射束中的特定空間位置處。可以提供兩個波前修正設備，第一個在光瞳平面內，第二個在場平面內。這允許跨過整個輻射束執行像差修正，並允許在輻射束的特定空間位置處執行像差修正。波前修正設備的聲波發射器可以位於投影系統PL的場平面和光瞳平面之間(或在光刻設備的某些其他部件內)。在這種情況下，波前修正設備將提供輻射束的混合的光瞳-場修正。波前修正設備的聲波發射器可以設置在基本上垂直於光刻設備的光學軸線的平面內。在這種情況下，圖2中示出的波前修正設備將提供輻射束波前的二維修正。如圖4示意地示出的，波前修正設備2」可以配置成提供輻射束波前的三維修正。如圖4所示，波前修正設備的聲波發射器16a-d不配置成發射垂直於輻射束的光學軸線OA的聲波，而是配置成發射使得它們與非垂直方向上的光學軸線交叉的聲波。在圖4中，示出四個聲波發射器16a-d，但是應該認識到，可以設置任何合適數量的聲波發射器。聲波發射器中的兩個16a、c設置在光刻設備的光瞳平面PP內或光瞳平面PP處，聲波發射器中的兩個16b、d設置在光刻設備的場平面FP內或場平面FP處。由波前修正設備2」產生的駐聲波在光瞳平面和場平面之間延伸，並因此應用混合的光瞳-場波前修正至輻射束。圖4中示出的波前修正設備2」可以例如設置在光刻設備的投影系統內、光刻設備的照射系統內和/或光刻設備的任何其他合適位置處。雖然圖4中示出的波前修正設備2」包括在光瞳平面PP內或光瞳平面PP處的聲波發射器16a、c和場平面PP內或場平面PP處的聲波發射器16b、d，但是聲波發射器可以附加地或替換地設置在任何其他合適平面內。在單個光刻設備內可以設置多於一個波前修正設備。該波前修正設備可以提供超過其他波前修正設備的一個或多個優點。一個其他波前修正設備包括位於投影系統內透鏡的外圍周圍的致動器，該致動器用於修正透鏡的形狀和/或位置，由此應用波前修正。這些致動器的缺點在於，它們可以修正透鏡形狀的速度相對慢。另一缺點在於，致動器可能僅能夠應用有限範圍的修正到透鏡形狀，並因此可以應用有限範圍的波前修正到輻射束。本發明的一個實施例能夠以比通過致動器能實現的速度大的速度應用波前修正到輻射束。一旦通過一對聲波發射器發射的聲波已經行進跨過它們之間的空間，則建立駐聲波。一對聲波發射器(例如圖2中的聲波發射器6a、b)之間的間隔可以例如是大約IOcm(這可以是輻射束的寬度，或輻射管道的寬度)。假定由聲波發射器發射的聲波以聲速(例如350m/s)行進,則由聲波發射器發射的聲波可以在大約O.3ms內行進跨過輻射管道。因此，可以在大約O.3ms內在輻射管道內建立期望的駐聲波。如果輻射管道將具有更大的寬度，則將花費更長時間建立駐聲波，因為聲波將需要進行更遠以行進跨過輻射管道。類似地，如果輻射管道將具有較小的寬度，則其將花費較短的時間建立駐聲波。附加地或替換地，波前修正設備能夠迅速地修正駐聲波。可以修正駐聲波的速度與建立駐聲波的速度相同(這依賴於聲速和聲波行進的距離)。駐聲波的修正可以例如包括駐聲波的波腹和波節位置的調節，該調節通過修正用於產生駐聲波的聲波發射器的相對相位實現。另一優點在於，本發明一個實施例可以應用比通過致動器對輻射束應用的修正寬範圍的修正。例如，本發明的一個實施例能夠應用具有比使用致動器應用高的空間解析度的修正到輻射束。例如，本發明的一個實施例可以減小或消除具有比使用致動器應用的最高空間頻率高的空間頻率的輻射束內的像差偏移(當設備位於光瞳平面內或光瞳平面處)。本發明的一個實施例能夠減小或消除輻射束中的作為輻射束中的空間位置的函數而改變的場像差效應(當設備位於光瞳平面之外)。例如，本發明的一個實施例能夠減小或消除輻射束中的相對於空間位置而不能通過使用致動器提供的速率的變化的場平面像差。例如，本發明的一個實施例能夠減小或消除輻射束中的相位波痕。本發明的一個實施例能夠減小或消除輻射束中的局部的場平面像差(即，沿橫截面看僅輻射束的部分存在的場平面像差)。這不能通過使用致動器有效地完成。另一波前修正設備包括傳送板，其設置有線柵和氣體冷卻設備。線柵可以用於修正傳送板上的期望位置上的溫度，並由此修正通過傳送板應用到輻射束的光學效應。傳送板和線柵布置可以允許在比使用致動器應用高的空間解析度的情況下應用修正至輻射束。該板和線柵布置的缺點在於，其可以相對慢，因為需要用於傳送板到達期望溫度的時間。另一缺點在於，線柵的線會阻塞或阻擋輻射束，並因此不能設置在光刻設備的場平面內或靠近場平面(這將引起由線形成的陰影成像到襯底上)。這些缺點的一個或多個可以通過本發明的一個實施例克服。如上所述，本發明的一個實施例可以在大約O.3ms內建立期望的駐聲波。因為本發明的一個實施例不在束中使用線或其他結構，因此不引入陰影到輻射束，因而可以用於光刻設備的場平面內。附加地，因為不在束中使用線或其他結構，本發明的一個實施例不會通過輻射束的散射產生雜散輻射。本發明一個實施例的另一缺點在於，可以不需要氣體冷卻，由此避免相對地複雜的工藝提供氣體冷卻。另一優點在於，不必提供與光刻設備的投影系統匹配的傳送板。這是重要的優點，因為將傳送板與光刻設備的投影系統匹配是花費時間且花費成本的，並且阻止那些傳送板用於任何其他光刻設備。本發明的一個實施例可以適應光刻設備而不用匹配至光刻設備。這允許本發明的該實施例應用並適應不同的光刻設備或其他設備。本發明的一個實施例的還一優點在於，當波前修正設備切換至關閉時，其不應用任何修正到輻射束的波前(不像線柵和板設備)。本發明的一個實施例的波前修正設備可以充分迅速地將波前修正應用到輻射束，在將圖案掃描曝光到襯底W上(見圖I)期間波前修正可以變化。例如，在掃描曝光期間改變的波前修正可以應用到輻射束PB，使得其在掃描曝光期間通過引入抵消這種效應的像差(或補償其他不期望的效應)補償圖案形成裝置加熱導致的圖像變形效應。可以在大約40ms內通過光刻設備執行掃描曝光，並且在掃描曝光期間由圖案形成裝置加熱引起的圖像變形可以是大約20nm。這對應每毫秒(ms)大約O.5nm的改變。波長修正設備可以在大約O.3毫秒(ms)內建立和/或修正駐聲波。因此，波長修正設備足夠快，便於在掃描曝光期間校正由圖案形成裝置加熱引起的圖像變形。由聲波發射器產生的聲波可以包括傳播至投影系統的壁或光刻設備的其他部件的分量。然而，聲波應該適當地迅速衰減，因此對光刻設備具有可忽略的影響。如果觀察到顯著的負面影響，則在光刻設備內的合適位置處可以設置吸收材料以防止或限制聲波的傳播。例如，吸收材料可以位於聲波發射器後面。吸收材料可以設置在在所有沿聲波發射器(或基本上全部聲波發射器)後面延伸的環內。由聲波發射器發射的聲波可以具有例如大約Icm的厚度(在這種情況下術語「厚度」指的是沿傳播方向的橫向方向聲波的尺寸)。一對厚度大約Icm的聲波可以用於生成厚度大約Icm的駐聲波。如果將要獲得IPa振幅的駐聲波，則這將允許應用IOnm的像差補償。換句話說，輻射束的通過駐聲波的最大壓力波腹的部分經歷的路徑長度將比輻射束的通過駐聲波的波節的部分經歷的路徑長度長10nm。應該認識到，較大的振幅將應用較大的像差影響至輻射束。類似地，較厚的駐聲波將應用較大像差影響至輻射束。由波前修正設備產生的駐聲波的厚度依賴於聲波發射器的配置和/或尺寸和聲波的波長。當製造波前修正設備時可以根據將要實現的期望空間解析度選擇厚度。較薄的聲波可以需要比較厚聲波更精確地引導以便幫助確保它們不會彼此重疊和/或控制它們之間的重疊。較厚的聲波可以帶來對輻射束的平面外修正，如下文介紹的。在光刻設備的期望的平面內(例如光瞳平面)提供駐聲波的實施例中，可以期望限制駐聲波的厚度使得其不包括充分大以將不期望的平面外修正施加至輻射束的該平面外部的分量。將駐聲波的厚度限制至大約Icm或更小可以充分地避免將不期望的平面外修正施加至輻射束。例如，將駐聲波的厚度限制至大約Icm可以允許在不應用明顯的光瞳平面外部的修正的情況下應用光瞳平面內的輻射束的修正。可以在投影系統PS的一個或多個位置處應用大約Icm的駐聲波厚度(這可以依賴於投影系統中使用的光學元件的配置)。可以應用其他駐聲波厚度。可以在不引入明顯的非光瞳平面影響的情況下用於光瞳平面的駐聲波的最大厚度將依賴於投影系統的配置，並且尤其地，可以依賴於投影系統內光瞳和場平面之間的距離。在不引入明顯的非場平面影響的情況下確定用於場平面的駐聲波的最大厚度時可以應用類似的考慮。如上面所述，波前修正設備的聲波發射器可以通過控制器CT控制(見圖I)。控制器CT可以配置成監測輻射束的一個或多個測量的(例如通過使用位於襯底臺WT內的傳感器測量的)波前像差。控制器CT可以配置成確定由波前修正設備生成的駐聲波的結構，其將減小或消除輻射束的測量的波前像差。控制器CT可以接收所測量的波前像差，並確定應該在哪裡增加波前或減去波前以補償像差。隨後控制器可以控制聲波發射器以產生將增加或減去適當的附加相差的壓力分布。例如，散焦可以通過襯底臺WT內的傳感器測量。控制器可以確定由波前修正設備生成的駐聲波結構，其將減小或消除散焦，並且隨後可以操作所選擇的聲波發射器使得它們產生該駐聲波結構。代替或附加配置以監測輻射束的測量的波前像差，控制器CT可以配置成接收、生成或從存儲器搜索輻射束的一個或多個預測的波前像差。波前像差的預測可以依賴於在校準光刻設備期間觀察到的波前像差，並且可以是例如基於時間的(例如由於光刻設備的光學元件隨著時間變化而升溫可以發生的像差)。控制器可以配置成確定由波前修正設備產生的駐聲波結構，其將減小或消除輻射束的計算的或預測的波前像差。可以通過例如參考存儲的數據的控制器確定用以減小或消除輻射束的給定波前像差的駐聲波結構。存儲的數據可以例如包括查找表(lookuptable)(或某些其他形式的數據)，其指示將減小或消除一個或多個波前像差的駐聲波結構。可以執行存儲在查找表(或某些其他數據形式)中的聲波結構之間的內插或插值。可以以任何便利的形式實施本發明的多個方面。例如，可以提供電腦程式執行這裡所描述的方法的任一種。這種電腦程式可以在合適的計算機可讀介質上執行，計算機可讀介質包括任何合適的實際的存儲裝置(例如光碟、ROM或RAM)。可以通過合適地編程的計算機實施本發明的多個方面。可以在例如控制器CT中應用或實施計算機和/或電腦程式。波前修正設備可以用於在光刻設備中存在的空氣(或其他氣體)中產生駐聲波。在一個實施例中，波前修正設備可以用於在光刻設備中存在的水(或其他液體)中產生駐聲波。例如，在光刻設備的操作期間(用於浸沒光刻)可以在位於光刻設備的投影系統和襯底之間的浸沒液體中產生駐聲波。在一個實施例中，波前修正設備可以用於在光刻設備中存在的石英(或某些其他固體)中產生駐聲波。例如，可以在光刻設備的光學元件(例如透鏡)中產生駐聲波。在液體或固體中產生的駐聲波將以與氣體中產生的駐聲波相同的方式修正輻射束的波前。然而，液體或固體的較高的折射係數將意味著對於輻射束脈衝的給定重複率可以產生的駐聲波的最大波長減小。因為液體或固體允許產生減小的波長的駐聲波，因此它們可以例如在期望產生具有較短波長的駐聲波時(與氣體產生的駐聲波相比)使用。在一個實施例中，波前修正設備的一對聲波發射器可以發射不同頻率的聲波。在這種情況下，它們一起產生的聲波將不是固定不變的，而是具有依賴於所發射聲波的頻率之間的差異的變化的相位。聲波將因此朝向聲波發射器中的一個行進。因此聲波可以稱為行進的聲波或移動的聲波，而不是駐聲波。控制器CT可以使移動聲波與通過源SO產生輻射脈衝同步化，使得輻射脈衝在它們通過波前修正設備時經歷基本上相同的壓力分布。移動聲波因此可以用於以前面關於駐聲波描述的相同方式修正福射束PB的波前。在一個實施例中，替代或附加適用一對聲波發射器以產生移動聲波，可以使用單個聲波發射器產生移動聲波。在這種情況下，可以相對聲波發射器設置吸收器。吸收器用作減小或消除聲波反射回朝向聲波發射器。例如，可以使用與圖3中示出的類似的配置，其中反射器8a_c用吸收器替換。吸收器可以例如包括吸收材料，或可以例如包括不操作的聲波發射器。移動的聲波的振幅可以在其移動離開聲波發射器時衰減。例如當期望跨過輻射束對振幅衰減的輻射束應用修正時，這可以是有利的。控制器CT可以使移動的聲波與通過源SO產生輻射脈衝同步化，使得輻射脈衝在通過波前修正設備時經歷基本上相同的壓力分布。這裡描述的聲波發射器可以是傳統的聲波發射器，其能夠發射準直的或基本上準直的聲波(例如可以使用電磁聲換能器)。雖然上面描述的本發明具體的實施例，但是應該認識到，本發明可以以與上述不同的方式實施。這裡的說明書不是為了限制本發明。權利要求1.一種波前修正設備，包括多個聲波發射器，所述多個聲波發射器配置成發射至少部分地行進跨過輻射束管道的聲波。2.如權利要求I所述的波前修正設備，其中，所述多個聲波發射器配置以建立駐聲波，所述駐聲波至少部分地延伸跨過輻射束管道。3.如權利要求I或2所述的波前修正設備，其中，所述多個聲波發射器成對地設置，每一對的聲波發射器彼此面對。4.如權利要求3所述的波前修正設備，其中，一對聲波發射器中的第一聲波發射器配置成發射頻率與一對聲波發射器中的第二聲波發射器發射的聲波基本上相同的聲波。5.如前述權利要求任一項所述的波前修正設備，其中，聲波發射器配置成用駐聲波基本上填滿輻射束管道的橫截面。6.如前述權利要求任一項所述的波前修正設備，其中，波前修正設備還包括配置成控制由聲波發射器發射的聲波的頻率和相位的控制器。7.如權利要求6所述的波前修正設備，其中，所述控制器配置成啟動或關閉所選擇的聲波發射器以便在輻射束管道內的期望位置處提供駐聲波。8.如前述權利要求任一項所述的波前修正設備，其中，多個聲波發射器設置在基本上相同的平面內。9.一種光刻設備，包括支撐結構，用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；襯底臺，用以保持襯底；投影系統，用以將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和如前述權利要求中任一項所述的波前修正設備。10.如權利要求9所述的光刻設備，其中，波前修正設備的聲波發射器能夠設置在投影系統中和/或光刻設備的照射系統中，照射系統配置成調節輻射束並且朝向支撐結構傳送所述束。11.如權利要求9或10所述的光刻設備,其中，聲波發射器位於光刻設備的光瞳平面內和/或場平面內。12.如權利要求9至11任一項所述的光刻設備,其中，聲波發射器位於基本上垂直光刻設備的光學軸線的平面內。13.如權利要求9至12任一項所述的光刻設備，其中，聲波發射器配置成發射具有與通過光刻設備的源或與光刻設備相關聯的源產生的輻射脈衝的重複率相符的頻率的聲波或者發射頻率為通過光刻設備的源或與光刻設備相關聯的源產生的輻射脈衝的重複率的倍數的聲波。14.如引用權利要求6的權利要求9所述的光刻設備，其中，控制器配置成接收輻射束的波前像差的測量值或預測值，並且確定將減小或消除輻射束的波前像差的駐聲波結構。15.一種器件製造方法，包括下列步驟使用圖案形成裝置以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；使用投影系統將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和·使用多個聲波發射器發射聲波以建立聲波，所建立的聲波至少部分地行進跨過圖案化的或未圖案化的輻射束在入射到襯底之前所通過的輻射束管道。全文摘要一種具有多個聲波發射器的波前修正設備，聲波發射器配置成發射至少部分地行進跨過輻射束管道的聲波。聲波發射器可以配置成建立至少部分地延伸跨過輻射束管道的駐聲波。可以在光刻設備中設置波前修正設備，可以使用波前修正設備修正被光刻設備使用以將圖案投影到襯底上的輻射束的波前。文檔編號G02B27/00GK102841511SQ201210207908公開日2012年12月26日申請日期2012年6月19日優先權日2011年6月20日發明者羅坦·艾哈邁多維奇·斯匹克漢諾夫申請人:Asml荷蘭有限公司