一種用於人臉識別的近紅外濾光片的製作方法
2023-06-22 20:54:46 3
專利名稱：一種用於人臉識別的近紅外濾光片的製作方法
技術領域：
本實用新型屬於生物特徵識別領域，涉及到一種人臉識別的關鍵器件-近紅外濾 光片。
背景技術：
生物特徵識別技術是目前最為方便、最為安全的身份識別技術，與目前廣泛應用 的指紋識別技術相比，更直觀，更方便，更友好而且非接觸。但是，在有可見光尤其是太陽光 的環境下，識別性能會顯著下降，無法大規模推廣使用。專利號為」 ZL 200520022878. 1」的「一種用於人臉識別的圖像獲取裝置」所列出 的「用於抑制或濾除可見光的濾片或鍍膜」以及「所述濾光片或鏡頭鍍膜為可見光抑制且紅 外光通過的帶通型或長通截止型紅外濾光鏡片或鍍膜」，該專利僅僅提出了濾除可見光，並 沒有提出濾除850，940以外的紅外光，造成白熾燈或太陽光中近紅外線的嚴重幹擾，影響 了識別的準確性，而且只提出對濾光片的性能要求，沒有具體的膜繫結構，也沒有定量的結 構參數。。專利號為」ZL 200710304305. 1」的「用於人臉識別的紅外濾光片及其製作方法」所
列出的「採用紅外線透射玻璃結合鍍膜方法製作的紅外濾光片具有窄帶和高截止深度」，也 是只是提出對濾光片的性能要求，沒有具體的膜繫結構，也沒有定量的結構參數。而且該專 利中提出使用的紅外光透射玻璃的厚度為3-9毫米，對於使用手機攝像小鏡頭的人臉識別 儀器，濾光片太厚，無法滿足要求。
發明內容本實用新型針對現有技術的不足，提供了一種用於人臉識別系統的近紅外濾光片 的優化結構和膜系參數，所鍍制的濾光片矩形化好，帶寬適中，截止深度高，綜合性能優異， 滿足了各種型號的人臉識別儀器的需要。本實用新型通過以下技術方案來實現—種用於人臉識別的近紅外濾光片，包括玻璃基片和濾光片主膜系，濾光片主膜 系採用真空鍍膜的方法鍍制於玻璃基片上，主膜系由19-49層高折射率層H和低折射率層 L交替組成，H層的折射率N= 2. 15-2. 95，L層的折射率N= 1. 31-1. 46，膜系光學厚度ND 的總和 4462. 5-15040nm。所述濾光片主膜系的H層的材料為硫的化合物、鈦的氧化物、晶體矽中的一種，L 層的材料為冰晶石、氟化鎂、二氧化矽中的一種。所述濾光片主膜系的每層H層和L層的光學厚度為850nm或者940nm的1/4。所述濾光片主膜系的典型設計為29層雙半波，其結構為MLMLM，其中M = HLHL4HLHLH。本發明的有益效果是，通過分析人臉識別儀器使用環境和紅外光源的特性，結合 實際可以達到的鍍膜材料的折射率，設計了最優的濾光片結構參數，使得所鍍制的濾光片
3矩形化好，帶寬適中，截止深度高，綜合性能優異，滿足了各種型號的人臉識別儀器的需要。以下結合附圖和實施方式對本實用新型做進一步的說明。
圖1是本實用新型實的結構圖。圖2是本實用新型實施例1的光譜透射比曲線。圖3是本實用新型實施例2的光譜透射比曲線。圖4是本實用新型實施例3的光譜透射比曲線。圖5是本實用新型實施例4的光譜透射比曲線。圖6是本實用新型實施例5的光譜透射比曲線。附圖標記說明1-玻璃基片1 ；2-濾光片主膜系；3-光學膠；4-濾光片具體實施方式
圖1為本實用新型的結構圖，1為光學玻璃或浮法玻璃基片，其厚度為0. 5-2毫 米，薄一些光損失少，也比較好加工。將其切片，整園，拋光，清洗後放入真空鍍膜機，在真空 狀態下離子轟擊後，交替蒸鍍19-49層高低折射率濾光片主膜系，每層的光學厚度ND鍍到 850nm或者940nm的1/4，放氣後掃描光譜曲線，把峰值波長在850+_5nm或者940+/_5nm的 挑出來和濾光片4通過光學膠3膠合。長波通濾光片4可以直接是厚度2-6毫米的HWB830 或者HWB850黑色玻璃，也可以是白玻璃上鍍制類似HWB830性能的長波通膜系。膠合材料 可以使用光敏膠，也可以使用環氧樹脂膠。實施例1 圖2是本實用新型實施例1的光譜透射比曲線。所述濾光片主膜係為19層單半波或19層雙半波，19層單半波結構為MLM，其中M =HLHL2HLHLH ；19 層雙半波結構為MLM，其中 M = HLHL4HLHLH。將拋光清洗好的0. 55毫米厚的光學玻璃基片放入真空鍍膜機，交替蒸鍍19層Si 和sio2帶通濾光片主膜系，si的折射率為2. 95，sio2的折射率為1. 46主膜系的結構為 MLM，其中M = HLHL2HLHLH。每個H和L層的光學厚度鍍到850nm的1/4，總厚度為4462. 5nm。 主膜系鍍完放氣後掃描的光譜曲線如圖2所示，把峰值波長在850+/-5nm的挑出來和厚度 為4毫米的HWB800濾光片4通過光敏膠3膠合。實施例2 圖3是本實用新型實施例2的光譜透射比曲線。所述濾光片主膜係為23層單半波，其結構為MLM，其中M = HLHLH2LHLHLH。將拋光清洗好的0. 70毫米厚的光學玻璃基片放入真空鍍膜機，交替蒸鍍23層硫 化鋅和冰晶石帶通濾光片主膜系，硫化鋅的折射率為2. 3，冰晶石的折射率為1. 31，主膜系 的結構為MLM，其中M = HLHLH2LHLHLH。每個H和L層的光學厚度鍍到850nm的1/4，總厚 度為5312. 5nm。主膜系鍍完放氣後掃描的光譜曲線如圖3所示，把峰值波長在850+/-5nm 的挑出來和厚度為5毫米的HWB850濾光片4通過光敏膠3膠合。實施例3 [0031]圖4是本實用新型實施例3的光譜透射比曲線。所述濾光片主膜係為29層雙半波，其結構為MLMLM，其中M = HLHL4HLHLH。將拋光清洗好的0. 55毫米厚的光學玻璃基片放入真空鍍膜機，交替蒸鍍29層硫 化鋅和氟化鎂帶通濾光片主膜系，硫化鋅的折射率為2. 3，氟化鎂的折射率為1. 38，主膜系 的結構為MLMLM，其中M = HLHL4HLHLH。每個H和L層的光學厚度鍍到940nm的1/4，總厚 度為8930nm，放氣後掃描的光譜曲線如圖4所示，把峰值波長在940+/-5nm的挑出來和兩片 鍍制有半波長為850的長波通濾光片4通過光敏膠3膠合，半波長為850的濾光片4採用 常規方法鍍制。實施例4 圖5是本實用新型實施例4的光譜透射比曲線。所述濾光片主膜係為39層雙半波，其結構為MLMLMLM，其中M = HLHL4HLHLH。將拋光清洗好的1毫米厚的光學玻璃基片放入真空鍍膜機，交替蒸鍍39層Si和 sio2帶通濾光片主膜系，si的折射率為2. 95，sio2的折射率為1. 46主膜系的結構為 MLMLMLM，其中M = HLHL4HLHLH。每個H和L層的光學厚度鍍到940nm的1/4，總厚度為 11985nm，放氣後掃描的光譜曲線如圖5所示，把峰值波長在940+/_5nm的挑出來和HWB850 濾光片4通過光敏膠3膠合。實施例5 圖6是本實用新型實施例5的光譜透射比曲線。所述濾光片主膜係為49層雙半波，其結構為MLMLMLMLM，其中M = HLHL4HLHLH。將拋光清洗好的2毫米厚的光學玻璃基片放入真空鍍膜機，交替蒸鍍49層Tio2 和sio2帶通濾光片主膜系Tio2的折射率為2. 15，sio2的折射率為L 46，主膜系的結構為 MLMLMLMLM，其中M = HLHL4HLHLH。每個H和L層的光學厚度鍍到940nm的1/4總厚度為 15040nm，放氣後掃描的光譜曲線如圖6所示，把峰值波長在940+/_5nm的挑出來和HWB850 濾光片4通過光敏膠3膠合。本技術領域中的相關技術人員應當熟悉到，以上所述實施例僅是用來說明本實用 新型的目的，而並非用作對本實用新型的限定，只要在本實用新型的實質範圍內，對上述實 施例所做的變化、變型都將落在本實用新型的權利要求範圍內。
權利要求一種用於人臉識別的近紅外濾光片，包括玻璃基片和濾光片主膜系，其特徵在於濾光片主膜系鍍制於玻璃基片上，主膜系由19 49層高折射率層H和低折射率層L交替組成。
2.根據權利要求1所述的一種用於人臉識別的近紅外濾光片，其特徵在於所述濾光 片主膜系的H層的材料為硫的化合物、鈦的氧化物或晶體矽中的一種，L層的材料為冰晶石、氟化鎂或二氧化矽中的一種。
專利摘要一種用於人臉識別的近紅外濾光片，包括玻璃基片和濾光片主膜系，濾光片主膜系鍍制於玻璃基片上，主膜系由19-49層高折射率層H和低折射率層L交替組成，所述濾光片主膜系的H層的材料為硫的化合物、鈦的氧化物或晶體矽中的一種，L層的材料為冰晶石、氟化鎂或二氧化矽中的一種。用本技術所述結構鍍制的濾光片矩形化好，帶寬適中，截止深度高，綜合性能優異，滿足了各種型號的人臉識別儀器的需要。
文檔編號G02B5/20GK201749207SQ20102024886
公開日2011年2月16日 申請日期2010年7月6日 優先權日2010年7月6日
發明者黃加玉 申請人:北京金吉奧夢科技有限公司