用於流體儲存/分配的碳質材料及利用其的裝置和方法

2023-05-31 10:17:16 1

專利名稱：：用於流體儲存/分配的碳質材料及利用其的裝置和方法
技術領域：
：本發明涉及具有流體儲存/分配及脫硫應用用途的碳質材料，並涉及利用其的裝置和方法。
背景技術：
：碳質材料在許多應用中被用作流體吸附介質(media)，包括流體淨化、流體4諸存和分配、及流體過濾。商業化意義上的一種具體的應用是流體4諸存和分配系統，其中配置有碳質吸附材料以1更吸著地(sorptively)使流體保持處於^皮吸附的狀態，並在適當分配條件下釋放該流體而用於分配，諸如加熱以影響流體的熱脫附的應用、減小壓力條件以影響流體脫附的應用，和/或例如通過4吏與其上吸附有流體的吸附劑相4妄觸的載氣流動以引起流體的脫附以及在載流中夾帶該流體的濃度梯度的應用。2004年6月1號公布(issue)的美國專利第6,743,278號以J.DonaldCarruthers的名義4皮露了一種流體儲存和分配系統，題為"具有整塊式碳吸附劑的氣體+者存和分配系統(Gasstorageanddispensingsystemwithmonolithiccarbonadsorbent)，，，為了所有的目的，該披露內容全文引用於此以供參考。這項專利描述了其特徵為下列特性之一的整塊式碳物理吸附劑(a)在25。C和650託的壓力下測量的砷化氫氣體的填充密度大於每升吸附劑400克砷化氫；(b)吸附劑的至少30%的總孔隙包含具有尺寸範圍為約0.3納米至約0.72納米的縫隙狀孔，以及至少20%的總孔隙包含直徑友吸附劑加熱至乂人100°C至300°C範圍的溫度。本發明還進一步的方面涉及一種流體儲存和分配裝置，包括裝有多孔碳吸附劑的容器，並用於流體在碳吸附劑上的儲存及流體從容器的分配，其中，石灰吸附劑已經經過以下預處理方法進行預處理，該子貞處理方法包4舌將水蒸汽吸附至碳吸附劑上；在從100至500磅每平方英寸的壓力範圍內，使碳吸附劑與惰性氣體相接觸；通過抽真空除去惰性氣體，並將含有水蒸汽的碳吸附劑加熱至從100°C至300°C範圍的溫度。本發明其他的方面、特徵及實施方式在接下來的4皮露內容及所附4又利要求中將更加顯而易見。圖1是根據本發明的一種實施方式的流體儲存和分配裝置的局部剖視的示意性分解正視圖。圖2是組裝的圖1所示的流體儲存和分配裝置的部分剖視的示意性正^L圖。圖3是才艮據本發明的另一種實施方式的流體4諸存和分配裝置的局部剖—見的示意性正^L圖。圖4是才艮據本發明的再另一種實施方式的流體々者存和分配裝置的局部剖一見的示意〗生正一見圖。圖5是用於對含硫烴類給料進行深度脫硫的基於吸附劑的工藝系統的示意圖。圖6是根據本發明的一種實施方式的結合吸附劑製品固定組件的流體4渚存和分配裝置的剖面正4見圖。圖7是根據本發明的另一種實施方式的紅外發射裝置的示意圖。圖8是才艮據本發明的另一種實施方式的流體〗渚存和分配系統的示意圖。圖9是根據本發明的進一步的實施方式的流體^f諸存和分配系統的示意圖。圖10是其中電阻元件之一由碳吸附劑床構成的惠斯通橋電路(WheatstoneBridgecircuit)的示意圖。圖11是根據本發明的另一種實施方式的流體儲存和分配系統的示意圖。圖12是根據本發明的進一步的實施方式的流體儲存和分配系統的示意性剖面正^見圖。圖13是根據本發明的另一種實施方式的流體儲存和分配系統的示意性剖面正4見圖。具體實施方式本發明涉及具有流體儲存/分配和脫石克應用的用途的碳質材料，並涉及利用其的裝置和方法。一方面，本發明涉及以整塊形式向流體儲存和分配容器中設置作為吸附介質的多孔碳。這種整塊形式可包括塊(block)、磚(brick)、杆(rod)等，每一種均由多孔碳形成，其可聚集以形成用於在其上吸附流體並在分配條件下將流體乂人其上進4亍脫附的陣列(array)或組件。在這個方面，多孔碳可包括多個多孔碳製品的組件，或者其可包4舌單獨的整塊式的塊、圓柱、或其他形式的多孔石友吸附劑。在一種4尤選的實施方式中，單塊形式(monolithicform)的多孔石友是圓柱狀的盤，其以堆疊的陣列的方式進行組裝，以使z使具有相同的直徑的連續的多孔^友盤4皮此共軸。通過這種安排可將垂直延伸的堆插入進密封容器中並進行密封，將可吸附的流體裝料至用於將流體吸附在多孔碳盤上密封容器中，隨後儲存其上。此後，將容器配置(deploy)在用於分配所吸附的流體的流體利用位置，並將所吸附的流體/人多孔碳盤脫附。這種包含多孔碳製品的堆疊陣列的氣體封裝可按照於2004年6月1曰/>布的以J.DonaldCarruthers的名義申i青的美國專利第6，743，278號"具有整塊式碳吸附劑的氣體儲存和分配系統(Gasstorageanddispensingsystemwithmonolithiccarbonadsorbent)，，中的更具體的描述製成，為了所有的目的，該披露內容全文引入於此以供參考。在包含設置有多孔碳盤或其他多孔碳形狀的堆疊或其他集聚陣列的這種氣體封裝的一些應用中，個體的多孔碳製品容易運動，在容器中會產生聽得見的咯咯聲。如果容器正在輸運過程中或正在進4亍運動，例如，在牽引車-拖車的拖車中，整塊式碳製品的運動會使其產生相對於密封容器的動量，當密封容器運動終止時，整塊式碳製品會與密封容器的內壁表面發生碰撞，引起過度的噪音，並會對整塊式>^友製品造成損傷。為了陳述這些公布內容，本發明在另一方面提供了在密封容器中的位置穩定化結構，以便將整塊式吸附劑製品保持在位置上，並限制其彼此間及相對於容器的運動。這種位置穩定化結構可以是有效地將整塊式吸附劑製品固定並保持在容器中的位置上任意的適合的類型。該位置穩定化結構例如可包括填料(packing)、固定盤、回彈(resilient)壓縮元件、隔板(screen)、袋、吸附劑製品的結構(例如，具有才莫製成型或用其4也方法形成的單獨的5^附劑製品，以進行互鎖或其他方式的彼此接合，以便在陣列中對其進行定位固定)，容器內壁構造(例如，容器內壁表面上的縱肋(longitudinalrib)，其在垂直的堆疊盤陣列中連接連續吸附劑盤的圓柱狀的側表面的通道)等，作為適合於給定的採用整塊式吸附劑製品陣列的流體儲存和分配裝置。有利地，位置穩定化結構由下列材料形成，諸如非反應性金屬和金屬合金、陶瓷、聚合物、及它們的組合。具有可在本發明的和碳。在一種實施方式中，在位置穩定化結構中採用了盤和彈簧組件，以1更在多製品陣列中固定整塊式吸附劑製品的位置。圖1是示出了這種方法的流體儲存和分配裝置10的部分剖面的示意性分解正^f見圖。流體儲存和分配裝置10包括由圓柱側壁12和底板14形成的容器，其與圓形頂壁蓋40—起圍成內部容積18。在內部容積18內，a尋整塊式多孑匕碳盤22、24、26、28、30、32、34、36禾口38布置為垂直堆疊陣列20。最頂部的盤內具有中心開口44，以便容納向其4翁入的閥頭組4牛46的顆衝立過濾器58。整塊式多孑匕碳盤22、24、26、28、30、32、34、36和38，每一個均;波此共軸，且每一個均具有相同的直徑，並且各個盤的圓柱側表面均相互間垂直地對齊(aligned)。如所示出的，容器的底板14可選地包括中心凹陷部16。可將圓形頂壁蓋40以《壬意合適的方式固定於容器的圓^i側壁12，例如，通過焊接、銅焊、機械扣緊等。另外，可在圓柱側壁的上部將其內表面》走出蟲累糹丈，由》匕，具有互4卜蟲累糹丈(complementarilythreaded)的頂壁蓋可與圓^主側壁進^亍螺^走連"l妄。頂壁蓋中具有中心開口42，該開口由可與閥頭組件46的具有互補螺紋的管狀部分56螺;旋連接-的帶螺紋表面所限制。閥頭組件46包4舌其中具有閥元件的主閥體48，該閥元件可在完全打開和完全閉合的位置之間移動。這種閥元件通過閥杆52連結至手4侖54。將主閥體48中的閥元件i殳置在閥腔或工作容積中，其與固定於主閥體48的出口50的分酉己埠相連通。閥腔與閥頭組件的帶螺紋的管狀部分56的通路(passage)連通，然後將這種帶螺紋的管狀部分與顆粒過濾器58相連。圖1的實施方式中的位置穩定化結構包括置於頂壁蓋40的中心開口42中的巻繞彈簧60,及置於最上部的吸附劑盤22的頂部表面的上部分布板62。如圖示，上部分布4反62通常與堆疊盤陣列中的盤具有共同擴展(coextensive)的直徑，且具有容納顆外立過濾器58的通路(通過其可進入最上部的吸附劑盤22的中心開口44)的中心開口。在其4也的實施方式中，上部分布才反可以大於或小於堆疊陣列中的盤的直徑。當閥頭組件46與中心開口42通過螺紋進^f亍螺紋4妄合時，巻繞彈簧^皮壓縮而施壓在分布4反上，其隨後在多孔-友盤的垂直多孑L陣歹ll20上施力口壓縮3義載壓力(compressivebearingpressure)。圖1的實施方式中的位置穩定化結構可選地進一步包括下部分布板64,將其設置為與凹部(dimple)16(其在流體儲存和分配容器的內部容積18中形成突起支承表面)連接。因此，將下部分布板64置於凹部16的承載表面上，並隨後將多孔,灰盤的垂直堆疊陣列20置於這個分布4反的主上表面上。通過這才羊的安4非，可將多孔碳盤的垂直陣列20壓縮地裝入上部分布板和下部分布板之間，從而固定該陣列，防止堆的運動、或單個盤彼此之間的運動。根據特定的實施方式的需要或期望，還可以通過託架(bracket)、擱板元件(shelfelement)、或其他的固定結構，將下部分布才反固定於容器內部容積的下部的^f立置。圖2是組裝的圖1的流體4諸存和分配裝置10的部分剖面的示意性正4見圖，閥頭46在帶螺紋的管狀部分56處螺4妄於圓形頂壁蓋40，且用上部分布板62和下部分布板64來保持多孔碳盤的垂直堆疊陣列20的位置不發生移動，並且不會對容器的內壁表面造成衝擊。圖2中的流體J諸存和分配裝置10的部件和元件對應於圖1中的相同的元件進4亍標號。圖3是才艮據本發明的另一種實施方式的流體^f渚存和分配裝置110的局部剖面的示意性正^L圖。在圖3的實施方式中，通過對圖1和圖2中的相應的部件和元件的序號加100，而將與圖1-2的實施方式中的7於應的部4牛和元4牛進4亍相應的才示號。圖3的實施方式與圖1和圖2的實施方式不同，其以巻繞彈簧180的形式，在容器的下部設置了螺旋狀壓縮元件。巻繞彈簧180處於容器的底玲反114上，並對分布^反164施加向上的壓縮力，其隨後將壓縮力傳至垂直堆疊陣列120中最低的多孔碳盤的整個底部表面。這種雙彈簧安排增強了下部分布板164的載荷承載特性。圖4是根據本發明的另一實施方式的流體儲存和分配裝置10的局部剖面的示意性正一見圖，其中，通過對圖l-圖2中的相應的部件或元件的基準序號加200,將與圖1和圖2的實施方式的對應的部件和元件進4於對應的標號。在圖4的實施方式中，位置穩定化結構包括網狀材料2卯的填充物，可以將其設置為包裹多孔碳盤的垂直堆疊陣列220的絮狀或片狀材料的形式。另外將網狀材料設置於內部容積218的上部，覆蓋陣列220中最上部的多孔碳盤的主上表面，以及在內部容積218的下部，覆蓋陣列220中的最低多孔碳盤的主底部表面以下。在上述實施方式中所用的彈簧可由具有與所利用的化學組成相適應、並與分配流體所採用的工藝相適應的結構的4壬意適宜的材料形成。在容器"內關閉(valvingin)，，(即，將帶螺紋的管狀部分56的螺紋與圍繞頂壁蓋中的開口42的螺紋進行旋轉連接)之前，將上部的彈簧置於帶螺紋的圓筒開口(例如，如圖1中示出的頂壁蓋40中的中心開口42)中。確定上部彈簧的尺寸以4吏得閥調節過程(valvingprocess)壓縮處於閥底(管狀帶螺紋部件56的底表面)與覆蓋多孔碳製品的垂直堆疊陣列中的最上部的多孔石友製品的分布才反之間的彈簧。已經i人識到，在一些情況下並不需要覆蓋最上部的多孔碳製品的分布板，通常其為穩定化結構的可選捧的附加部件，^旦通常優選這才羊的才反將由彈簧施加的壓縮力傳至堆疊陣列中的相鄰多孔^友製品的整個表面區域上。選擇由壓縮的上方彈簧施加的足夠大的力，以使整塊式多孔碳製品之間、多孔碳製品與密封容器之間、最高多孔碳製品與彈簧之間的摩擦力限制並優選消除伴隨著容器的操作(handing)、運輸或其^也平移，以及只於由於衝擊、振動和石並糹童的運動的每丈感性而發生的多孔碳製品的運動。因此，位置穩定化結構阻尼(damp)了任意多孔碳製品之間以及與密封容器內部之間的任意接觸的力，由於這樣的才妄觸而導致對多孔^岌製品的可能石皮壞降至最J氐，並且由這種4妄觸導致最小化或消除噪音。對於配置與陣列中的最上部的多孔石友製品相4妄觸的彈簧的可替代方式(approach),是在焊接圓筒之前將彈簧插入，以使彈簧的上端與密封容器的頂壁蓋的內面相接觸，並使彈簧下端與最高多孔碳製品(或其上的分布板)相接觸。在密封容器中的多孔碳製品的堆疊陣列下方設置第二個下部的彈簧(如圖3)，使位於各上部彈簧和下部彈簧之間的堆疊陣列懸置，並使多孔碳製品和密封容器的內表面的接觸減至最小或消除接觸。這種方式還起到阻尼多孔碳製品和密封容器內表面之間的任意*接觸的作用力的作用，以〗吏由於這種4妻觸而對多孔石灰製品的石皮壞的發生率減至最小，並使由這種接觸導致的噪音減至最小或消除。如所示，壓力分布板的i殳置起到將由彈簧施加的壓縮力分布(distribute)至一個或多個與分布板相接觸的多孔碳製品的整個表面區域的作用。這種力的分布降^f氐了多孔碳製品由於突然石並撞而石皮裂的可能性。一般地，彈簧可以是任意適當的類型，包括但不限於巻繞形彈簧、波浪形彈簧、o型圈、聚合物彈力墊、多重巻繞形彈簧、多重波形彈簧、多重聚合物彈力墊。如圖4中示例性示出的，在位置穩定化結構中4吏用的填充材料可用於限制或減少密封容器內多孔碳製品的運動。填充材料可以是任意的合適的組合物，並可以是布料或網狀材料的形式。在一種優選實施方式中，在將多孔碳製品插入進密封容器的內部容積中之前，將多孔碳製品包裹在由碳纖維(優選由活性炭形成)製成的布料中。這種多孔碳製品的包裹起到減少(dampen)多孔碳製品的堆疊陣列與密封容器的內表面之間的所有接觸的作用，並可提供明顯獨立的氣體儲存容量，以增大包裹在碳纖維布料中的多孔碳製品的氣體儲存容量。通過方便的簡單經驗確定，可使包裹材料的網目尺寸容易地達到最優，以使氣流穿過包裹材料以滿足所分配的流體的終端應用的工藝要求，同時能夠有效地減少振動、同時保護(concurrentprotection)多孔碳製品，並4吏對密封容器內部容積中的包裝(wrapped)的堆疊陣列的體積要求降至最小。如圖4中示出的，可將來自填充才乘作的過多的包裹介質遺留在密封容器中的內部容積的上部和下部，以起到堆疊陣列的襯墊(cushion)的作用。可在將多孔碳製品插入進密封容器的內部容積中之前，用包裹介質簡單地包裹該多孔碳製品，在各末端將過多的包裹材料摺疊或巻曲，以構成堆疊陣列之上或之下的額外的襯墊塊(cushioningmass)。可替代地，可在通過其開口端將多孔碳製品》文置於管內之前將包裹介質預形成至密封管，並密封這個開口端。如果採用極細的網包裹介質，則這種介質還起到顆粒過濾器的作用，以防止孩i粒(particulate)(例如可存在於多孔碳製品上)在流體從其中進行分配的過程中從密封容器中遷移出。總之，根據材料相容性的考慮，對於在流體儲存和分配裝置中使用的材料和在流體利用裝置中或接收來自流體儲存和分配密封容器的所分配的流體的工藝中〗吏用的材^1",包裹介質可以是4壬意適合的類型，且可具有任意適當材泮+構成，諸如石友、玻璃纖維、金屬、聚合物等。人們將認識到，在本發明廣泛實踐中，可對用於維持固定位置上的整塊式多孔碳製品陣列的位置穩定化結構進行寬泛的改動，利用了各種結構元件和方法，以使容器的內部容積(其中布置有多孔碳製品)中的多孔碳製品的運動最小化或消除。在本發明的另一個方面，多孔碳吸附劑被用於從諸如汽油、噴氣燃津牛或柴油、或原油、石油或它們的其他的前體或源材料的烴類物質給料中將高度難熔、(通過標準催化脫石克才支術)難以除去的芳香族含硫分子。目前在世界性環境立法中存在一種趨勢，即要求改進對來自汽油燃料和柴油燃料交通工具的排放物的控制。對於這種燃料，必須除去給料中的含碌^分子，以使催化控制在為滿足新的立法約束的必要的排放控制水平上是有效的，(例如，在美國，2006年以前必須將汽油中的碌u7jc平乂人目前的300ppm的好J艮制為30ppm，且2006年以前必須爿,柴油燃衝牛中的發J人目前的最大值500ppm降至15ppm;同時，日本要求2007年以前將柴油燃#+中的石克降至10ppm;歐盟要求在2005年將汽油中的石克含量P爭至50ppm;且德國要求2006年以前將柴油燃衝牛中的碌u含量降至10ppm)。用於車輛應用的新開發的燃料電池發動機(利用隨車攜帶燃料處理機進行操作)，需要達到比傳統的內燃機動力系統所要求的更高的脫硫水平。例如，聚合物電解質薄膜(PEM)燃料電池發動機通常需要低於lppm的；危7jc平。目前的催化加氫脫硫技術能夠達到使硫水平接近於所要求的限制，特別是對於柴油燃料，但仍存在難以轉化的非常難熔的硫分子。這些剩餘的難熔石克分子往往是位阻分子，諸如二苯並p塞，，分、4-曱基二苯並噻吩和最難熔的4，6-二曱基二苯並噻吩。在汽油生產中，餾出物中的石腦油餾分中的石危分子不包含所有的上述難熔分子，^f旦是存在另一種複雜情況。這種餾分的加氫脫石克在理i侖上非常有效，但傳統加氫脫硫設備的操作條件會將許多的"高辛烷值(high-octane)"的烯類分子轉變為'M氐辛烷值(lowoctane)"的飽和物，隨後4吏燃料質量下降(烯類以高達汽油餾分的40%的量存在)。本發明利用具有多孔性的主要由直徑小於lnm的孔構成的納米多孔碳，通過諸如二苯並瘞吩、4-曱基二苯並噻吩和4,6-二甲基二苯並遂:吩的難熔碌u分子的吸著性移除效果而克"l了這種缺陷。因此，本發明考慮了使用這種類型納米多孔碳用以除去難熔的、扁平構象分子，否則其會對於實現超低硫燃料構成阻礙。在本發明的一種實施方式中，納米多孔石友由聚偏氯乙烯(PVDC)衍生的碳構成，其可為從液相運輸燃料(汽油、柴油、噴氣燃料)中除去難熔的含硫分子提供高效的吸附介質，以實現滿足環境立法約束的必需的深度脫石克水平。才姿照於在2004年6月1號以J.DonaldCarruthers的名義^^布的題為"具有整塊式碳吸附劑的氣體儲存和分配系統(GasStorageandDispensingSystemwithMonolithicCarbonAdsorbent)，，的美國專利第6,743,278號的更全面的描述，適宜地形成了納米多孔PVDC碳，其才皮露內容全文引入於此以供參考。圖5是用於含硫的烴類化合物進料進行深度脫硫的基於吸附劑的工藝系鄉克300的示意圖。如圖5所示，該工藝系統包括兩個吸附器302和304,並排(manifold)放置在一起，以使流體經此流動。每一個吸附器均包括其內具有納米多孔碳床的容器。如在本發明的工藝系統技術中所給出應用中需要和期望的，該床可以是固定床或流化床。在固定床的情況下，該床可由整塊式(大塊形式)的納米多孔石灰製品形成，而在流化床的情況下，其由細分的顆粒構成，例如，以圓柱形小片、5求形顆粒、環、十字形物件等的形式，或適於進4於流化並且可有效地將高度難熔的疏化合物從包含其的烴類化合物原料中除去的任意其他的形狀或形式。通過連接至各個進料管線(feedline)308和312(其內包含流量控制閥310和314)的入口歧管306將兩個吸附器302和304獨:此並排放置(manifold)。另外，將進4,管線308和312連4妄至淨化管線(purgeline)320,包括其內包含流量控制閥322的淨化管線的遠端部分，並與進料管線12相連；其內包含流量控制閥326的分支管線324與進料管線308相連。淨化管線320以流動連通的方式與淨化氣體源(圖5中未示出)相連。通過包括排料歧管管線322的出口歧管組件，將兩個吸附器302和304在其出口端也彼此並排設置，吸附器302連接至其內包含流量控制閥346的排料管線328，吸附劑304連接至其內包含流量控制閥344的排料管線330。如以下更全面的描述，排料歧管管線322連接至產品管線348,以使脫硫的烴流向混合器350，在其中與來自力口氫脫碌u反應器374的加氫脫石克的烴混合，以產生超J氐碌L產品烴類化合物流(stream),其從排料管線352中的混合器排出。出口歧管組件還包括其內含有流量控制閥338的用於從吸附器304排出脫附物的脫附物排出管線336、及其內包含流量控制閥342的脫附物排料管線340，用於將含硫脫附物從吸附器302排出。隨後將各條脫附物排出管線336和340連接至脫附物進料管線362，其將含-克脫附物進並+至蒸發器360。蒸發器360產生高石克餾分爐底(bottom)，其在線372中流動並流至加氫脫硫反應器374,以便與由氫進料管線373可1入至該反應器的氫發生反應。然後，使來自加氫脫硫反應器的經加氫脫疏的烴類化合物在管線376中流至分離器，由於管線382中進行塔頂排料而橫>克化氫和氫氣分離，且脫碌^的烴類化合物爐底(bottom)在管線384中;克至〉、昆合器350。蒸發器360產生貧硫的(sulfur-depleted,或含硫量減少的)塔頂餾出物，其在循環管線364中通過冷卻器366中的熱交4奐通^各368流動，以濃縮貧硫的塔頂餾出物。然後將貧硫的塔頂餾出物從管線370中的濃縮器流至淨化氣體進^牛管線320，以〗更再循環至載流(on-stream，或流禾呈中的，或運轉的)p及附器。通過乂人蒸發器至載流吸附器的貧硫的塔頂餾出物的濃縮和循環，可提高管線352中最終排出的作為產品的純化烴類化合物的總產量。在操作過程中，吸附器302和304之一對於在入口歧管流進該吸附器的進料烴進行載流(onstream)活性處理(activelyprocessing),以產生降低硫的烴流。降低硫的烴流通過排出歧管從這個吸附器排出，並流至混合器。載流吸附器處理烴類化合物時，4f用(off-stream)p及附器在其停用期間的一部分中利用引入淨化(purge,淨化)進料管線320的並流至該4亭用(off-stream)吸附器的適當的淨化介質進4亍淨化。淨化操作實現了高度難熔硫化合物從納米多孔碳吸附劑的脫附，脫附的化合物在載體淨化氣體流中^皮輸送至蒸發器360。圖5中示出的工藝系統300在吸附器302和304中利用了納米多孔PVDC吸附劑，能夠產生其中的二苯並噻吩、4-曱基二苯並噻吩和4，6-二甲基二苯並瘞吩均小於lppm的脫硫的產品烴類化合物。用於這種脫硫方法的特別優選的納米多孔碳吸附劑是PVDC焦化(char)材料，其至少30%的總孔隙由尺寸範圍為約0.3至約0.72納米的裂縫狀孔構成，以及至少20%的總孔隙包含直徑<2納米的孔，具有從約0.80至約2.0克每立方釐米的體積密度(bulkdensity)。本發明在另一方面涉及基於吸附劑的儲存和分配裝置，包括具有其內設置有多個單獨的吸附劑製品的內部容積的容器，採用連接結構將單獨吸附劑製品相互連接，以便使它們位置穩定，不會發生卩波此之間的相對運動，且將連4妄結構固定至容器。至少一個杆，其中，該杆具有固定至容器的第一端和與^4戒緊固件連接的第二端，例如，通過帶螺紋的連接器。杆在其第一端可與容器螺接。可將容器構造為包括固定有連^妄結構的閉合件(closuremember)。在優選實施方式中的單獨的吸附劑製品相互連4妄以形成這種單獨吸附劑製品的組件，該組件不與容器的內表面相接觸。每個單獨的吸附劑製品可以是盤狀，該盤狀製品通過連接結構進行連接，以形成位置固定的吸附劑製品的堆。該盤狀製品可以是任意適合的尺寸。優選地，所有這些盤狀製品具有相同尺寸，以^更在堆疊時，盤狀製品的堆在形式上為圓柱形。連接結構可以是任意適當的類型。如所述的，連接結構可包括4幹，當吸附劑製品形式如此時，每一個單獨吸附劑製品可包括穿過其的開口，以使杆穿過每個堆疊製品中的開口延伸。當堆為圓柱形式時，杆可沿平行於堆的中心軸的方向穿過堆延伸。堆中最〗氐的吸附劑製品可在其內形成腔，以容納連結至杆的緊固件。該裝置可包4舌兩個或多個4幹，例如，空間上4皮此分離的兩個杆。堆中的最高吸附劑製品同樣可在其內形成腔，其中至少部分地設置有顆粒過濾器。顆粒過濾器可與用於分配來自容器的流體的閥組件相連接。閥組件可與容器螺接，且可包括流量控制件，其在閥組件的閥腔中與閥元件連接，以使閥元件在完全閉合位置和完全開口位置之間進行移動。因此，本發明涉及基於吸附劑的儲存和分配裝置，其可具體化為具有內部容積的容器，具有在內部容積中並固定於容器的安裝件，且多個單獨吸附劑製品安裝在內部容積中的安裝件上，以4吏單獨吸附劑製品位置穩定，彼此之間不發生相對運動。在優選實施方式中的吸附劑包括碳，但更通常地可包括任意適進行分配的流體具有吸著性親和力)。使用中的吸附劑上具有儲存的流體，其從容器進行選擇性的分配，例如，流至孩t電子器件製造i殳備或其他流體利用裝置。所吸附的流體可以是任意適合的類型，例如，諸如有才幾金屬前體、氫化物、卣化物、酸性氣體等的用於半導體製造中的流體，或用於太陽能電池、燃料電池等的操作的流體。裝有吸附劑製品的容器可具有與容器連接的分配組件，用於將流體/人容器分配至下遊流動回^各(flowcircuity)或其^M吏用或運糸的場所。:命在容器中，可將塾片(gasket)或襯墊元件、或壓力分布板設置為與多個單獨吸附劑製品(其通過上述杆和機械緊固件組件、或其他位置固定結構進行位置固定)中的至少一個單獨吸附劑製品接觸。這些元件的目的是增大吸附劑製品的裝配對於在發生4展動和石並撞時的破壞的抵抗能力，且進一步減少單獨的吸附劑製品任何相對運動(其可導致產生孩i粒或顆粒)的發生。圖6是才艮據本發明的一種實施方式的結合吸附劑固定組件的流體+者存和分配裝置400的剖面正4見圖。流體儲存和分配裝置400包括流體儲存和分配容器401,其具有容器側壁402和其內具有中心凹陷(dimple)404底^反403。該裝置包括頂部閉合件408，其具有中心開口490以容納穿過該開口的閥頭組件的螺紋杆436的通道。螺紋杆436具有連接至其下端的顆粒過濾器438,其起到過濾所分配的流體以便將微粒和顆粒從其中除去的作用。通過最上部的物理p及附劑製品中的中心開口4224奪顆粒過濾器438容納在其底端。閥頭組件包括其內含有閥腔(圖6中未示出)的閥體430，該閥腔與排料通道連通。閥腔包括可平移的閥元件，其可在完全打開和完全閉合位置之間移動，且閥元件與對閥進行手動致動的閥操作手輪(handwheel)432相聯。容器401和頂部閉合件408—起容器的內部容積封閉，該容器中設置有物理吸附劑製品或圓盤(puck)的垂直堆疊陣列，其每一個均為圓柱盤形狀，且當將側表面相互對齊而進4亍堆疊時，形成圓筒形的整塊式吸附劑製品406。頂部閉合件408中還包4舌開口460和462，其中，才幹412和414以螺旋地、焊接地、壓配合或其他方式連接至頂部閉合件。杆412和414向下垂直延伸，穿過物理p及附劑圓盤的堆，並在底端由鎖定糹且4牛(lockingassembly)415進4亍固定。特別i也，才幹412和414底端的斥幹為帶螺紋的，該帶螺紋的端與螺母416和418螺合。^l誇螺母416和418置於堆疊陣列中的最底部圓盤的相應的開口中。通過在帶螺紋的杆上擰緊螺母，直至螺母與腔的底板進行支承性(bearing)接觸，將垂直堆疊圓盤陣列保持在固定位置。利用杆固定堆疊圓盤陣列時，可採用墊圈(washer)、環(ring)、鎖定螺母和墊片(gasket)作為固定4牛(fixturingassembly)。該固定^H吏堆疊圓盤陣列在容器401的內部容積中實現了位置固定，以^f吏陣列中的單個圓盤不會相互摩擦而產生微粒或粉塵，且使圓盤不會發生-波此間的平移而產生不希望的p喿音。在通過杆組件進行固定的堆疊組件中，如所-說明的，通過將杆穿過圓盤中的開口，可將杆固定至閉合構件，或可替換地，固定至容器的底板。如所述，可通過與閉合構件或基座中的帶螺紋的螺旋才妄口(threadedreceivingopening)蟲累4矣、或通過火早4妄、月交合、壓西己合或4壬意其他的固定方法或方式將才幹的一端固定(固定至閉合構^f牛或固定至容器的底板)。通過螺母或其他的諸如《垂擊(peening)、月交合、壓配合等的緊固4支術將圓盤固定於杆上。可在圓盤之間、或緊固件與圓盤之間、或閉合件和圓盤之間的接觸表面裝配墊片，以防止所指出的圓盤和硬質表面之間的接觸，以使對圓盤小區域的壓力過大的發生率降至最低，否則其會造成圓盤的斷裂。從而裝配墊片(gasketing)起到了為圓盤減振的作用。不論是否有其他的墊片或襯墊型材料，都可在設計中引入彈簧和鎖緊墊圏，以便還提供減振。將緊固件與諸如壓力分布板或墊圏等壓力分布4支術相結合，以1更轉移更大表面積上的壓力，以〗吏圓盤損壞的可能性降至最低。可通過杆的直徑和長度、圓盤堆疊陣列的高度、圓盤的機械特性、杆的枳4成特性及該流體+者存和分配裝置預期-使用應用(useapplication)的維4奮才喿4乍(service-handling)要求，確定在固定件中4吏用的才幹的^t目。可通過杆的直徑和長度、圓盤堆疊陣列的高度、圓盤的機械特性、杆的機械特性及流體儲存和分配裝置預期使用應用的維修操作要求，確定構成在流體儲存和分配裝置中使用的密封圏、杆、緊固件、分布板和彈簧的材料。本發明的堆疊的圓盤陣列固定件克服了由於容器中堆疊陣列中組成圓盤發生運動而出現的問題，並防止了這些問題對流體儲存和分配裝置的使用壽命、性能造成不利影響，或因產生噪音給使用者留下負面印象。固定的堆疊陣列為圓盤提供了更高的穩定程度，因為圓盤在容器的內部容積中進行位置固定以達到圓盤本身發生孩吏小的獨立運動或不會發生獨立運動的程度。本發明另一方面涉及紅外發射裝置，包括具有裝有處於吸附狀態的矽烷氣體的內部溶劑的容器。該容器包括氧選4奪性滲透元件，其使氧從容器的周圍環境中選擇性地進入內部容積，且將絕緣介質設置於適合用於提高裝置的紅外發射率的容器的內部容積中。在一種優選實施方式中，將容器中的矽烷氣體以吸附的狀態保持(hold)在碳吸附劑上，例如，諸如圓柱形或矩形塊或磚的整塊式的吸附劑、或細分的或其他形式的吸附劑。可在任何壓力下，例如低於大氣壓的壓力下，將矽烷氣體保持在容器的內部容積中。絕緣介質可包括例如矽基氣凝膠熱絕緣體，氧選擇性滲透元件可包括適合類型的選擇性透過膜。容器可由任意合適的材料形成，諸如塑料材料或玻璃材料。可選地，該容器可包括內部容器中的反射元件，該反射元件適於降低來自容器的熱傳導性熱損失，並控制發射率使其與提供延長持續時間的來自裝置的紅外輻射信號的要求相一致。在優選的實施方式中，將該裝置設計為裝有足夠的矽烷氣體，並使足夠的氧進入以便產生至少五天的紅外輻射信號，更優選至少IO天的的紅外輻射信號，最優選至少15天的的紅外輻射信號。相又十於iE見有4支術中利用的4b學發光才示"i己(chemicallightingmarkers)(其最佳的信號持續時間僅為一天中的一段時間)，這種延長的持續時間的IR信號達到了本領域的實質性進展。因此，本發明提供了一種產生延長的紅外輻射信號的方法，該方法經由氧選擇性滲透元件進行氧的滲透，並佳二滲透過的氧與保持吸附狀態的石圭烷反應，乂人而產生輻射信號。在實施這種優選實施方式中的方法中，其中，滲透過的氧和石圭烷在容器中進行反應，該容器中裝有其上含有被吸附的矽烷的碳吸附劑，優選在容器中具有絕緣介質，設置絕緣介質是為了增強源自矽烷和滲透的氧的反應的紅外發射，而且如前述，碳吸附劑優選為整塊形式。術語"增強"是指源自矽烷和氧的反應的發射，意指相比於未採用絕緣介質的相應的反應中可獲得的發射率，源自這種反應的紅外發射率更大。本發明的一個具體方面涉及紅外發射標記條(stick),其產生了可通過紅外檢測裝置(apparatus)檢測到的信號。紅外標記條客服了關於目前所用的化學發光杆的涉及使用壽命的問題。通常，化學發光杆具有3-8小時的發光壽命。本發明的紅外標記條提供了更長連續發射器裝置，其降低了對於給出的終端應用的所需的杆的悽t目，並實現了長發射器壽命的應用，這是目前的化學發光標記條不只,以達到的。本發明的紅外發射標記條利用了矽烷氣體的緩慢受控燃燒，以維持持續上升的溫度。將矽烷(一般認為是危險性氣體)用於本質上安全且能量高效(energyefficient)的裝置中的紅外發射標記條。本發明的紅外發射標記條包含四個基本組成(i)矽烷氣體，容易商購獲得的氣體，(ii)整塊式的納米多孑L石友吸附劑，可/人ATMI，Inc.(Danbury,CT，美國)商購，商標為"Mblock，，，(iii)石圭基氣凝月交熱絕桑彖體，可/人AspenAerogels，Inc.商購，商才示為"Spaceloft，，，以及(iv)氧選才奪性流速限制月莫介質，例如，可/人MottMetalurgical商購的種類。在本發明的紅外發射標記條中，在合適的壓力下，將石圭烷以合適的量〗諸存在納米多孔石友吸附劑上，以用於所需的標記應用。例:^，在鄉合出的實施方式中，在3804乇的壓力下，S誇0.75mo1的矽烷儲存在納米多孔碳吸附劑上。以合適的速度，例如示例性實施例中的1.3sccm，將氧滲漏過氧選衝奪性流速限制膜介質。在氧存在下燃燒矽烷氣體，以形成Si02和H20，每摩爾矽烷釋放1.5兆焦。在1.3sccm的02'滲透速率下，產生了0.73瓦特的能量。可將氣凝膠絕緣體與金屬反射器組合使用，以使由熱導率的影響導致的損失P爭至最4氐，並控制方文射率孔(emissivityaperture),結果導致中心溫度上升，而外部溫度的上升可忽略。然後，產生的0.73瓦特的能量通過IR輻射被散逸，產生了IR信號。基於Si02的絕緣體基本上是IR可透過的。結果，在0.73瓦特的輻射速率下，0.75摩爾的SiH4將持續約17天。本發明的紅外發射標記裝置的優點包括(i)產生高的比能量密度(例如，在每克起始物質的基質上，為相應的鐵氧化物的6.5倍)，(ii)提供較長的使用壽命，相比於3-8小時的化學發光條，對於鐵基熱裝(heatpack)其可高達20小時，(iii)僅使用低成本組分(Si02絕緣體、SiH4氣體、碳、鋁屏)，不需使用昂貴的前體金屬催化劑，(iv)產生無毒的終產物(木炭、沙子和水)，而不同於基於的丁烷加熱器，以及(v)因為矽烷氣體被容納在低於大氣壓的壓力下而實現了低於大氣壓的壓力的安全性。圖7是^^艮據本發明的另一實施方式的紅外發射裝置500的示意圖。發射裝置包括由塑料或玻璃材料製成的容器502,其中設置有片(block)或其他優選的大塊(bulk)形式的吸附劑506。吸附劑體上〗呆持有一皮吸附的石圭烷508，且由紅外可透過性熱絕》彖體512包裹或圍繞。該容器^皮多孔氧分離器和限流器元件(flowrestrictorelement)504所^隻蓋(cap)，其具有選擇滲透性，允許氧進入容器並在其中與吸附劑上所吸附的矽烷發生反應。在容器的內壁表面上安裝有反射器516的陣列。可基於對石圭烷儲存容量、幾何比例(尺寸i殳想的4吏用壽命(lifetimeconsideration))、分離器/P艮流器元件的種類和特性、矽》克/氧反應的燃燒速率，及隨後的熱增長、容器結構材料的性質、以及容器中矽烷氣體的填充壓力的選擇，容易地對本發明的IR發射器裝置進行設計，以在預設時間內提供所需的IR信號。相應地，可根據經驗來選擇這種設計的變型、模型化(molded)和/或實驗上的改動，以確定適用於給定應用的IR發射器裝置，以便在延長的時間長度內提供IR信號(signal)。本發明的紅外發射裝置結合各種適用類型的IR探測器和傳感器，可應用於很寬範圍的終端用途，包括，但不限於，測量、定位、地理標記、目標標記、膨開作為應急救援信標、追蹤野生生物、導向(orienteering)及其他娛樂用途等。在IR發射器裝置中，以及在本發明的其他實施方式中所利用的碳吸附劑可以是任意合適的種類，例如可以包括支持(supported)和加固4犬態(consolidatestate)的石友納米管，i者力口其內具有生長的碳納米管的氣凝月交整塊(monolith)(如於2005年6月14日公布的Stmther等的US專利第6,906,003號中所描述的)，或4吏用納米纖維和"膠合"劑形成的納米多孔結構(於2002年8月13日公布的Tennent等的美國專利第6,432,866號中所描述的)，因此，該4皮露內容分別全文引入於此以供參考。本發明在另一方面利用了作為導體的碳的具有顯著的電阻係數的電性能的優勢，其可使碳吸附劑帶電，以便影響用於剩餘的吸附流體的脫附電阻和/或感應加熱。通過向碳吸附劑輸入電能，可/人碳吸附劑除去後跟(heel)流體，從而獲得了相比於迄今為止在低^壓碳吸附劑基流體儲存和分配操作中的可能的更高的流體利用度，而不需要對容納有碳吸附劑的容器進行外部加熱。本發明的一種實施方式涉及流體儲存和分配裝置，包括支持裝有碳吸附劑的流體儲存和分配容器、用於在分配條件下將流體從容器進行分配的分配組件，以及適合於其向碳吸附劑輸入電能作為其電阻和/或感應加熱以影響流體從碳吸附劑脫附的電源組件。電源組件可按任意適當的形式進4亍配置(configure)。在一種實施方式中，電源組件包括至少一個適用於向碳吸附劑傳輸(transmit)電能的電極，例如，設置成與碳吸附劑製品相接觸的電極。可以將碳吸附劑製品設置於容器中的堆疊陣列中，而且當容器包括導電結構材衝+時，該電源組件可包括與容器相連的電傳豐lr線。導電材衝牛可以是金屬，例如鋼、鐵合金、鋁、鈦等。還可將流體儲存和分配系統配置為包括與碳吸附劑相接觸的多個電極。在一種實施方式中，可將碳吸附劑設置為長度延長的構造，下文將進行更詳細的描述。例如，長度延長的構造可包括螺^走狀構造石灰吸附劑，其在各個末端與電源組件相聯。電源組件可包括任意合適類型的電源，包括射頻電源、DC電源、AC電源等。可通過電源線將-友吸附劑與電源相聯，並將電源設置為與碳吸附劑進行可拆卸的連接。在一種實施方式中，電源組件包4舌惠斯通橋電^各，其中碳吸附劑為該電^各的電阻元4牛。在其他各種實施方式中，碳吸附劑為感應性電阻加熱的，諸如通過4吏用這樣的線圈(coil)，其i殳置為對含碳吸附劑的流體儲存和分配容器的至少一部分進4於非4妻觸式環繞。在這樣一種實施方式中，流體儲存和分配容器包含第一變壓器繞組，其適用於向碳吸附劑輸入電能，用於感應其中的渦電流。與容器內的第一變壓器繞組發生電感耦合的是容器外的第二變壓器繞組。可通過與第二變壓器繞組構成電路布置的電線，適當地將第二變壓器繞組連接至交流電源。在另一實施方式中，電源組件包括設置於流體4諸存和分配容器中並延伸至其外，然後與容器的電接頭接觸的電極，該容器包括金屬材衝牛的結構。在這才羊的實施方式中，電接頭和電才及的外部部分通過電源而連接。當容器中的流體存量下降至預設的低水平時，電源適用於在分配操作的終端進行選擇性制動(actuate),以將電能傳舉俞至碳吸附劑用於其加熱，將從吸附劑分離剩餘的流體。因此，本發明涉及從碳吸附劑分配流體(包括流體乂人那裡的脫附)的方法，包括向所述碳吸附劑輸入電能，以影響其電阻和/或感應加熱。在這個方法中，可將吸附劑容納於適用於在分配條件下選擇性分配流體的容器中。將電能輸入至碳吸附劑可在如上述類型的裝置i殳置(apparatusarrangements)中進行，侈'H口，涉及通過與碳吸附劑相接觸的至少一個電極來輸入電能以影響電阻加熱。可對將電能輸入至碳吸附劑以影響其電阻和/或感應力口熱進4亍可控的調節，以影響剩餘流體從碳吸附劑的脫附，同時適當地實現預設程度的流體利用率。可對碳吸附劑或從中脫附的流體的條件來進4亍調節，諸如石友吸附劑的溫度、脫附的流體壓力等。前述方法可包4舌感應加熱，其中，在碳吸附劑中，由與第二變壓器繞組進4亍電感耦合的第一變壓器繞組感應出渦電流，該第二變壓器繞組與交流電源相連接，諸如射頻AC電源。可替代地，電能的輸入可包括交流電通過圍繞石友吸附劑的線圏的通i各，例如，其中將碳吸附劑容納在位於所述線圈內的容器中。如所指出的，電能的輸入涉及碳吸附劑的電阻加熱，其中碳吸附劑包括惠斯通橋組件的電阻。本發明在方法的另一個方面涉及降低容器中吸附流體的後跟(heel)的方法，該容器包括其上含有這種吸附的流體的碳吸附劑，其中，該方法包4舌為了石友吸附劑的電阻力。熱和/或感應加熱而向^友吸附劑輸入電能，以影響流體後跟從那裡脫附。然後，將脫附的後3艮流體用於流體利用工藝(fluid-utilizingprocess),諸如樣史電子器件製造方法(例4口涉及離子注入)。在本發明用於流體後^艮回收的實施方式中所用的碌J及附劑可以是任意合適的種類，包括活性炭、浸漬有金屬顆粒的碳、纖維等，或任意其他形式或組成的碳吸附劑，其響應於電能的輸入而被加熱，從而從中釋放增大量的吸附流體，這與相應的沒有通過輸入電能而糹皮加熱的碳_吸附劑有關。本發明的另一方面涉及流體輸送的方法，包括在活性炭上提供吸附狀態的流體；乂人活性炭進4亍選4奪性地分配流體；當預定的剩餘量的流體仍吸附在碳吸附劑上時，對吸附劑進行電加熱，以通過碳吸附劑的電阻加熱和/或感應加熱而影響剩餘流體的去除。在一種特定實施方式中，將碳吸附劑容納於流體儲存和分配容器中，並將除去的剩餘流體用於製造^f敬電子器件。本發明還涉及半導體製造設備，包括前述的流體儲存和分配系統。半導體製造設備例如可包括設置用以接收從碳吸附劑脫附的流體的離子注入機。更普遍地，提供了流體利用工藝系統，包括如前述的流體源和分配系統，及適用於接收從碳吸附劑脫附的流體的流體利用裝置。親和力的任意適合的流體。流體例如可包括微電子器件製造流體，-渚如沉澱試劑、蝕刻劑、清洗液、拋光劑、光刻月交等。可以4諸存於碳吸附劑上並從中分配的具體流體可包括，但不限於，砷化氬、磷化氫、氨、三氟化硼、三氯化硼、乙硼烷、有機金屬物質、三氟化氮及氯化氫。現在參考附圖，圖8是根據本發明的另一實施方式的流體儲存和分配系統600的示意圖。如所示出的，該儲存和分配系統600包括在其內限定內部容積604的容器602。在內部容積604中布置為整塊式碳吸附劑製品的堆606,通常其與容器具有共延伸(coextensive)的直徑，以使碳吸附劑製品與容器壁內部表面相4妄觸。通常，堆606中的^^吸附劑製品為圓柱形，面對面相4妄觸而堆疊，從容器的較低部沿垂直方向延伸至其上部。吸附劑製品對於其感興趣的流體(例如，氣體或液體)具有吸著親和力。這種流體例如可包括半導體製造化學試劑，諸如砷化氫、磷化氫、氨、三氟化硼、三氯化硼、乙硼烷、有4幾金屬物質、三氟化氮、及氯4匕氫等。容器602可由鋼或鐵合金或其他諸如鋁、鈦等的金屬製成。容器在其上端連4姿至閥頭組件630,其內具有包含閥元件的閥通道，通過手輪632的旋轉，該閥元件可在完全打開和完全閉合位置之間移動。閥頭組件630包括排料埠(dischargeport)636，其可與分配管線或其他連^妄器(coupling),4義器或流動回^各相連。在這個實施方式中，將電極608安裝於容器602的內部容積604的中心，通過堆606中的^_吸附劑製品的中心開口而向下延伸。將電才及的上端安裝於閥頭中的絕緣套管中，並通過電源線610連4姿至中央處理器及電源模塊(module)612。如圖示，中央處理器及電源模塊612還通過第二電源線616連接至安裝為與容器602的外表面電4妄觸的4妄觸軸環(contactcollar)614。通過如圖8中所示出的安排，將吸著性地保留在堆606中的碳吸附劑製品上的流體在脫附條件下從吸附劑脫附，流經閥頭630後，流至排料埠636而排出。在操作中的一段時間之後，保持在碳吸附劑上的流體的量下降至低水平，此時4艮難使流體,人容器的脫附並持續排料。這樣，CPU和電源模塊612是制動的，例如，通過由容器向下的流動迴路中的壓力傳感器(圖8中未示出)、或過程監控系統，將電能傳送至電極608及接觸軸環614。通過這個操作(action),電流通過電才及608和導電石友吸附劑而流至容器壁，以<更與電源管線610和616—起形成完整的電^各。從而將堆606中的碳吸附劑進行電阻加熱，以在吸附劑中產生升高的溫度，使流體從碳吸附劑脫附並使脫附的流體通過排料埠636而,人容器4非出。在這種設置中，容器602的環繞壁(enclosingwall)起第二電極的作用，碳吸附劑以電解質介質的形式起作用，其具有足夠的電阻系悽史以影響吸附劑的加熱，乂人而將剩餘流體從吸附劑分離。從而這種設置能夠實現吸附流體的非常高的利用率，且分配的流體的百分比(即，隨後從容器分配的流體佔容器中原始裝載的流體的百分比)4妄近100%。可以實施電阻加熱(resistivelyheated)吸附劑才才衝牛的溫度感測(sensing),響應於感測溫度來調節電能l俞入的禾呈度，以獲4尋流體脫附所必需的或所期望的水平。在其4也的實施方式中，可採用其4也各種傳感器和感測裝置以監控輸入至吸附劑的電能l命入，並產生感測/監控信號，可利用該信號來控制電能至吸附劑的輸入和持續時間。在圖8中示出的具體設置中，可將熱電偶620放置於吸附劑製品的堆606中來監控堆的溫度。熱電偶產生溫度感測信號，其可在溫度信號傳f命管線622中傳l命至CPU和電源才莫塊612。該CPU和電源才莫塊612相應地來調節傳輸至吸附劑堆的能量，以達到預-沒溫度並使流體從吸附劑材料脫附。作為圖8中示出的具體實施方式的另一種變型，可將第二電才及618i殳置於容器602的內部容積604中，穿過p及附劑製品的堆而延伸，在其上端與電源線616相連。在這種變型中，電源線616穿過容器壁而延伸，例如，藉由位於容器壁內的絕緣軸環，電源線616穿過其與第二電才及相連。在這樣的變體中，可選地，可採用4妄觸軸環614,或可替^U也，不存在於該i殳置中。圖8中示出的流體儲存和分配系統能夠為碳吸附劑介質提供電阻加熱，以達到起始裝載至容器的吸附流體的高水平利用。將認識到，較寬變化範圍的可替代方式會影響向吸附劑的電能供應，且可在以暖體682的上端與穿過絕糹彖套管694的電源線692相連，並與電流饋線(electricalfeedline)696相聯。隨後，將電流饋線696連接至電源690。在其下端，碳體680與穿過絕緣套管686的電源線684相連，並與電流4貴線688相4關，隨後連4妻至電源690。將套管686和694安裝於容器上，並與容器壁內的各自開口相對應。在其上端，將容器702連接至閥頭組件698,包括排料埠706及設置用以對閥頭698中的閥進4亍手動打開或閉合的手l侖708。可採用自動閥制動器來替代這種手輪。通過圖9中示出的設置(arrangement，或安排，或布置，或裝置)，吸附體682可通過電源6卯的作用而進行選4奪性加熱，電源可在電流饋線696中分別將電能輸送至電源線692和684。由於吸附體具有基本大於容器702的高度的長度，因此電流在一端流入吸附體，並經過遠大於從容器的下部到其上部的直線距離的距離，而流至該吸附體的另一端。吸附體"延長的長度"的構造顯著增大了電阻系悽史而明顯大於吸附體的直線構造，所以，相比於直線構造，加熱該碳體將需要更少的電流。為替代圖9中示出的吸附體的螺旋狀構造，吸附體可以是任意其他合適的"延長的長度，，的構造，以^更為流經該體的電流糹是供彎曲的或加長的路徑(path)。如本文中所使用的，術語"延長的長度的構造"是指吸附體的物理形式，其中用於使電能穿過該體的電流通路實質上大於其直線長度(linearextent),例如，該體的長度維度。因此，該碳吸劑體可具有褶皺、鋸齒、螺旋、絨毛(wool)或多孔的基質形式、或任意其他合適的提供延長的長度構造的物理或形態的形式。圖10是4艮據本發明的另一實施方式，其中電阻元4牛之一由碳吸附劑床構成的惠斯通橋電路的示意圖。橋電路包括如所示連接至惠斯通橋730的電源720，該惠斯通橋包括固定電阻736、738和740以及可變電阻742。將電壓檢測器(voltagedetector)76(H殳置於橋的電阻臂之間。將電壓4全測器760與運算放大器732並聯，以如圖示向放大器提供輸入。放大器的輸出端與NPN電晶體734相聯，以將輸出傳輸至電晶體的柵結構。電晶體的源極和漏極分別連接至電源720和惠斯通橋730。圖10的惠斯通橋電^各由作為在前述種類的流體々者存和分配系統中碳吸附劑的電阻的固定電阻之一構成。通過這種設置，可通過可變電阻器742的可變電阻-使惠斯通橋平卩紆，以使在正常分配操作中，或當系統處於無分配狀態時，實現零電流流經,灰吸附劑。當分配操作已持續足夠時間以使系統中流體存總量降低至低水平時，分配變^尋更加異常困難，可調節可變電阻器742的電阻以使惠斯通橋不平衡，並使電流流至碳吸附劑用於其電阻加熱。在這種方式中，可將碳吸附劑用作溫度感測元件，乂人而在所需溫度下進行自調節。可替代地，可設置簡單的電流限制器件(device),或可^,代地，可以圖8中示出的安排的方式採用嵌入的溫度傳感器。圖11是才艮據本發明的另一個實施方式的流體儲存和分配系統800的示意圖。在圖11的安排中，將在其內部容積中裝有碳吸附劑床804的容器連接至閥頭組件808,閥頭組件包括流體排料埠810和用於手動打開或閉合閥頭組件的閥的手l侖812。為替換手動手4&,可將閥頭組件808中的閥連4妻至閥制動器(actuator)，例如，氣的、電的或其他制動器，將其進行操作性的設置以使閥頭組件中的閥打開或閉合。圖11的安排包括RF電源814，操作性地與感應線圈816相聯，且感應線圈具有合適的尺寸以使容器802位於(reside)在線圈的環內。在使用中，在分配條件下將流體從容器802進行分配，該分配條4牛包括「流體利用工具(tool)或流動回^各下遊部分中的導致壓力梯度感應的脫附(pressuregradient-induceddesorption)的降低的壓力，或載氣通過容器802的內部容積的通道，以產生影響從吸附劑的脫附並影響在通過容器流動的載氣中的夾帶(entrainment)的質量傳遞梯度，或以其他的方式從吸附劑中移除流體。當容器中的流體存量^皮足夠排空(deplete)時，激活RF電源814，以Y更發送交流電穿過線圏816,/人而產生》茲場，該/磁場在石灰吸附劑中產生渦電流。結果，在吸附劑中產生熱，與不發生這樣的感應放熱的相應吸附劑相比，使流體從吸附劑的脫附增強。參考圖11的設置所描述的感應加熱以簡單且非侵入(non-invasive)方式,人容器802除去剩餘流體，所以，達到了流體從容器分配的基本完成。人們希望，圖11系統中的RF電源814提供的交流電的頻率是可以選擇的，以使剩餘流體從容器802中的吸附劑材料的脫附中獲4尋最4圭的井禺合歲丈率(couplingefficiency)。圖11的系統可採用任意合適種類的控制線路(controlscheme)，以1"更在向感應線圈816提供交伊u電的過禾呈中調節RF電源814。例如，可監控分配氣體的壓力，並可採用合適的反^it控制組件以維持分配氣體的固定才喿作壓力。更一般地，圖8、9和11中的流體儲存和分配系統可採用各種各樣的監控和反饋控制組件及子系統，以保證在分配操作的最後階段(容器接近排空時)，將容器中剩餘流體排出(extract)以使容器的後跟最小化。這種監控及控制裝置還包括向-灰吸附劑輸入電能的功率(power)監控、電能輸入過程中的吸附劑的熱監控、分配氣體的壓力監控、分配流體的流量監控、混合系統的4吏用(例如，將來自接近排空的容器(對該容器進行電能輸入，以用於其內的吸附劑的電阻和/或感應加熱)的流體，及來自第二新容器(其裝滿或基本上裝載流體)的流體相結合(combine))等。圖12是根據本發明的進一步的實施方式的流體儲存和分配系糹充860的示意'性剖面正^L圖。流體儲存和分配系統860包括上端連接至流體分配組件866的容器862。容器862閉合內部容積864,如所示出的，其中布置為碳吸附劑盤872、874、876、878、880、882及884的垂直堆疊870。碳吸附劑製品的堆870被設置為電極886穿過玻璃或陶瓷密封圏(seal)888，穿過每個碳吸附劑製品872、874、876、878、880、882及884的中心開口，向上延伸至內部容器864中。容器862i殳置有電4妄頭890,其與容器862的金屬壁相4姿觸，這種壁由鋼、鋁、或其他導電材料製成。電4妄頭890可與容器整體形成，或可將這種接頭與容器以任意合適的方式進行連接，諸如為此目的而在容器的外表面設置連接結構或配件(fitting)。在電路設置中，將電極886和接頭890用合適的電源(未示出)進行連接，因此，將電能輸入至堆870中，以影響其電阻加熱(resistiveheating)。圖13是根據本發明的另一種實施方式的流體儲存和分配系統820的示意性剖面正一見圖。流體儲存和分配系統820包括限定了閉合的內部容積826的容器822,內部容禾口、中i殳置有碳吸附劑命J口口口830、832、834、836、838、840及842的垂直堆疊828。在這種實施方式中，容器822在容器的下部、在石岌吸附劑製品的堆疊828之下包4舌變壓器繞糹且850。容器位於第二變壓器繞組852之上，用於各個變壓器繞組850和852的感應津禺合。容器822在其上端連4妄至分配組件824，其可包4舌閥結構及分配埠，用於脫附的流體A人容器流出，在分配條件下(例如，當閥打開以便流通、壓力差、質量傳遞梯度)或其他傳輸條件下，導致流體從容器中流出至下遊流動迴路、處理i殳備(processtool)、或用於所分配的流體的其4也終端4吏用J立置。如上所指出的，變壓器繞組850和852彼此間發生電感耦合，且將外部變壓器繞組852合適地連4妄至電^各中的電源(未示出)，以4吏變壓器糹克糹且852通電(energization)才目應i也變壓器繞糹且850也通電，並在容器822的內部容積828中產生場，/人而4吏堆疊828中的石A吸附劑製品通電並電阻;改熱。通過這種設置，容器822是以非侵入方式來實施電阻放熱的。除與分酉己糹J/f牛824相連(associatewith)之外，容器中不需要4壬4可開口，而<義在分配組件和容器頂的連4妄處具有單個4妻縫，因此容器可具有高度可靠的特性。因此，本發明涉及各種的具體安排和實施方式，用於向石友吸附劑輸入電能，以便從中去除流體後跟(heel),其可得到相應的體現和實施，以便在用於流體的低壓分配的基於碳吸附劑的流體儲存和分配系統中實現高的流體利用率。另一方面，本發明涉及提高納米多孔碳吸附劑的填充容量的方法，例如以堆疊陣列中的多孔石友盤的形式，如在包4舌含有這種流體的容器的流體存儲和分配組件(package)中所布置的，其中儲存的流體包括小分子流體種類(species)。多孔碳吸附劑的填充容量是能夠淨皮吸附劑吸收的吸附物的量，即，吸附劑上負載的吸附物質。在提高多孔碳吸附劑的負載容量的方面，吸附劑與溶脹劑相接觸，隨後，碳吸附劑與加壓氣態滲透劑相接觸，隨後，除去溶脹劑和滲透劑，例如，通過對多孔碳進行真空抽提和加熱以使其內任何剩餘的溶脹劑和滲透劑揮發。如本文中所用的，術語"溶脹劑"是指與多孔碳材料的^f鼓結構相接觸，並使這種材料的多孔度和空隙結構膨脹的試劑。溶脹劑可以是任意合適的種類，例如可包括諸如水、醚、醇或其他使這種多孔碳的膨脹的有機或無機溶劑介質的試劑。本文中所使用的術語"滲透劑"是指這樣的試劑(1)以加壓的形式與含有溶脹劑的多孔碳材料相接觸，以使溶脹劑輸送至多孔結構或空隙結構，以便在其與被吸附物接觸之後提高多孔碳材料的負載容量，(2)與溶脹劑相容，以使溶脹劑和滲透劑揮發並從多孔結構和空隙結構中除去，且不會損失溶脹劑對這種多孔結構和空隙結構的溶脹效果(effect)。滲透劑可以是任意合適的種類，例如可包括諸如氦氣、氬氣、氪氣、氖氣等惰性氣體。在一種優選的實施方式中，溶脹劑包括水蒸汽，滲透劑包括氦。在/人多孔,友的多孔結構和空隙結構中除去剩餘溶力長劑和滲透劑的過程中，在溶脹已經開始起效果(effect)之後，重要的是，不可將溫度升至350。C或更高，因為350。C或更高的溫度會導致4是高的負載容量的損失，該負載容量是在當溶脹劑和滲透劑的除去在低於350°C的溫度下發生時所獲得的。在本發明的這個方面，通過將碳吸附劑暴露於水蒸汽來進行預處理，以使碳吸附劑吸收水蒸汽。水蒸汽暴露之後，在增大的壓力下(諸如壓力範圍為100psi至500psi)與氦氣(或其他惰性氣體，例如氬氣、氪氣、氮氣、氙氣)接觸。然後，在真空中將氦氣從碳吸附劑除去，之後，在升高的溫度下烘乾，例如，溫度範圍為100。C至300°C。這就產生了對小分子流體物料具有提高的吸著容量的預處理的減屍及附劑。對於各種流體物衝牛中的4壬4可一種均可有效i也採用這種預處理方法，並可最有益地用於提高活性炭，例如以珠、顆粒、片、球團(pellet)、粉末、擠出料、微粒、織物或網狀形式的製品，整塊式，多孔碳與其他形式材料的組合物，前述的研碎(comminute)形式，前述的壓石爭(crush)形式，用於氣體(其分子具有相對扁平的空間分子構象，與球形構象相對)的儲存和分配。在一種實施方式中，該流體物並+包括氦氣。示例性卣化物氣體的實例包括三氟化硼、乙硼烷、三氯化硼、三氟化磷、五氟化砷、四氯化矽及四氟化鍺。對於碳吸附劑分配，三氟化硼是特別有用的氣體，並已經用這種方法進4於處理。通過具體實施例，已經證實本發明的碳吸附劑預處理方法可以使碳吸附劑對於三氟化硼的容量增大35%-50%(相比於未以這種方式進行預處理的相應的碳吸附劑)。可以認識到，對於給定的流體物料，本發明的預處理方法的具體工藝條件可以容易地用實驗方法進行確定，通過為感興趣的吸附氣體改變工藝條件，並測量可吸附在吸附劑上的p及附物流體種類的負載以確定對於這些流體種類的吸附劑容量的簡單的方法(expedient)來實現。本發明相應地涉及流體儲存和分配裝置，包括含有碳吸附劑的容器，在容器裝載待吸附的並從容器中的吸附劑進行分配的流體之本發明的碳吸附劑的預處理方法的特點和優勢將在下列實施例中將更加全面地示出。這些實施例意在舉例說明具體實施方式中>暖預處理方法的實施，而不是為了對本發明的石友預處理方法的一般性質和使用範圍作限制性解釋。實施例1在三氟化硼氣體4諸存和分配組件的標準填充過考呈中，圓柱型氣體容器填充有活性炭圓盤的堆，將頂部部件(headpiece)焊接至貯氣筒。然後通過在頂部部件上安裝閥頭組件，乂人而完成氣缸(cylinder)的製造(fabrication)。在300psi壓力下，通過閥頭組件對得到的具有閥的氣體供應組件(其中閥組件中的閥處於開口位置)裝載氦氣，然後將閥關閉。接著，將含氦組件置於真空室中。將真空室設置為高真空，用氦氣檢測器監測任何可能出現的從容器的氦氣洩漏。如果通過這些測試確定容器具有防滲漏的特性，然後通過向系統施加高真空將氦氣從容器中除去，接著，在升高的溫度下進行烘烤(bakeout)。該過程Y吏剩餘4軍發物組分和汙染物/人吸附劑中分離。降至室溫之後，將容器裝載三氟化硼氣體。一旦裝載，則通過填充埠或關閉閥頭組件中的閥而進行密封，並將所吸附的三氟化硼氣體存儲在碳吸附劑上。此後，在分配條件下，可將這些儲存的三氟化硼氣體從碳吸附劑脫附，分配條件例如可包括容器內部容積和容器外部分配位置的下遊的壓力差，和/或對容器加熱，以4吏三氟化硼乂人碳吸附劑脫附，和/或載氣通過容器內部容積的流動，產生濃度梯度以使三氟化硼氣體從碳吸附劑脫附。實施例2按照實施例1製造氣體供應組件，但在與氦氣接觸之前，將碳吸附劑暴露於水蒸汽，以使吸附劑吸收水蒸汽。基於碳吸附劑的重量，通過p及附劑吸收的水蒸汽的量可為4安重量計5%至40%的範圍或更多。然後，如實施例1所描述的，將氣體供應組件用300psi的氦氣加壓。除去氦氣之後，將容器進行吸附劑的烘烤，將容器冷卻至室溫，然後裝載三氟化硼氣體。測試結果的比較進4亍比4交測試以確定實施例2的預處理方法的凌文力(efficacy)高於實施例1的才示準方法。實施了兩個系列的比4交測試。在第一系列中，四個貯氣筒容器的每一個負載有2550克的以吸附劑的圓盤製品的堆疊形式的碳吸附劑。然後，對容器裝載氦氣。除去氦氣之後，對容器進行烘烤，以便從碳吸附劑除去剩餘氣體及汙染物，然後裝載三氟化硼氣體。在裝載氦氣並烘烤之前，在第一容器中的碳吸附劑(試樣l)並不暴露於任何水蒸汽中；煤烤在180。C下進行。在第二容器中的碳吸附劑(試樣2)暴露於水蒸汽，導致碳吸附劑中水分含量為按重量計24.5%(基於^友吸附劑的重量)，並在180°C烘烤之前裝載氦氣。在第三容器中的碳吸附劑(試樣3)暴露於水蒸汽，導致碳吸附劑中水分含量為按重量計25.6%(基於碳吸附劑的重量)，並裝載氦氣之前在350。C下烘烤。第四容器中的碳吸附劑(試樣4)在裝載氦氣之前，將其暴露於水蒸汽，導致碳吸附劑中水分含量為按重量計25.3%(基於^友吸附劑的重量)。在裝載氦氣之後，隨後將氦氣除去並在180。C烘烤，將三氟化硼裝載至容器，並測量吸附劑吸附的這種三氟化硼氣體的量。第一測試系列的結果列於以下表1中，在氦氣增壓並烘烤之前，將試樣2-4暴露於溼汽，在這種氦氣加壓和烘乾之前，試樣1未暴露於溼汽。表1.由2550克石灰吸附劑吸附的三氟化硼的量tableseeoriginaldocumentpage71表1中的數據示出了碳吸附劑的標準預處理(試樣1),在氦氣增壓和烘烤之前，不進行溼汽暴露，碳吸附劑上負載的三氟化硼為23.6%(=601.8克三氟化硼/2550克碳吸附劑)。試樣2,進4於溼汽預處理在吸附劑上產生24.5%的水分負載，進行氦氣增壓並在180。C下進行烘烤，在碳吸附劑上負載的三氟化硼為33%。試樣3,進4亍溼汽預處理在吸附劑上產生25.6%的水分負載，進行氦氣增壓並在350°C下進行烘烤，在碳吸附劑上負載的三氟化硼為22.5%。試樣4，進4亍增汽預處理在吸附劑上產生25.3%的水分負載，進行氦氣增壓並在180。C下進行烘烤，在碳吸附劑上負載的三氟化硼為34%。在第二測試系列中，所有的條件保持與第一測試系列中的相同，^f旦活性炭吸附劑的量為2525克，而不是2550克。第二測試系列的數據列於以下表2.表2.由2525克碳吸附劑吸附的三氟化硼的量tableseeoriginaldocumentpage72表2中的數據示出了碳吸附劑的標準預處理(試樣5)，在氦氣增壓和烘烤之前，不進行溼汽暴露，碳吸附劑上負載的三氟化硼為20.5%(=518.6克三IU匕硼/2525克石灰吸附劑)。試樣6，進行溼汽預處理在吸附劑上產生24.5%的水分負載，進行氦氣增壓並進行180。C下的烘烤，在碳吸附劑上負載的三氟化硼為33%。試樣7,進行溼汽預處理在吸附劑上產生25.6%的水分負載，進行氦氣增壓並進行350。C下的烘烤，在碳吸附劑上負載的三氟化硼為22.4%。試樣8，進行溼汽預處理在吸附劑上產生25.3%的水分負載，進行氦氣增壓並進行180。C下的烘烤，在碳吸附劑上負載的三氟化硼為30.8%。相應地，表1和2中的數據示出了本發明的溼汽暴露/氦氣暴露和烘烤預處理方法產生的三氟化硼負載，其比利用王見有才支術(缺少這種溼汽暴露)中相應的預處理方法獲得的三氟化硼負載要高大約50%。儘管本文已經參照本發明的具體方面、特徵和示例性實施方式對本發明進行了描述，但應該明白，本發明的應用並不因此受到限制，而應該擴展至並包括各種其他變化、修改及可替代的實施方式，正如基於本文所4皮露內容，本發明領域的普通技術人員應該;彈到暗示。相應地，在本發明的精神和範圍內，應該對本發明所附權利要求進^於寬泛的解釋和理解，包括所有這些變型、<奮改和可一#實施方式。權利要求1.一種流體儲存和分配裝置，包括具有內部容積的容器，所述內部容積中支持有多孔碳吸附劑製品的設置和位置穩定化結構，所述位置穩定化結構用於將多孔碳吸附劑製品的設置維持在預設位置，在該預設位置限制所述製品發生運動。2.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述多孔碳吸附劑製品的設置包括所述製品的堆疊陣列。3.根據權利要求2所述的流體儲存和分配裝置，其中，每一個所述製品均具有圓盤形狀。4.根據權利要求3所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述製品為垂直堆疊陣列，其中，所述製品4皮此共軸排列。5.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述位置穩定化結構包括可壓縮彈簧，用於在多孔碳吸附劑製品的設置上施力口壓縮力。6.才艮據權利要求5所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述位置穩定化結構進一步包括板構件，所述板構件適合用於接收來自所述可壓縮彈簧的壓縮力並在與所述多孔石友吸附劑製品的i殳置支撐性接觸的所述板構件區域上分布所述力。7.根據權利要求6所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述製品為垂直堆疊陣列，其中，所述製品每一個為圓盤形狀且#1此共軸排列，其中所述位置穩定化結構包括被設置成在所述製品的垂直堆疊陣列中的最上端製品上施加壓縮力的所述可壓縮彈簧及板構件。8.根據權利要求7所述的流體儲存和分配裝置，進一步包括第二可壓縮彈簧及板構件，設置成用於在所述製品的垂直堆疊陣列中的最下端製品上施加壓縮力。9.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述位置穩定化結構包括選自由填料、固定板、回彈壓縮元件、篩網、袋、吸附劑製品結構和容器內壁構造組成的組的結構。10.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述位置穩定化結構包括形成為彼此結構接合的所述多孔碳吸附劑制口Po11.根據權利要求10所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述多孑U灰吸附劑製品被形成為;f皮此互鎖。12.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述容器包括在所述容器的內表面上的至少一個突出部，其與在所述多孔碳吸附劑製品的至少一個上的容納體配合結構相接合。13.根據權利要求12所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述多孔石灰吸附劑製品在所述容器的所述內部容積中為垂直堆疊陣歹'J,且所述突出部包括至少一個縱肋，所述縱肋沿所述容器的內表面延伸，並用於與在所述垂直堆疊陣列中的所述多孔石友吸附劑製品上的通道相4妄合。14.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述容器包括圓筒形側壁以及固定於其上的頂壁蓋，所述頂壁蓋中有一開口，以及i殳置於所述頂壁蓋的所述開口中的閥頭紐/f牛。15.根據權利要求14所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述閥頭組件包^"閥元件，其可在完全打開位置與完全閉合位置之間進4亍移動，所述閥元件與選擇性打開或閉合所述閥元件的制動器相連接。16.根據權利要求15所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述閥頭組件與所述頂壁蓋的所述開口進行螺紋接合。17.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述位置穩定化結構包括填料。18.根據權利要求17所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述填料包括網狀材料。19.根據權利要求17所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述填料包括絮狀或片狀形式的材料。20.根據權利要求19所述的流體儲存和分配裝置，其中，用所述絮狀或片狀形式的材料包裹所述多孔碳吸附劑製品的設置。21.根據權利要求20所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述多孔碳吸附劑製品的i殳置包括所述製品的垂直堆疊陣列，且所述絮狀或片狀形式材料覆蓋所述垂直堆疊陣列的各端。22.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述位置穩、定4b結構包糹舌至少一個可壓縮彈簧。23.根據權利要求22所述的流體儲存和分配裝置，其中，每一個所述可壓縮彈簧壓縮地支撐於板構件上，該板構件設置成用於將壓縮力傳輸至所述多孔碳吸附劑製品的設置。24.根據權利要求22所述的流體儲存和分配裝置，包括選自由下列彈簧組成的組的至少一種可壓縮彈簧巻繞型彈簧、波浪形彈簧、O型圈、聚合物彈力墊、多重巻繞彈簧、多重波形彈簧，和多重聚合物彈力墊。25.4艮據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述位置穩定化結構包括碳纖維織物。26.才艮據權利要求25所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述石友纖維織物包裹所述多孔碳吸附劑製品的設置。27.才艮據權利要求26所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述多孔石l吸附劑製品的i殳置包4舌所述製品的垂直堆疊陣列，且所述碳纖維織物覆蓋所述垂直堆疊陣列的各端。28.根據權利要求27所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述碳纖維織物延伸出所述垂直堆疊陣列的各端，且摺疊或扭曲以便向所述垂直堆疊陣列糹是供額外的4於墊塊。29.4艮據4又利要求25所述的流體^f諸存和分配裝置，其中，所述位置穩定化結構包括由所述碳纖維織物形成的管。30.根據權利要求25所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述碳纖維織物具有這樣的網格尺寸，適用於在流體從所述多孔碳吸附劑製品分配的過禾呈中，防止顆^立從所述多3U^吸附劑製品移至所述容器之外。31.根據權利要求1所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述位置穩定化結構包括包裹介質。32.根據權利要求31所述的流體儲存和分配裝置，其中，所述包裹介質由選自由碳、玻璃纖維、金屬，和聚合物組成的組的材料形成。33.—種適用於將難熔芳香族含石克分子/人包括這些化合物的烴混合物中除去的脫硫系統，所述系統包括設置成用於與所述烴混合物相4妄觸，並適用於/人所述烴混合物中除去所述化合物以達到低於按重量計lppm的水平的納米多孔碳。34.才艮據4又利要求33所述的脫石克系統，進一步包4舌所述烴混合物的供應，其中所述烴混合物包括選自由汽油、噴氣燃坤+、柴油、原油、石油及用於這些材並牛的前體或原料組成的組的烴給津牛。35.根據權利要求33所述的脫硫系統，其中，所述烴混合物包括選自由汽油和柴油燃料組成的組的烴給料.。36.根據權利要求33所述的脫疏系統，其中，所述難炫芳香族含硫分子包括選自二苯並噻吩、4-曱基二苯並噻吩和4，6-二曱基二苯並噻吩組成的組中的至少一種化合物的硫分子。37.)艮才居4又利要求33所述的脫石克系統，其中，所述脫石克並不4吏高辛烷值的烯烴分子轉變為低辛烷值的飽和物。38.根據權利要求33所述的脫硫系統，其中，所述納米多孔碳包括主要由小於lnm直徑的孔構成的孔隙。39.根據權利要求33所述的脫硫系統，其中，所述納米多孔碳包括PVDC焦化材料。40.根據權利要求33所述的脫好u系統，其中，所述納米多孔碳包括PVDC焦化材料，該PVDC焦化材料具有由尺寸範圍為約0.3至約0.72納米的裂it^UL構成的至少30。/。的總3L隙，以及包含直徑<2納米的孔的至少20%的總孑匕隙，具有從約0.80至約2.0克每立方釐米的體積密度。41.根據權利要求33所述的脫硫系統，其中，所述納米多孔碳設置在多重床內，在包括再生所述床之一而另一個所述床進4亍所述烴混合物的所述載流吸附，接觸以1更產生具有4安重量計小於1ppm的所述化合物的烴混合物的設置中，所述多重床設置成用於交^^操作，包括所述烴混合物的載流吸附-接觸以及所述納米多孔碳的再生以便從中除去所述難熔芳香族含碌b分子。42.根據權利要求41所述的脫硫系統，其中，所述多重床是由多個入口歧管和出口jt支管集合而成的。43.根據權利要求42所述的脫硫系統，進一步包括與出口歧管相連通的蒸發器，以接收經過再生的來自納米多孔碳床的再生流體，其中所述再生流體包括被脫附的難熔芳香族含碌u分子，所述蒸發器適用於從再生流體中將貧硫蒸氣蒸發，並產生富硫流體，且其中所述系統進一步包括再循環流動線^各，該再循環流動線路i殳置成用於將所述貧碌u蒸氣回流至進4於所述烴混合物的載流吸附4妄觸的另一個所述床。44.才艮據權利要求43所述的脫石克系統，進一步包括加氫脫H反應器，適用於接收來自蒸發器的富硫流體，以產生加氫脫硫流體，以及氫氣和碌i/f匕氫副產物。45.根據權利要求44所述的脫硫系統，進一步包括分離器，分離器設置成用於接收來自所述加氫脫硫反應器的加氫脫硫流體，以及氫氣和碌u化氫副產物，以產生包4舌所述氬氣和石充化氬副產物的第一產物:流，並包4舌所述加氬脫闢u流體的第二產物流。46.根據權利要求45所述的脫硫系統，進一步包括用於混合所述加氫石克化流體和具有4安重量計小於1ppm的所述化合物的所述烴混合物的混合器，以產生脫石危產物烴混合物。47.才艮據權利要求46所述的脫硫系統，其中，所述納米多孔石友包^括納米多孔PVDC焦化材:扦。48.才艮據權利要求47所述的脫硫系統，其中，所述脫硫產物烴混合物包含按重量計每一種均小於1ppm的二苯並噻吩、4-曱基二苯並漆吩和4,6-二曱基二苯並噻吩。49.才艮據4又利要求48所述的脫石克系統，其中，所述納米多31^友具有由尺寸範圍為約0.3至約0.72納米的裂縫狀孔構成的至少30%的總孔隙，以及包含直徑<2納米的孔的至少20%的總孔隙，具有從約0.80至約2.0克每立方釐米的體積密度。50.根據權利要求49所述的脫硫系統，正如設置於煉油廠中的。51.—種〗吏用流體^f渚存和分配裝置的+者存流體的方法，包括具有內部容積的容器，所述內部容積中支持有多孔碳吸附劑製品的設置，並進一步包括在所述容器布置位置穩定化結構，所述位置穩定化結構用於將所述多孔碳吸附劑製品的設置維持在預設位置，其中限制所述製品運動。52.根據權利要求51所述的方法，其中，所述多孔碳吸附劑製品的設置包括所述製品的堆疊陣列。53.根據權利要求52所述的方法，其中，每一個所述製品均具有圓盤形狀。54.#4居4又利要求53所述的方法，其中，所述製品成垂直堆疊陣歹'J，其中所述製品4皮此共軸排列。55.根據權利要求51所述的方法，其中，所述位置穩定化結構包括可壓縮彈簧，用於在所述多孔-灰吸附劑製品的i殳置上施加壓縮力。56.根據權利要求55所述的方法，其中，所述位置穩定化結構進一步包括板構件，該板構件用於4妄收來自所述可壓縮彈簧的壓縮力並在支撐性地接觸所述多孔碳吸附劑製品的設置的所述4反構件的區域上分布所述力。57.根據權利要求56所述的方法，其中，所述製品成垂直堆疊陣歹'J，其中所述製品每一個為圓盤形狀且彼此共軸排列，其中所述位置穩定化結構包括所述可壓縮彈簧及一反構件，該4反構件i殳置成用於在所述製品的垂直堆疊陣列中的最上端製品上施加壓縮力。58.才艮據權利要求57所述的方法，進一步包括第二可壓縮彈簧及板構件，該板構件設置用於在所述製品的垂直堆疊陣列中的最分組成的組中的至少一種化合物的石克分子。87.才艮才居4又利要求83所述的脫碌u方法，其中，所述脫石危並不4吏高辛烷值的烯經分子轉化為低辛烷值的飽和物。88.根據權利要求83所述的脫硫方法，其中，所述納米多孔碳包，括主要由小於1nm直徑的3L構成的孔隙。89.才艮據斥又利要求83所述的脫石危方法，其中，所述納米多孔碳包括PVDC焦化材料。90.根據權利要求83所述的脫硫方法，其中，所述納米多孔碳包括PVDC焦化材料，其至少30%的總孔隙由尺寸範圍為約0.3至約0.72納米的裂縫狀孔構成，至少20%的總孔隙包含直徑5克流體，以及氪氣和石克化氬副產物，以產生包4舌所述氫氣和碌"匕氫副產物的第一產物流，以及包括所述力口氫脫碌u流體的第二產物^危。96.根據權利要求95所述的脫硫方法，進一步包括設置有用於混合所述加氬疏化流體和具有按重量計小於1ppm的所述化合物的所述烴;昆合物的》'昆合器，以產生脫石克產4勿》聖混合物。97.根據權利要求96所述的脫硫方法，其中，所述納米多孔碳包括納米多孔PVDC焦化材料。98.才艮據權利要求97所述的脫硫方法，其中，所述脫硫產物烴混合物包含4要重量計每一種均小於一個ppm的二苯並謹:p分、4-曱基二苯並p塞吩和4,6-二曱基二苯並噻吩。99.根據權利要求98所述的脫硫方法，其中，所述納米多孔碳具有由尺寸範圍為約0.3至約0.72納米的裂縫狀孔構成的至少30%的總孔隙，以及包含直徑^人所述容器分配流體的閥組件相連接。120.根據權利要求119所述的裝置，其中，所述閥組件與所述容器進行螺紋接合。121.才艮據權利要求101所述的裝置，其中，流體分配組件與所述容器相連接。122.根據權利要求121所述的裝置，其中，所述流體分配組件包括流量控制閥。123.才艮據權利要求101所述的裝置，其中，所述吸附劑具有儲存於其上的流體。124.根據權利要求123所述的裝置，其中，所述流體包括半導體製造流體。125.才艮據4又利要求111所述的裝置，其中，流體分配組件與所述容器相連接。126.根據權利要求125所述的裝置，其中，所述流體分配組件包括流量4空制閥。127.根據權利要求111所述的裝置，其中，所述吸附劑具有儲存於其上的流體。128.根據權利要求127所述的裝置，其中，所述流體包括半導體製造流體。129.4艮據4又利要求101所述的裝置，進一步包括與所述多個單獨吸附劑製品中的至少一個單獨的吸附劑製品相^^妻觸的密封墊。130.根據權利要求111所述的裝置，進一步包括與所述多個單獨吸附劑製品中的至少一個單獨的吸附劑製品相接觸的密封墊。131.4艮據;f又利要求101所述的裝置，進一步包括與所述多個單獨吸附劑製品中的至少一個單獨的吸附劑製品相4妄觸的襯墊元件。132.根據權利要求111所述的裝置，進一步包括與所述多個單獨吸附劑製品中的至少一個單獨的吸附劑製品相接觸的襯墊元件。133.根據權利要求101所述的裝置，進一步包括與所述多個單獨吸附劑製品中的至少一個單獨的吸附劑製品相4妄觸的壓力分布板。134.才艮據4又利要求111所述的裝置，進一步包括與所述多個單獨吸附劑製品中的至少一個單獨的吸附劑製品相"l妾觸的壓力分布板。135.—種用於流體的吸著性儲存和隨後的分配的封裝方法，所述方法包括提供具有多個單獨吸附劑製品的容器，所述單獨吸附劑製品通過連^妄結構^皮此連^妄，以〗吏其位置穩定而不發生相互間的運動，將所述連接結構固定至所述容器，並將流體引入至所述容器，所述多個吸附劑製品對所述流體具有吸著性親和力，通過所述多個吸附劑製品而^f渚存。136.根據權利要求135所述的方法，其中，所述單獨吸附劑製品包括〃暖吸附劑製品。137.根據權利要求135所述的方法，其中，所述流體包括微電子器件製造流體。138.才艮據權利要求135所述的方法，其中，所述流體包括選自由有機金屬化合物、氫化物、卣化物和酸性氣體組成的組的流體種類。139.—種紅外發射裝置，包括具有內部容積的容器，其內裝有處於吸附狀態的矽烷氣體，所述容器包括氧選擇性滲透元件，其允許氧^v所述容器周圍環境選擇性地進入所述內部容積，以及在所述內部容積中的絕緣介質適用於增大所述裝置的紅外發射率。140.根據權利要求139所述的裝置，其中，所述矽烷氣體在碳吸附劑上保持吸附狀態。141.才艮據權利要求140所述的裝置，其中，所述碳吸附劑為整塊形式。142.根據權利要求139所述的裝置，其中，所述絕緣介質包括矽基氣凝力交熱絕糹彖體。143.根據權利要求139所述的裝置，其中，所述矽烷氣體在低於大氣壓下保持在所述內部容積中。144.根據權利要求139所述的裝置，其中，所述氧選擇性滲透元件包括氧選擇性滲透膜。145.根據權利要求139所述的裝置，其中，所述容器包括在所述內部容積中的反射性元件，其中所述反射性元件適用於降低熱導率熱損失並控制發射率。146.根據權利要求139所述的裝置，裝有足夠的^i烷氣體並允許足夠的氧進入，以產生至少5天的紅外輻射信號。147.根據權利要求139所述的裝置，裝有足夠的^圭烷氣體並允許足夠的氧進入，以產生至少IO天的紅外輻射信號。148.根據權利要求139所述的裝置，裝有足夠的矽烷氣體並允許足夠的氧進入，以產生至少15天的紅外輻射信號。149.根據權利要求139所述的裝置，其中，所述容器由塑料材料製成。150.根據權利要求139所述的裝置，其中，所述容器由玻璃材料製成。151.—種產生延長的紅外輻射信號的方法，包括使氧滲透通過氧選擇性滲透元件，並使滲透的氧與保持吸附狀態的矽烷反應，從而產生所述輻射信號。152.根據權利要求151所述的方法，其中，所述滲透的氧和矽烷在裝有吸附劑的容器中反應，吸附劑上具有吸附的所述石圭烷。153.根據權利要求152所述的方法，其中，所述吸附劑包括碳吸附劑。154.根據權利要求152所述的方法，其中，所述容器裝有適用於通過所述矽烷與滲透氧的反應而提高紅外發射率的絕緣介質。155.根據權利要求154所述的方法，其中，所述吸附劑包括整塊式的^友吸附劑。156.—種流體儲存和分配裝置，包括裝有碳吸附劑的流體儲存和分配容器、用於在分配條件下將流體從所述容器進行分配的分配組件，以及適用於向碳吸附劑輸入電能以進行其電阻和/或感應加熱以便使流體從所述碳吸附劑的脫附的電源組件。157.根據權利要求156所述的裝置，其中，所述電源組件包括適用於向所述石灰吸附劑傳輸電能的至少一個電才及。158.根據權利要求156所述的裝置，其中，所述容器裝有碳吸附劑製品的堆疊陣列。159.根據權利要求156所述的裝置，其中，所述電源組件包括設置成與所述碳吸附劑製品相接觸的電極。160.根據權利要求159所述的裝置，其中，所述電源組件包括與所述容器相連接的電傳輸線，所述容器包括導電材料。161.才艮據權利要求160所述的裝置，其中，所述導電材料包括金屬。162.根據權利要求160所述的裝置，其中，所述金屬包括選自由鋼、鐵合金、鋁、和鈦組成的組的材料。163.根據權利要求156所述的裝置，其中，所述電源組件包括與所述碳吸附劑相接觸的多個電極。164.根據權利要求156所述的裝置，其中，所述碳吸附劑具有延長長度的構造。165.根據權利要求164所述的裝置，其中，所述延長長度的構造包括所述碳吸附劑的螺旋狀構造。166.根據權利要求164所述的裝置，其中，所述延長長度構造的碳吸附劑在其各端與所述電源組件相連4妻。167.才艮據權利要求166所述的裝置，其中，所述電源組件包括電源，所述碳吸附劑通過電源線與所述電源相連4妄。168.根據權利要求167所述的裝置，其中，將所述電源設置為與所述石友吸附劑進4於可拆卸的連才妄。169.根據權利要求156所述的裝置，其中，所述電源組件包括惠斯通橋3各電3各，包4舌作為其電阻元件的所述碳屍及附劑。170.根據權利要求156所述的裝置，其中，所述電源組件包括射頻電源。171.才艮據權利要求156所述的裝置，其中，所述電源組件設置成用於所述-友p及附劑的感應加熱。172.根據權利要求171所述的裝置，其中，所述電源組件包括設置成非接觸式環繞至少一部分所述容器的線圈，用於所述碳吸附劑的感應力口^;。173.根據權利要求171所述的裝置，其中，所述電源組件包括所述容器中的第一變壓器繞組，以及在所述容器之外的第二變壓器繞組，其中，所述第一和第二變壓器繞組彼此電感耦合。174.根據權利要求173所述的裝置，其中，所述第二變壓器繞組與交流電源相連4妄。175.根據權利要求156所述的裝置，其中，所述電源組件包括設置在所述容器內並向其外部延伸的電極，以及與所述容器接觸的電接頭，其中所述容器包括金屬材料。176.根據權利要求175所述的裝置，其中，所述電接頭和所述電極的外部通過電源相連4^。177.—種從碳吸附劑分配流體的方法，涉及流體從所述碳吸附劑的脫附，所述方法包括向所述石友吸附劑輸入電能，以實現其電阻加熱和/或感應加熱。178.根據權利要求177所述的方法，其中，所述吸附劑容納在容器中，且所述容器適用於在分配條件下從所述容器選擇性分配流體。179.#4居片又利要求178所述的方法，其中，所述輸入包括通過與所述碳吸附劑相接觸的至少一個電極而電阻加熱。180.根據權利要求178所述的方法，其中，對所述輸入進行可控調節，以實現剩餘流體從所述碳吸附劑的脫附。181.根據權利要求180所述的方法，其中，所述受調節的輸入是響應於對所述碳吸附劑或從其中脫附的流體的條件的監控來進行的。182.根據權利要求182所述的方法，其中，所述條件包括所述碳吸附劑的溫度。183.根據權利要求182所述的方法，其中，所述條件包括脫附流體的壓力。184.才艮據片又利要求178所述的方法，其中，所述石友吸附劑為延長長度的構造。185.根據權利要求184所述的方法，其中，所述延長長度的構造包括螺旋狀構造。186.根據權利要求178所述的方法，其中，所述輸入包括所述碳吸附劑的感應力口熱。187.根據權利要求187所述的方法，其中，所述感應加熱包括在所述碳吸附劑中來自與第二變壓器繞組發生電感耦合的第一變壓器繞組的渦電流的感應，其中所述第二變壓器繞組與交流電源相連4妄。188.根據權利要求187所述的方法，其中，所述輸入包括射頻電源的4吏用。189.根據權利要求187所述的方法，其中，所述輸入包括經由圍繞所述,友p及附劑的線圏通過交流電流。190.根據權利要求189所述的方法，其中，所述碳吸附劑被容納在位於所述線圈內的容器中。191.根據權利要求178所述的方法，其中，所述輸入包括所述碳吸附劑的電阻加熱，其中所述碳吸附劑包括惠斯通橋組件的電阻。192.—種減少容器中吸附流體的後跟的方法，所述容器包含^友吸附劑，所述碳吸附劑上具有所述吸附流體，所述方法包括，向所述碳吸附劑輸入電能用於所述碳吸附劑的電阻加熱和/或感應加熱，以4吏流體後3艮/人那裡脫附。193.根據權利要求192所述的方法，進一步包括脫附的流體後跟在流體利用工藝中的使用。194.根據權利要求193所述的方法，其中，所述流體利用工藝包括微電子器件製造方法。195.根據權利要求194所述的方法，其中，所述微電子器件製造方法包4舌離子注入。196.根據權利要求193所述的方法，其中，所述碳吸附劑包括活性炭吸附劑。197.—種流體輸送方法，包括將吸附狀態的流體提供至活性炭上；乂人所述活性炭選擇性地分配流體；以及當預定的餘量流體仍吸附在所述石友吸附劑上時，通過所述石友吸附劑的電阻加熱和/或感應力口熱，對所述吸附劑進4亍電加熱，以除去所述剩餘流體。198.根據權利要求197所述的方法，進一步包括使用所述除去的剩餘流體製造微電子器件。199.根據權利要求198所述的方法，其中，所述碳吸附劑容納在流體儲存和分配容器中。200.—種半導體製造設備，包括根據權利要求156所述的裝置。201.根據權利要求200所述的設備，其中，所述設備包括設置成用於接收從所述碳吸附劑脫附的流體的離子注入機。202.—種流體利用工藝系統，包括根據權利要求156所述的裝置，及適用於接收從所述碳吸附劑脫附的流體的流體利用裝置。203.根據權利要求156所述的裝置，包括吸附在所述碳吸附劑上的流體。204.根據權利要求203所述的裝置，其中，所述流體包括電子器件製造流體。205.根據權利要求204所述的裝置，其中，所述微電子器件製造流體包括選自由砷化氫、磷化氫、氨、三氟化硼、三氯化硼、乙硼烷、有機金屬物質、三氟化氮，和氯化氫組成的組的流體。206.根據權利要求178所述的方法，其中，所述流體包括;徵電子器件製造流體。207.根據權利要求206所述的方法，其中，所述微電子器件製造流體包括選自由砷化氫、石粦化氫、氨、三氟化硼、三氯化硼、乙硼烷、有才幾金屬物質、三氟化氮，和氯化氪組成的組的流體。208.—種用於提高多孔碳吸附劑的負載容量的方法，包括在所述-友吸附劑上吸附水蒸汽；在100石身每平方英寸至500石身每平方英寸的壓力範圍內將所述碳吸附劑與惰性氣體相接觸，；在真空下除去所述惰性氣體，並將含有吸附的水蒸汽的所述^友p及附劑加熱至100°C至300。C的溫度範圍。209.根據權利要求208所述的方法，其中，所述惰性氣體包括氦氣、氬氣、氪氣和氙氣中的至少一種。210.根據權利要求209所述的方法，其中，所述惰性氣體包括氦氣。211.根據權利要求209所述的方法，其中，所述碳吸附劑為大塊的整塊形式。212.才艮據4又利要求211所述的方法，其中，所述大塊的整塊形式包括所述-灰吸附劑的圓盤。213.才艮據4又利要求212所述的方法，其中，所述圓盤成堆疊陣列。214.根據權利要求208所述的方法，其中，所述碳吸附劑在流體儲存和分配容器中。215.根據權利要求214所述的方法，其中，所述流體儲存和分配容器具有閥頭組件。216.根據權利要求208所述的方法，其中，所述碳吸附劑對於包含卣化物氣體種類的氣體具有增大的負載容量。217.根據權利要求216所述的方法，其中，所述卣化物氣體種類包括選自由三氟化硼、乙硼烷、三氯化硼、三氟化磷、五氟化砷、四氯化石圭，和四氟化4者組成的組中的氣體種類。218.根據權利要求216所述的方法，其中，所述卣化物氣體種類包4舌三氟化硼。219.—種流體儲存和分配裝置，包括含有多孔碳吸附劑的容器，適體，其中，所述碳吸附劑已通過預處理方法進行預處理，該預處理方法包4舌在所述-友吸附劑上吸附水蒸汽；在100石身每平方英寸至500磅每平方英寸的壓力範圍內，4吏所述石友吸附劑與惰性氣體相4妄觸；以及在真空下除去所述惰性氣體之後，將含有吸附的水蒸汽的所述石友吸附劑加熱至100°C至300°C的溫度範圍。220.根據權利要求219所述的流體儲存和分配裝置，包括固定至所述容器的閥頭組件。221.根據權利要求219所述的流體儲存和分配裝置，包括含有選自由三氟化硼、乙硼烷、三氯化硼、三氟化磷、五氟化砷、四氯化矽，和四氟化鍺組成的組的流體種類的流體。222.根據權利要求289所述的流體儲存和分配裝置，包括三氟化硼。223.—種用於提高多孔碳吸附劑的負載容量的方法，包括將所述碳吸附劑與溶脹劑相接觸，隨後，將所述碳吸附劑與加壓的氣態滲透劑相接觸，隨後除去所述溶脹劑和滲透劑。224.才艮據權利要求223所述的方法，其中，所述除去包括/人所述多孔碳的孔隙真空抽提所述溶脹劑和滲透劑。225.4艮據^又利要求223所述的方法，其中，所述除去包^^加熱所述多孔碳，以使其內的任何剩餘的溶脹劑和滲透劑揮發。226.根據權利要求223所述的方法，其中，所述溶脹劑包括選自由7jc、醚和醇糹且成的組的製劑。227.根據權利要求223所述的方法，其中，所述滲透劑包括惰性氣體。228.根據權利要求223所述的方法，其中，所述滲透劑包括選自由氦氣、氬氣、氪氣，和氖氣組成的組的製劑。全文摘要本發明描述了具有用於流體儲存/分配應用的碳質材料。在一種實施方式(implementation)中的碳質材料為納米多孔碳組合物，其具有至少部分地填充有賦予組合物提高的特性的材料的孔隙。另一種實施方式使用多孔碳材料作為氯氣的儲存介質。另一種實施方式使用多孔碳材料作為氫儲存介質，例如，用於氫燃料電池。在其他的實施方式中，採用多孔碳材料作為流體儲存和分配系統中的吸附介質，在多重多孔碳製品的設置中，採用位置穩定化結構以保持該設置不發生運動。本發明還描述了這樣的設置，其中，通過吸附劑的電阻和/或感應加熱對碳吸附劑進行剩餘流體的脫附。文檔編號B01D53/02GK101405069SQ200780009910公開日2009年4月8日申請日期2007年1月29日優先權日2006年1月30日發明者史蒂文·M·盧爾科特,唐納德·J·卡拉瑟斯,布賴恩·博比塔,弗蘭克·迪梅奧,約瑟夫·D·斯威尼,約瑟夫·馬爾祖洛,詹姆斯·V·麥克馬納斯,麥可·J·沃德延斯基,麥肯齊·金申請人:高級技術材料公司