一種核生化汙染全方位足部洗消裝置的製作方法

2023-05-31 19:28:36 2

專利名稱：一種核生化汙染全方位足部洗消裝置的製作方法
技術領域：
—種核生化汙染全方位足部洗消裝置技術領域[0001]本實用新型涉及一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，屬於防化技術領域。
技術背景[0002]核生化汙染洗消裝置主要用於合成軍隊防化作戰訓練、化學事故應急求援、日本遺棄化學武器處理作業中人員的局部洗消等，其作用是清洗作業人員防護器材上的汙染物，以保證作業人員的健康和生命安全。[0003]然而現有的洗消設備基本上都是採用配置在噴灑車上的噴刷或購買的簡易毛刷對作業人員腳部的靴套進行洗消，當需要全面衝洗時，易出現死角，導致洗消不徹底，且費水費時；同時洗消過程中需要的保障人員多，洗消效率低，不能滿足處理日本二戰遺棄化學武器時人員的局部洗消。發明內容[0004]有鑑於此，本實用新型提供一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，該裝置能夠對作業人員的足部進行全方位洗消，洗消徹底且效率高。[0005]本實用新型的全方位足部洗消裝置包括洗消箱、網狀踏板、噴頭驅動機構和六個噴頭。所述洗消箱為L型中空的箱體結構，沿洗消箱水平部分右端面加工有L型切口，設L 型切口的豎直部分所在的平面為平面A ;切口的長度為500mm-600mm，並將該切口用做洗消入口。在洗消箱水平部分上表面沿平面A所在端面的中間位置加工有兩個半徑相同的圓弧形凹槽，圓弧形凹槽的半徑為55mm。洗消時,作業人員的腿部分別位於兩個圓弧形凹槽內。[0006]網狀踏板水平安裝洗消箱的左端面和右端面之間，網狀踏板與洗消箱水平部分上表面間的距離為100mm-200mm，網狀踏板與洗消箱底部的距離為200mm-300mm。網狀踏板的寬度小於洗消箱水平部分的長度。網狀踏板為金屬材料製成，洗消時，作業人員站立於網狀踏板上，防止汙水對腳部造成二次汙染。洗消箱水平部分的尺寸優選為長995. 5mm,寬 807mm,高 378. 5mm。[0007]噴頭驅動機構包括電機、凸輪、連杆、連接板、推拉軟軸和搖臂。其中電機固定在洗消箱內的支撐板上，凸輪與電機的輸出軸連接，連接板通過連杆與凸輪連接，連接板上分布有六根推拉軟軸，六根推拉軟軸的另一端分別與六個搖臂連接，每個搖臂上連接一個噴頭。 所述電機選用24V直流電機。[0008]設TK個嗔頭分別為嗔頭A，嗔頭B，嗔頭C，嗔頭D，嗔頭E和嗔頭F ;7K個嗔頭具體的位置關係為噴頭Α,噴頭B,噴頭C和噴頭D在同一水平面上,位於網狀踏板上方150mm處； 噴頭A和噴頭D位於平面A左側，噴頭B和噴頭C位於平面A右側；噴頭A和噴頭B的連接線與噴頭C和噴頭D的連接線沿洗消箱的水平中心線對稱；噴頭A和噴頭D之間的距離為 440mm ;噴頭A與平面A間的垂直距離為290mm ;噴頭B與平面A間的垂直距離為382mm。[0009]噴頭E和噴頭F在同一水平面上，位於網狀踏板下方78. 5mm處；噴頭E和噴頭F 沿洗消箱的水平中心線對稱布置；噴頭E和噴頭F之間的距離為690mm ;噴頭E和噴頭F均位於平面A的左側，噴頭E和噴頭F的連接線平行於平面A，該連接線與平面A之間的垂直距離為70_。洗消時，噴頭A，噴頭B，噴頭C和噴頭D在水平面範圍左右擺動，擺動的角度為40度；噴頭E和噴頭F在豎直面內上下擺動，擺動角度為30度。有益效果(I)該種尺寸的洗消箱在滿足能夠對作業人員洗消的同時體積小結構緊湊，方便運輸，能夠在複雜的地形條件下使用；(2)裝置中噴頭A，噴頭B，噴頭C和噴頭D對作業人員腳部靴套的表面進行清洗，噴頭E和噴頭F對靴套的底面進行清洗，六個噴頭採用本實用新型中的布置方式，能夠實現對工作人員足部全方位無盲點的清洗，洗消徹底且效率高；(3)在洗消箱內布置網狀踏板可以有效地防止二次汙染，同時有利於汙水的排放與收集；同時網狀踏板的寬度小於洗消箱水平部分的長度，使網狀踏板的前後端面與洗消箱的前後端面間均有間隙，可保證汙水順利的排放，防止汙水在網狀踏板上沉積；(4)噴頭驅動機構中採用24V直流電機，能夠使該洗消裝置適用於溼熱地區的環境。

圖1為本實用新型的主視圖；圖2為六個噴頭位置分布圖；圖3為噴頭E7和噴頭F8的位置分布圖。其中1_洗消箱，2-嗔頭驅動機構，3-嗔頭A，4-嗔頭B，5-嗔頭C，6-嗔頭D，7-嗔頭E，8-噴頭F，9-網狀踏板。
具體實施方式
以下結合附圖並舉實施例，對本實用新型進行詳細描述。 本實施例提供一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，該裝置能夠對作業人員的足部進行全方位洗消，洗消徹底且效率高。如圖1所示，本實用新型的全方位足部洗消裝置包括洗消箱1、網狀踏板9、噴頭驅動機構2和六個噴頭。所述洗消箱I為L型中空的箱體結構，洗消箱I豎直部分的尺寸為995. 5mm (長)X 490mm (寬)X 1063. 5mm (高)，洗消箱I水平部分的尺寸為995. 5mm(長)X 807mm (寬)X 378. 5mm (高)，設沿洗消箱I水平部分右端面加工有寬552mm，高150mm的L型切口，用做洗消入口。設L型切口的豎直部分所在的平面為平面A，在洗消箱I水平部分上表面沿平面A所在端面的中間位置加工有兩個半徑相同的圓弧形凹槽，圓弧形凹槽的半徑為55mm。洗消時,作業人員的腿部分別位於兩個圓弧形凹槽內。網狀踏板9水平安裝在洗消箱I的左右端面之間，網狀踏板9與洗消箱I水平部分上表面之間的距離為150mm。網狀踏板9的尺寸為1297mm (長)X420mm (寬)。網狀踏板9為金屬材料製成，洗消時，作業人員站立於網狀踏板9上。噴頭驅動機構2包括電機、凸輪、連杆、連接板、推拉軟軸和搖臂。其中電機固定在洗消箱體內的支撐板上，凸輪與電機的輸出軸連接，連接板通過連杆與凸輪連接，連接板上分布有六根推拉軟軸，六根推拉軟軸的另一端分別與六個搖臂連接，每個搖臂上連接一個噴頭。在本實施例中電機選用24V直流電機。設六個噴頭分別為噴頭A3，噴頭B4，噴頭C5，噴頭D6，噴頭E 7和噴頭F8。噴頭A3，噴頭B4，噴頭C5和噴頭D6在同一水平面上，用於對作業人員腳部靴套的表面進行清洗；噴頭E7和噴頭F8在同一水平面上，用於對靴套的底面進行清洗。為了實現對足部進行全方位洗消的效果，六個噴頭具體的位置關係如圖2和圖3所示噴頭E7和噴頭F8位於網狀踏板9下方78. 5mm處，並沿洗消箱I的水平中心線對稱布置；噴頭E7和噴頭F8之間的距離為690mm ;噴頭E7和噴頭F8位於平面A的左側，噴頭E7和噴頭F8的連接線平行於平面A，該連接線與平面A之間的垂直距離為70mm。噴頭A3，噴頭B4，噴頭C5和噴頭D6位於網狀踏板9上方150mm處；噴頭A3和噴頭B4的連接線與噴頭C5和噴頭D6的連接線沿洗消箱I的水平中心線對稱；其中噴頭A3和噴頭D6位於平面A左側，噴頭B4和噴頭C5位於平面A右側，噴頭A3和噴頭D6之間的距離為440mm ;噴頭A3和噴頭D6的連線與平面A間的垂直距離為290mm ;噴頭B4和噴頭C5的連線與平面A間的垂直距離為382mm。洗消時，噴頭A3，噴頭B4，噴頭C5和噴頭D6在水平面範圍左右擺動，擺動的角度為40度；噴頭E7和噴頭F8在豎直面內上下擺動，擺動的角度為30度。使用時，作業人員從洗消入口進入洗消箱I內的網狀踏板9上，啟動噴頭驅動機構2，六個噴頭便可全方位的對作業人員的腳部進行洗消。綜上所述，以上僅為本實用新型的較佳實施例而已，並非用於限定本實用新型的保護範圍。凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。
權利要求1.一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，其特徵在於，包括洗消箱(I)、網狀踏板(9)、噴頭驅動機構(2)和六個噴頭； 所述洗消箱(I)為L型中空的箱體結構，沿洗消箱(I)水平部分右端面加工有L型切口，切口的寬度為500mm-600mm ;設L型切口的豎直部分所在的平面為平面A ;在洗消箱(I)水平部分上表面沿平面A所在端面的中間位置加工有兩個半徑相同的圓弧形凹槽； 所述網狀踏板(9)水平安裝洗消箱(I)的左端面和右端面之間，網狀踏板(9)與洗消箱(I)水平部分上表面間的距離為100mm-200mm ;網狀踏板(9)與洗消箱(I)底部的距離為200mm-300mm ； 所述噴頭驅動機構(2)包括電機、凸輪、連杆、連接板、推拉軟軸和搖臂；電機固定在洗消箱(I)內的支撐板上，凸輪與電機的輸出軸連接，連接板通過連杆與凸輪連接，連接板上分布有六根推拉軟軸，六根推拉軟軸的另一端分別與六個搖臂連接，每個搖臂上連接一個嗔頭； 設TK個嗔頭分別為嗔頭A (3)，嗔頭B (4)，嗔頭C (5)，嗔頭D (6)，嗔頭E (7)和嗔頭F (8)； 六個噴頭具體的位置關係為噴頭A (3)，噴頭B (4)，噴頭C (5)和噴頭D (6)在同一水平面上，位於網狀踏板(9)上方150mm處；噴頭A (3)和噴頭D (6)位於平面A左側，噴頭B (4)和噴頭C (5)位於平面A右側；噴頭A (3)和噴頭B (4)的連接線與噴頭C (5)和噴頭D (6)的連接線沿洗消箱(I)的水平中心線對稱；噴頭A (3)和噴頭D (6)之間的距離為440mm ;噴頭A (3)與平面A間的垂直距離為290mm ;噴頭B (4)與平面A間的垂直距離為382mm ； 噴頭E (7)和噴頭F (8)在同一水平面上，位於網狀踏板(9)下方78. 5mm處；噴頭E(7)和噴頭F (8)沿洗消箱(I)的水平中心線對稱布置；噴頭E (7)和噴頭F (8)之間的距離為690mm;噴頭E (7)和噴頭F (8)均位於平面A的左側，噴頭E (7)和噴頭F (8)的連接線平行於平面A，該連接線與平面A之間的垂直距離為70_ ； 洗消時，噴頭A (3)，噴頭B (4)，噴頭C (5)和噴頭D (6)在水平面範圍左右擺動，擺動的角度為40度；噴頭E (7)和噴頭F (8)在豎直面內上下擺動，擺動角度為30度。
2.如權利要求1所述的一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，其特徵在於，所述圓弧形凹槽的半徑為55mm。
3.如權利要求1所述的一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，其特徵在於，所述洗消箱(I)水平部分的尺寸為長995. 5mm,寬807mm，高378. 5mm。
4.如權利要求1所述的一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，其特徵在於，所述網狀踏板(9)的寬度小於洗消箱(I)水平部分的長度。
5.如權利要求1所述的一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，其特徵在於，所述噴頭驅動機構(2 )中的電機選用24V直流電機。
專利摘要本實用新型提供一種核生化汙染全方位足部洗消裝置，該裝置包括洗消箱、網狀踏板、噴頭驅動機構和六個噴頭。洗消箱為L型的中空箱體結構，網狀踏板水平安裝在洗消箱的左右端面之間。噴頭驅動機構遠距離柔性傳動噴頭擺動機構。沿洗消箱水平部分右端面加工L型切口，用做洗消入口。以L型切口的豎直面及網狀踏板所在的平面為基準，合理布置六個噴頭的位置，能夠實現對工作人員足部全方位無盲點的清洗，洗消徹底且效率高。
文檔編號B08B3/02GK202823963SQ20122048755
公開日2013年3月27日 申請日期2012年9月21日 優先權日2012年9月21日
發明者廖明鑫, 王洛國, 張裕祥, 王黎娜, 李德斌, 李京輝, 彭斌 申請人:中國人民解放軍防化學院