鍍膜支架及鍍膜裝置的製作方法
2023-06-08 07:35:36
專利名稱：鍍膜支架及鍍膜裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及鍍膜領域，尤其涉及一種能使待鍍元件自動翻面的鍍膜支架及具有該鍍膜支架的鍍膜裝置。
背景技術：
當前，許多工業產品表面都鍍有功能薄膜，以改善產品表面的各種性能。如照相機、數位相機等光學產品內的光學鏡片、濾光片等光學元件，因為要避免入射光經過每個元件時，部分入射光反射而導致光能損耗，需要在光學鏡片的兩面鍍抗反射膜，或是在濾光片 (紅外濾光片，紫外濾光片)的一面鍍上可濾掉某區段光的薄膜，而在另一面鍍上抗反射膜，通過這些光學薄膜以增加光學元件的抗反射性能，防止光能損耗。所述光學薄膜的鍍膜方式多以熱蒸鍍或濺鍍方式進行，在待鍍元件的鍍膜製程中，由於待鍍元件的兩面皆需鍍膜，故在鍍完一面之後需將待鍍元件翻面再放入鍍膜裝置中進行第二面的鍍膜，實際上是將待鍍元件在鍍膜支架上翻面。然而，鍍膜時通常是以人工的方式對待鍍元件逐個進行翻面，此舉相當耗時及人力。
發明內容
有鑑於此，有必要提供一種能使待鍍元件自動翻面的鍍膜支架及具有該鍍膜支架的鍍膜裝置。一種鍍膜支架，其用於承載多個待鍍組件。該鍍膜支架包括一個轉動臂、一個驅動該轉動臂旋轉的第一驅動裝置、多個懸臂、多個承載盤以及多個第二驅動裝置。該多個懸臂自該轉動臂延伸。每個懸臂均包括遠離該轉動臂的自由端。該多個承載盤活動連接於該多個自由端並用以裝設該多個待鍍組件。每個第二驅動裝置固設於對應的自由端並與該對應的承載盤轉動連接以驅動對應的承載盤轉動翻面。一種鍍膜裝置，其包括一個腔體、一個設於腔體底部的鍍膜源，以及一個如上所述的鍍膜支架。該鍍膜支架位於該腔體的頂部並與該鍍膜源相對。相較於現有技術，該鍍膜裝置及該鍍膜支架通過該第二驅動裝置轉動連接承載盤以驅動承載盤旋轉，從而實現承載盤的自動翻面，節省了人力及時間。
圖1是本發明第一實施方式提供的鍍膜裝置的立體示意圖。圖2是圖1中的鍍膜裝置的鍍膜支架的立體示意圖。圖3是圖1中的鍍膜裝置的鍍膜支架的部分分解示意圖。圖4是圖1中的鍍膜裝置的鍍膜支架處於另一狀態時的立體示意圖。圖5是本發明第二實施方式的鍍膜支架的立體示意圖。圖6是圖5中的鍍膜支架的部分分解示意圖。主要元件符號說明
鍍膜裝置10 腔體12抽氣通孔13鍍膜源14真空抽取單元16控制器18鍍膜支架20、40轉動臂22、42頂端220底端222、422第一驅動裝置24第一定子242第一轉子244、444懸臂26、46連接部262連接端462第一端2622第二端2624懸掛部264第一通孔2641第三端2642自由端2644、464第一面2645第二面2646第三面2647第四面2648第五面2649承載盤28、48本體282第六面2822第七面2824突出部284第二通孔2842第三通孔2^6第四通孔2828磁鐵286、486第二驅動裝置29第二定子292第二轉子294、4Θ具體實施例方式下面結合附圖將對本發明實施方式作進一步的詳細說明。請參閱圖1，為本發明第一實施方式的鍍膜裝置10，該鍍膜裝置10包括一個腔體 12、一個鍍膜源14、一個真空抽取單元16、一個控制器18、以及一個鍍膜支架20。該鍍膜源 14設置於該腔體12的底部。該真空抽取單元16位於該腔體12外並與該腔體12上的抽氣通孔13對應，該真空抽取單元16用於對該腔體12抽真空。該鍍膜支架20固設於該腔體 12的頂部並與該鍍膜源14相對。該控制器18位於該腔體12外並與該真空抽取單元 16及該鍍膜支架20電性連接。請一併參閱圖2及圖3，該鍍膜支架20用於承載多個待鍍組件，比如光學鏡片、濾光片等。該鍍膜支架20包括一個轉動臂22、一個第一驅動裝置24、四個懸臂26、十個承載盤28、以及十個第二驅動裝置29。該轉動臂22為長方體結構，該轉動臂22包括相對的頂端220及底端222。該頂端 220開設有一個安裝孔(圖未示)。該第一驅動裝置24為伺服馬達，其包括一個第一定子242以及與該第一定子242 轉動連接的第一轉子244。該第一定子242固設於該腔體12的頂部。該第一轉子244通過卡合或者螺合等方式裝設於該頂端220上的安裝孔內以使該第一轉子244與該轉動臂22 固定連接。該第一驅動裝置24與該控制器18電性連接。四個懸臂26分別垂直該轉動臂22延伸，且該四個懸臂26均勻分布於該轉動臂22 的周圍。每個懸臂26包括一個連接部262、一個與該連接部262相連的懸掛部264。該連接部262包括相對的第一端2622及第二端2624。該懸掛部264包括一個第三端2642及與該第三端2642相對的自由端2644。該第一端2622垂直該轉動臂22，該第二端2624與該第三端2642垂直連接。該自由端2644包括一個第一面2645、一個第二面2646、一個第三面2647、一個第四面2648、以及一個第五面2649。該第一面2645與該第三面2647平行相對。該第二面2646與該第四面2648平行相對。該第五面2649垂直連接該第一面2645、該第二面2646、該第三面2647以及該第四面2648。該自由端2644開設有貫穿該第一面2645 及該第三面2647的第一通孔2641。每個承載盤28大致呈半圓形結構，其包括一個本體282及一個突出部284。該本體282包括一個第六面2822及與該第六面2822相對的第七面2824。該突出部284從該第六面2822上垂直延伸，且該突出部284開設有一個第二通孔2842。該本體282上開設有多個用於收容該待鍍組件的第三通孔2826及多個用於裝設磁鐵286的第四通孔2828。該第三通孔2826與該第四通孔2828間隔設置。磁鐵286的磁極從該第六面2822及該第七面 2824上露出，且該第六面2822及該第七面2824上相鄰的扇形列的磁鐵286的磁極相異。該第二驅動裝置29為伺服馬達，每個第二驅動裝置29包括一個第二定子292及與該第二定子292轉動連接的第二轉子294。每個第一通孔2641固設有兩個第二定子292， 且兩個第二轉子294分別從該第一通孔2641內伸出並螺合或者卡合於該第二通孔2842內以使該第二驅動裝置29與該突出部284固定連接，從而實現兩個承載盤28活動連接於該自由端2644靠近該第一面2645及該第三面2647的兩側。該兩個承載盤28相對的扇形列的磁鐵286的磁極也相異。本實施方式中，承載盤28內裝設有三個扇形列的磁鐵286，且最內圈的磁鐵286在兩個承載盤28的第六面2822上顯露出的磁極分別為S極與N極，中間圈分別為N極與S極，最外圈分別為S極與N極。該第二驅動裝置29也與該控制器18電性連接。可以理解，該自由端2644可以不開設第一通孔2641，此時，兩個第二定子292分別固設於該第一面2645及該第三面2647上，且兩個第二轉子294分別相對該第一面2645及該第三面2647伸出並分別與該突出部284固定連接以將兩個承載盤28活動連接於該自由端2644靠近該第一面2645及該第三面2647的兩側。該轉動臂22的底端222為自由端，其可以不裝設承載盤28，也可以裝設承載盤 28。本實施方式中，該底端222與該自由端2644相同的方式裝設有兩個承載盤28。鍍膜時，該控制器18控制該真空抽取單元16抽取真空，該鍍膜源14產生的離子沉積在收容於該第三通孔2826內的待鍍組件上。在此過程中，該控制器18控制該第一轉子 244轉動從而帶動該四個懸臂26旋轉以使鍍膜均勻。當待鍍組件的一個表面鍍膜完成，該控制器18則控制該第二轉子294轉動從而帶動承載盤28旋轉以實現承載盤28的自動翻面。與此同時，位於一個自由端2644的兩個承載盤28上的相對扇形列的磁鐵286之間產生磁場，該磁場能夠使待鍍組件附近的氣體解離出更多的離子而使離子能量及密度增加， 從而使薄膜更緻密並防止脫膜，且還能提高鍍膜速率。本實施方式提供的鍍膜裝置10及鍍膜支架20通過該第二轉子294轉動從而帶動承載盤28旋轉以實現承載盤28的自動翻面，節省了人力及時間。在鍍膜過程中，該第一轉子244轉動從而帶動該四個懸臂26旋轉以使鍍膜均勻。另外，位於一個自由端2644的兩個承載盤28上的相對扇形列的磁鐵286之間產生磁場，該磁場能夠使待鍍組件附近的氣體解離出更多的離子而使離子能量及密度增加，從而使薄膜更緻密並防止脫膜，並提高鍍膜速率。如圖4所示，為鍍膜完成後，該承載盤28旋轉到收納狀態，此狀態時的鍍膜支架20 所佔空間較小。請一併參閱圖5及圖6，為第二實施方式的鍍膜支架40。本實施方式的鍍膜支架 40與第一實施方式的鍍膜支架20的不同之處在於該懸臂46為長條形結構，該懸臂46包一個連接端462及與該連接端462相對的自由端464。該連接端462垂直該轉動臂42，該自由端464與該連接端462相對。該轉動臂42的底端422為自由端，其沒有裝設承載盤以節省空間。本實施方式提供的鍍膜支架40通過該第二轉子494轉動從而帶動承載盤48旋轉以實現承載盤48的自動翻面，節省了人力及時間。在鍍膜過程中，該第一轉子444轉動從而帶動該四個懸臂46旋轉以使鍍膜均勻。另外，位於一個自由端464的兩個承載盤48上的相對扇形列的磁鐵486之間產生磁場，該磁場能夠使待鍍組件附近的氣體解離出更多的離子而使離子能量及密度增加，從而使薄膜更緻密並防止脫膜，且能提高鍍膜速率。可以理解的是，對於本領域的普通技術人員來說，可以根據本發明的技術構思做出其它各種相應的改變與變形，而所有這些改變與變形都應屬於本發明權利要求的保護範圍。
權利要求
1.一種鍍膜支架，其用於承載多個待鍍組件，該鍍膜支架包括一個轉動臂以及一個驅動該轉動臂旋轉的第一驅動裝置，其特徵在於，該鍍膜支架還包括多個懸臂、多個承載盤以及多個第二驅動裝置，該多個懸臂自該轉動臂延伸，每個懸臂均包括遠離該轉動臂的自由端，該多個承載盤活動連接於該多個自由端並用以裝設該多個待鍍組件，每個第二驅動裝置固設於對應的自由端並與對應的承載盤轉動連接以驅動該對應的承載盤轉動翻面。
2.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特徵在於，該懸臂為長條形結構，該懸臂包括一個連接端及該自由端，該懸臂通過該連接端而連接於該轉動臂，該自由端與該連接端相對。
3.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特徵在於，該懸臂包括一個連接部及與該連接部相連的懸掛部，該連接部包括相對的第一端及第二端，該懸掛部包括相對的第三端及該自由端，該連接部通過該第一端而連接於該轉動臂，該懸掛部通過該第三端而連接於該連接部。
4.如權利要求3所述的鍍膜支架，其特徵在於，該第一驅動裝置為伺服馬達，該第一驅動裝置包括一個第一定子及一個與該第一定子轉動連接的第一轉子，該第一轉子與該轉動臂固定連接。
5.如權利要求4所述的鍍膜支架，其特徵在於，該多個第二驅動裝置為伺服馬達，每個第二驅動裝置包括一個第二定子及與該第二定子轉動連接的第二轉子，每個第二轉子與該對應的承載盤固定連接。
6.如權利要求5所述的鍍膜支架，其特徵在於，該自由端為長方體結構，該自由端包括第一面、第二面、與該第一面平行相對的第三面、與該第二面平行相對的第四面以及垂直連接該第一面、該第二面、該第三面及該第四面的第五面，該自由端開設有貫穿該第一面及該第三面的第一通孔，每個承載盤包括一個本體及從該本體延伸的突出部，每兩個第二定子固設於每個第一通孔內，且兩個第二轉子分別從該第一通孔內伸出並與該突出部固接以將兩個承載盤活動連接於該自由端靠近該第一面及該第三面的兩側。
7.如權利要求5所述的鍍膜支架，其特徵在於，該自由端為長方體結構，該自由端包括第一面、第二面、與該第一面平行相對的第三面、與該第二面平行相對的第四面以及垂直連接該第一面、該第二面、該第三面及該第四面的第五面，每個承載盤包括一個本體及垂直該本體延伸的突出部，每兩個第二定子分別固設於該第三面及該第四面上，且兩個第二轉子分別相對該第一面及該第三面伸出並分別與該突出部固接以將兩個承載盤活動連接於該自由端靠近該第一面及該第三面的兩側。
8.如權利要求6或7所述的鍍膜支架，其特徵在於，該突出部開設有一個第二通孔，該第二轉子螺合或者卡合於該第二通孔內而與該突出部固接。
9.如權利要求8所述的鍍膜支架，其特徵在於，每個承載盤為半圓形結構，且每個承載盤上開設有多個第三通孔以收容該多個待鍍組件，該承載盤上還裝設有多個與該多個第三通孔相間隔的磁鐵以產生磁場。
10.一種鍍膜裝置，其包括一個腔體、一個設於腔體的鍍膜源，以及一個如權利要求1 所述的鍍膜支架，該鍍膜支架位於該腔體內並與該鍍膜源相對。
全文摘要
本發明涉及一種鍍膜支架，其用於承載多個待鍍組件。該鍍膜支架包括一個轉動臂、一個驅動該轉動臂旋轉的第一驅動裝置、多個懸臂、多個承載盤以及多個第二驅動裝置。該多個懸臂自該轉動臂延伸。每個懸臂均包括遠離該轉動臂的自由端。該多個承載盤活動連接於該多個自由端並用以裝設該多個待鍍組件。每個第二驅動裝置固設於對應的自由端並與該對應的承載盤轉動連接以驅動對應的承載盤轉動翻面。本發明還涉及一種鍍膜裝置。該鍍膜裝置及該鍍膜支架通過該第二驅動裝置驅動承載盤旋轉以實現承載盤的自動翻面，節省了人力及時間。本發明還涉及一種鍍膜裝置。
文檔編號C23C14/50GK102220564SQ20101014670
公開日2011年10月19日 申請日期2010年4月14日 優先權日2010年4月14日
發明者裴紹凱 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司