一種均勻鹽霧發生裝置製造方法
2023-05-31 11:43:56
一種均勻鹽霧發生裝置製造方法
【專利摘要】本發明公開了一種均勻鹽霧發生裝置，包括化鹽池、水泵、鹽溶液輸入導管和至少一級噴霧器；所述噴霧器包括均壓池進水閥、均壓池、回流管、帶閥門的鹽溶液輸出軟管、鹽溶液噴口、空氣壓縮機、壓縮空氣輸入軟管和壓縮空氣噴口；化鹽池連接水泵，水泵通過鹽溶液輸入導管連接均壓池；均壓池上設有孔洞連接回流管通向化鹽池；均壓池底面設有孔洞通過鹽溶液輸出軟管連接鹽溶液噴口；空氣壓縮機由管連通至壓縮空氣噴口；壓縮空氣噴口將鹽溶液噴口噴出的鹽溶液沿壓縮空氣噴口的方向吹散成霧狀，形成均勻鹽霧，實現在人工霧室條件下模擬實際鹽霧環境的目的。
【專利說明】-種均勻鹽霧發生裝置
【技術領域】
[0001] 本發明屬於高壓外絕緣試驗領域，更具體地，設及一種在絕緣子閃絡試驗中產生 均勻鹽霧的發生裝置。
【背景技術】
[0002] 鹽水、導電霧、酸雨等導電液體電解質在絕緣子表面的沉積，將大大降低絕緣子的 電氣強度，使絕緣子的狀態在很短的時間內從一種低電導狀態改變直到閃絡，造成運行中 的汙閃事故，導致線路跳閩，嚴重影響電力系統安全可靠運行。針對由於液體電解質在絕緣 子表面沉積造成的汙閃事故，需要開展絕緣子在鹽霧條件下的汙穢閃絡特性和汙耐壓特性 研究，提出應對措施。
[0003] 閃絡主要受到絕緣子本身和環境條件的影響，環境條件主要指鹽霧的鹽度。現有 技術對於鹽霧條件下絕緣子汙穢閃絡特性的研究，主要採用鹽霧法。鹽霧法的試驗過程主 要是向人工霧室中噴灑鹽霧，模擬絕緣子在鹽霧條件下的溼潤。鹽霧法試驗中，若噴灑的鹽 霧不均勻，絕緣子各處受鹽霧的潤溼度不均勻，則無法模擬實際的鹽霧對絕緣子的作用，影 響實驗結果的準確性，因此獲取均勻鹽霧是鹽霧法實驗的關鍵。
[0004] 目前IEC標準和國家標準只對鹽霧的鹽度做出了要求，對於如何產生均勻的鹽霧 沒有相關說明。申請公布號為CN103350046A的中國發明專利公開了一種汙穢試驗霧室內 的蒸汽霧調節裝置，所述裝置產生的蒸汽霧是純水霧，無法利用該類裝置產生鹽霧。
【發明內容】
[0005] 針對現有技術的W上缺陷或改進需求，本發明提供了一種均勻鹽霧發生裝置，其 目的在於產生均勻鹽霧使人工汙穢實驗更接近實際汙閃情況，由此提高人工汙穢實驗結果 的參考價值。
[0006] 為實現上述目的，本發明提供一種均勻鹽霧發生裝置，所述裝置包括；化鹽池、水 累、鹽溶液輸入導管和至少一級噴霧器；所述噴霧器包括均壓池進水閥、均壓池、回流管、帶 閥口的鹽溶液輸出軟管、鹽溶液噴口、空氣壓縮機、壓縮空氣輸入軟管和壓縮空氣噴口；
[0007] 所述化鹽池、鹽溶液輸入導管、均壓池進水閥、均壓池、回流管、鹽溶液噴口、壓縮 空氣噴口W及帶閥口的鹽溶液輸出軟管和壓縮空氣輸入軟管均採用耐腐蝕塑料材料。
[000引化鹽池連接水累，水累通過鹽溶液輸入導管連接均壓池進水閥，將溶液送入均壓 池；所述均壓池為一開口容器，容器壁上設有第一孔洞，第一孔洞連接回流管，所述回流管 通向化鹽池；第一孔洞的直徑大於進水閥的直徑，使第一孔洞的通流能力大於進水閥的通 流能力，保證均壓池內液面高度不超過第一孔洞；
[0009] 均壓池底面設有第二孔洞，所述第二孔洞通過鹽溶液輸出軟管連接鹽溶液噴口； 均壓池的第一孔洞與鹽溶液噴口之間有一定的高度差，所述高度差可調；所述空氣壓縮機 由壓縮空氣輸入軟管連通至壓縮空氣噴口；壓縮空氣噴口方向與鹽溶液噴口設置在同一水 平面上，噴口方向互相垂直，鹽溶液噴口噴出的鹽溶液沿壓縮空氣噴口的方向吹散成霧狀， 形成鹽霧。
[0010] 所述第一孔洞的直徑大於鹽溶液輸入導管的直徑，當均壓池內鹽溶液高度達到第 一孔洞的高度時，超出的鹽溶液就經由所述孔洞通過回流管回流至化鹽池中，保證均壓池 中液面高度一定，在均壓池中液面高度穩定後打開鹽溶液噴口處的閥口使鹽溶液噴出，同 時開啟空氣壓縮機，產生鹽霧。
[0011] 優選的，均壓池的第一孔洞與鹽溶液噴口之間高度差的調節範圍在0. 3m?1. 2m， W保證鹽溶液噴口處鹽溶液的壓力保持在2940?11760Pa ;鹽溶液噴口與均壓池的第一孔 洞之間的高度差越大，則鹽溶液噴口噴出的鹽溶液流量越大，產生的鹽霧覆蓋範圍越廣；在 鹽溶液壓力的作用下鹽溶液從鹽溶液噴口噴出；所述裝置噴射出的鹽溶液流量是固定的， 採用多級噴霧器時，每個鹽溶液噴口噴射的鹽溶液流量一致。
[0012] 優選的，所述鹽溶液噴口的內直徑為1mm?5mm，與之匹配的壓縮空氣噴口內直徑 為 0. 5mm ?3. 5mm。
[0013] 優選的，所述噴霧器的級數根據人工汙穢實驗所使用的絕緣子串的長度確定，噴 霧器的級數N =(絕緣子長度/鹽溶液噴口間高度差）+3,當計算得到的N不為整數時，按 進一法計；採用多級噴霧器時，各級噴霧器的均壓池中所述第一孔洞的設置高度相同；相 鄰兩級噴霧器的鹽溶液噴口之間高度差相同，範圍在0. 5m?0. 6m。
[0014] 優選的，所述化鹽池的內壁標有刻度，通過刻度能直接讀出池內溶液的體積。
[0015] 優選的，所述均壓池與鹽溶液噴口的高度差可調節。
[0016] 總體而言，通過本發明所構思的W上技術方案與現有技術相比，具有W下有益效 果：
[0017] (1)由於本裝置採用均壓池保證各級噴霧器中鹽溶液液面與鹽溶液噴口之間的高 度差一致，使得各個鹽溶液噴口噴出的鹽溶液流量一致；壓縮空氣噴口連接同一空氣壓縮 機，各壓縮空氣噴口的壓力一致，使得壓縮空氣噴口噴出的壓縮空氣流量也一致生成的鹽 霧均勻，實現在人工霧室條件下模擬實際鹽霧環境的目的；
[0018] (2)由於本裝置選用耐腐蝕材料，避免了鹽霧試驗中強腐蝕試劑造成的裝置生誘 報廢的問題；
[0019] (3)由於本裝置均壓池與鹽溶液噴口的高度差可調節，可通過控制鹽溶液的壓力 來改變鹽溶液噴口的流量。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0020] 圖1是本發明的整體結構示意圖；
[0021] 圖2是本發明中均壓池的典型結構圖；
[0022] 圖3是本發明中一種鹽溶液噴口和壓縮空氣噴口的典型結構圖。
[0023] 在所有附圖中，相同的附圖標記用來表示相同的元件或結構，其中；1-化鹽池、 2-水累、3-鹽溶液輸入導管、4-均壓池進水閥、5-均壓池、6-回流管、7-帶閥口的鹽溶液輸 出軟管、8-鹽溶液噴口、9-空氣壓縮機、10-壓縮空氣輸出軟管、11-壓縮空氣噴口、12-第一 孔洞、13-第二孔洞。
【具體實施方式】
[0024] 為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，W下結合附圖及實施例，對 本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用W解釋本發明，並 不用於限定本發明。此外，下面所描述的本發明各個實施方式中所設及到的技術特徵只要 彼此之間未構成衝突就可W相互組合。
[0025] 圖1為本發明裝置實施例1的整體結構示意圖，包括化鹽池1、水累2、內直徑為 15mm的鹽溶液輸入導管3、內直徑10mm的均壓池進水閥4、均壓池5、內直徑為20mm的回流 管6、內直徑為5mm的鹽溶液輸出軟管7、鹽溶液噴口 8、空氣壓縮機9、內直徑為5mm的壓縮 空氣輸入軟管10,壓縮空氣噴口 11。
[0026] 化鹽池1連接水累2,配製好的鹽溶液經過水累2由鹽溶液輸入導管3送至均壓池 進水閥4,抽入均壓池5 ;均壓池5為一開口容器，容器壁上距離容器底部0. 2m高度處設有 第一孔洞12,第一孔洞連接回流管6,所述回流管6通向化鹽池1，均壓池5內鹽溶液達到第 一孔洞12的高度時，多出的鹽溶液就經由第一孔洞通過回流管6回流至化鹽池中，保證均 壓池中液面的高度一定；均壓池5底面設有第二孔洞13,通過鹽溶液輸出軟管7連接至鹽 溶液噴口 8 ;空氣壓縮機9將壓縮空氣通過壓縮空氣輸出軟管10送至壓縮空氣噴口 11 ;壓 縮空氣噴口方向設置與鹽溶液噴口設置在同一水平面上，噴口方向互相垂直，在本實施例 中，鹽溶液噴口 8的內直徑為2mm。
[0027] 化鹽池1用於調配鹽溶液，將鹽（金屬離子或錠根離子（NH4+)與酸根離子或非金 屬離子結合的化合物）溶解在水中形成電解質溶液，其內壁標有刻度，可直接讀出池內溶 液的體積。
[002引第一孔洞12與鹽溶液噴口 8之間的高度差保持為0. 7m，鹽溶液噴口 8處鹽溶液的 壓力保持6860化，在鹽溶液壓力的作用下，鹽溶液從鹽溶液噴口 8噴出；所述裝置噴射出的 鹽溶液流量是固定的；採用多級噴霧時，各級噴霧器的鹽溶液噴口 8噴射的鹽溶液流量一 致。
[0029] 鹽溶液噴口 8垂直方向上，壓縮空氣噴口 11噴射出700Wa高壓氣體，鹽溶液噴口 8噴出的鹽溶液沿壓縮空氣噴口 11的方向（垂直於鹽溶液噴口方向）吹散成霧狀，形成均 勻鹽霧；實施例1中該壓縮空氣噴口 11的內直徑為1mm。
[0030] 在實際使用過程中，本發明中鹽溶液輸入導管3、均壓池進水閥4、均壓池5、回流 管6、帶閥口的鹽溶液輸出軟管7、鹽溶液噴口 8 W及壓縮空氣噴口 11構成一級噴霧器，根 據人工汙穢試驗中所使用的絕緣子串的長度，所使用的級數會不同。實施例1中，噴霧器級 數為3級，每一級的鹽溶液噴口之間的高度差為0. 5m。
[0031] 實施例2?4,本發明的均勻鹽霧發生裝置所設及的參數，還可W選用下表所列的 數據。
[0032] 表1均勻鹽霧裝置參數列表
[0033]
【權利要求】
1. 一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述裝置包括：化鹽池、水泵、鹽溶液輸入導 管和至少一級噴霧器；所述噴霧器包括均壓池進水閥、均壓池、回流管、帶閥門的鹽溶液輸 出軟管、鹽溶液噴口、空氣壓縮機、壓縮空氣輸入軟管和壓縮空氣噴口； 所述化鹽池連接水泵，水泵通過鹽溶液輸入導管連接均壓池進水閥；所述均壓池為一 開口容器，容器壁上設有第一孔洞，第一孔洞連接回流管，所述回流管通向化鹽池；第一孔 洞的直徑大於均壓池進水閥的直徑，使第一孔洞的通流能力大於進水閥的通流能力，保證 均壓池內液面高度不超過第一孔洞； 均壓池底面設有第二孔洞，所述第二孔洞通過鹽溶液輸出軟管連接鹽溶液噴口；所述 第一孔洞與鹽溶液噴口之間留有高度差；所述空氣壓縮機由壓縮空氣輸入軟管連通至壓縮 空氣噴口；壓縮空氣噴口方向與鹽溶液噴口設置在同一水平面上，噴口方向互相垂直；鹽 溶液噴口噴出的鹽溶液沿壓縮空氣噴口的方向吹散成霧狀，形成均勻鹽霧。
2. 如權利要求1所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述化鹽池、鹽溶液輸入 導管、均壓池進水閥、均壓池、回流管、鹽溶液噴口、壓縮空氣噴口、帶閥門的鹽溶液輸出軟 管和壓縮空氣輸入軟管均採用耐腐蝕塑料材料。
3. 如權利要求1或2所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述化鹽池、鹽溶液 輸入導管、均壓池進水閥、均壓池、回流管、鹽溶液噴口、壓縮空氣噴口選用聚乙烯材料；所 述鹽溶液輸出軟管和壓縮空氣輸入軟管選用PVC材料。
4. 如權利要求1所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述第一孔洞與鹽溶液 噴口之間的高度差可調。
5. 如權利要求4任一項所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述第一孔洞與 鹽溶液噴口之間高度差的調節範圍為〇. 3m?1. 2m。
6. 如權利要求1至5任一項所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述鹽溶液噴 口的內直徑為1mm?5mm，與之匹配的壓縮空氣噴口內直徑為0? 5mm?3. 5mm〇
7. 如權利要求6所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述鹽溶液噴口的內直 徑為2mm，與之匹配的壓縮空氣噴口內直徑為lmm〇
8. 如權利要求1至6任一項所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述裝置採用 多級噴霧器時，各級噴霧器的均壓池中所述第一孔洞的設置高度相同；相鄰兩級噴霧器的 鹽溶液噴口之間高度差相同，範圍在〇. 5m?0. 6m。
9. 如權利要求7所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述噴霧器的級數根據 人工汙穢實驗所使用的絕緣子串的長度確定，噴霧器的級數N =(絕緣子長度/鹽溶液噴 口間高度差）+3。
10. 如權利要求1所述的一種均勻鹽霧發生裝置，其特徵在於，所述化鹽池的內壁標有 刻度，通過刻度能直接讀出溶液的體積。
【文檔編號】G01R31/00GK104502258SQ201410734177
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年12月4日 優先權日:2014年12月4日
【發明者】王綏瑜, 何正浩, 陳欽柱, 宋思齊, 黃松, 王昱晴, 梁亞峰, 羅亞運 申請人:海南電力技術研究院, 華中科技大學