輻照組件及其應用和自清洗方法
2023-06-15 00:07:31
專利名稱：輻照組件及其應用和自清洗方法
技術領域：
本發明的一個方面涉及從輻照組件上清除汙物的方法。
本發明的另一個方面涉及用於流體處理系統的輻照組件，更具體而言，涉及自清洗式輻照源組件。
本發明的另一個方面還涉及流體處理系統，更具體而言，涉及自清洗式流體處理系統。
本發明的另一個方面還涉及在包括輻照源組件的流體處理系統中處理流體的方法，更具體而言，涉及在流體處理期間採用避免在輻照源組件上形成汙物的方式處理流體的方法。
背景技術：
流體處理裝置和系統是眾所周知的。例如美國專利4,482,809、4,872,980、5,006,244和5,418,370(全都轉讓給本發明的受讓人)，這些專利公開的內容都併入本發明作為參考。這些專利都敘述了自流式加料的流體處理系統，該系統採用紫外線(UV)輻照使在流體中存在的微生物失活。
在』809、』980和』244專利中所述的裝置和系統通常包括幾個UV燈，其中每個UV燈都安裝在延伸到燈架的二個支承臂之間的套筒裡。該燈架浸在被處理的流體裡，然後根據要求輻照該流體。對被輻照流體的輻射強度由流體與燈的距離確定。可採用一個或多個UV傳感器監測這些燈的UV輸出功率，且通常利用液位控制閘門等方法在處理裝置的下遊控制流體的液位使其達到一定的高度。
然而，上述這些系統存在一些缺點，UV燈外圍的套筒經過一定時間會被外來物質所汙染粘附，這些物質妨礙套筒向流體透射UV輻射的能力，汙染的程度取決於所處理流體的質量。如果發生了汙染，可根據歷史上的運行資料或通過UV傳感器測定來確定必須用手工清洗套筒除去汙染物的時間間隔。無論所採用的UV燈架是敞開式的流槽系統還是封閉系統，清洗套筒都是不現實的。
在敞開式流槽系統中，通常從流槽上拆下包括套筒在內的組件，再將其浸泡在一個裝有適當清洗液體的容器裡。在封閉式系統中，必須使該裝置停止運行，然後裝入適宜的清洗液體或採用對敞開式流槽系統所述的方法拆下燈和套筒，對套筒進行清洗。在這兩種類型的系統中操作者都必須接受處理系統長時間的停機，和/或投入很多的額外資金，花費在具有適當控制裝置的相當長的系統上，以便從被清洗的系統轉移流體流。
』370專利所述的系統在技術上是非常先進的，它避免了』809，』980和』244專利的許多缺點。更準確地說，在它的一個實施方案中，』370專利所述的系統包括在流體處理系統中配置輻照源部件的清洗裝置。該清洗裝置包括與輻照源部件外表的一部分相接的清洗套筒，且該套筒在縮回和伸出位置之間是可移動的。在縮回的位置上，輻照源部件的前部浸泡在被處理的流體流中。在伸出的位置上，輻照源部件的前部被清洗套筒所遮蓋。清洗套筒包括一個與所述輻照源部件前部吻合的腔，且其中裝有適宜的清洗溶液，以便從輻照源部件的前部除去所不需要的物質。
雖然』370專利所述的清洗裝置在技術上是先進的，但製作它既比較複雜又比較昂貴，要建造成套的流體處理設備，需要投入較多的資金。而且在某些設備中，該裝置使被處理的流體流產生較大的水力壓頭損失。因此希望有一種能保持』370專利所述清洗裝置的特性，同時在構造上既比較簡單又比較便宜的設備。
發明內容
本發明的一個目的是提供一種從輻照組件上清洗汙物的新穎方法。
本發明的另一個目的是提供一種新型的輻照組件。
本發明的另一個目的是提供一種新型的流體處理裝置，該裝置避免或減少了現有技術的至少一個缺點。
本發明的另一個目的是提供一種新穎的處理流體的方法，該方法避免或減少了現有技術的至少一個缺點。
因此，本發明的一個方面提供一種從輻照組件上清洗汙物的方法，該方法包括以下步驟(I)將輻照組件的至少一部分浸在流體裡；和(ii)使輻照組件在足以基本上阻止汙物附著到輻照組件上的頻率下振動。
本發明的另一個方面提供一種用於流體處理系統的輻照組件，該組件包括一個支件，用於在流體處理系統中固定該組件；至少一個從支件上伸出的輻照部件；和至少一個與輻照部件相連的振動發生器。
本發明的另一個方面還提供一種流體處理系統，其中包括流體入口、流體出口和配置在流體入口和出口之間的流體處理區以及至少一個輻照組件，該組件包括一個支件、至少一個從支件伸進流體處理區的輻照部件和至少一個與輻照部件相連的振動發生器。
本發明的另一個方面還提供一種在流體處理系統中處理流體的方法，該流體處理系統包括流體入口、流體出口和配置在流體入口和流體出口之間的流體處理區以及至少一個輻照組件該組件包括一個支件、至少一個從支件伸進流體處理區的輻照部件和至少一個與輻照部件相連的振動發生器；這種方法包括下列步驟(i)向流體入口提供流體流；(ii)將流體流從流體入口導入流體處理區；(iii)使流體流在流體處理區受到輻照；(iv)使振動發生器在足以清洗至少一個輻射部件的頻率下工作；和(v)將流體流輸送到流體出口。
因此，本發明的一個方面涉及用於流體處理系統的輻射組件。本說明書自始至終所用的術語「輻照組件(radiation module)」包括發射和檢測射線的組件。因此，在一個優選的實施方案中，本發明的輻照組件是一個在流體處理系統中發出輻射線的輻照源組件。在另一個實施方案中，本發明的輻照組件是一個檢測從另一個輻射源發出的輻射線的輻照傳感器組件。
附圖簡述將參照附圖敘述本發明的一些實施方案，其中
圖1是根據本發明的輻照源組件第一個實施方案局部剖開的正視圖；圖2是圖1所示輻照源組件的俯視圖；圖3是圖1所示輻照源組件的側視圖；和圖4是圖1A區的放大圖。
在這些圖中，使用相同的編號標明各個圖中相同的部件。
實施本發明的最佳方式本發明的輻照組件優選是一種基本上是自清洗式的輻照源組件。本說明書自始至終所用術語「自清洗」和「清洗」的定義很寬，包括從組件的輻照源部件上除去汙物或阻止汙物附著到組件的輻照源部件上或這二種同時起作用。在大多數情況下，如果在整個流體處理期間，振動發生器一直在工作(即連續方式)，則會出現後一情況。然而，顯然預期在流體處理期間，輻照源組件可以在振動發生器定期工作的情況下運行(即半連續方式)。在這種情況下，在振動發生器工作時，會很快除掉在振動發生器未工作時附著到輻射源部件上的汙物。
在組件中，振動發生器與輻照源部件相連並使輻照源部件產生瞬間的機械振動。在理想情況下，振動發生器的表面與輻照源部件表面暴露在流體中(因而很可能被汙染)的一端鄰接，而振動發生器的另一面與輻照源組件的剛性表面鄰接。這會最大限度地將振動能從振動發生器轉移到輻照源部件的自由端。這種連接可以是直接或間接的。優選將本身不是振動發生器的剛性絕緣件分別配置在振動發生器和輻照源組件的剛性表面以及輻照源部件之間。這會使輻照源部件和輻照源組件剛性表面之間形成電絕緣。振動以往複方式進行，這對本領域的技術人員來說是顯而易見的。就輻照源部件而言，優選在軸向上產生振動。可利用壓電振子產生這種振動，優選採用壓電陶瓷振子。壓電陶瓷振子一直慣用於聲納。適用於本發明輻照源組件的適宜的壓電陶瓷振子在市場上可從EDO Corporation(猶他州、鹽湖城)買到，它們基本上是由滿足美國海軍第1類(I)或美國海軍第3類(III)技術規格的陶瓷元件組件。滿足美國海軍第1類技術規格的陶瓷元件是一種居裡點高於約310℃的硬質鋯鈦酸鉛和滿足美國海軍第3類技術規格的陶瓷元件是一種居裡點高於約290℃非常堅硬的鋯鈦酸鉛，這對本領域的技術人員是顯而易見的。在1984年2月28日公布的國防部標準DOD-STD 1376A(SH)中可以查到這些陶瓷元件技術規格的詳細說明，在此引入其內容作為參考。
優選輻照源部件包括作為輻照源的紫外線燈。更優選輻照源部件還包括一個圍繞紫外線燈的套筒，最優選石英套筒，該套筒限定了紫外線燈和被處理流體間的絕緣間隙。優選的套筒具有在支件遠側的封閉端及密封連接到支件上的開口端。當採用這種配置時，優選採用配置在支件連接表面和套筒開口端之間的環形壓電振子作為振動發生器。
振動發生器通常可以在約1kHz至約100kHz，優選在約10kHz至約20kHz，更優選在約10kHz至約15kHz的頻率下工作，優選壓電振子，更優選環形的壓電振子。
本發明的輻照源組件非常適用於包括流體入口、流體出口和配置在流體入口和流體出口之間的流體處理區的流體處理系統。流體處理系統可以是敞開式系統或者是封閉式系統。
本說明書自始至終使用的關於流體處理(即輻照)的術語「封閉式系統」，規定其包括流體流在流體處理區(即流體在其中被輻照的區域)中被加壓，且在整個處理中基本上完全處於封閉狀態為特徵的系統。對流體流的壓力來源沒有特殊限制。例如可由泵和/或靠重力作用加壓。這種封閉式系統的一些實例可在引入的美國專利5,418,370(注意，是根據處理/輻照區的功能將該系統稱作封閉式系統的)和1994年10月17日提交的本發明人的美國專利申請號08/323,808，現在的專利號*中查到，在此均引入本發明作為參考。
本說明書還自始至終使用關於流體處理(即輻照)的術語「敞開式系統」，規定其包括流體流在處理區被容納在一個未被流體完全充滿的敞口容器(例如流槽)中並被處理(即被輻照)為特徵的系統。這種敞開式系統的一些實例可在引入的美國專利4,482,809、4,872,980和5,006,244中查到。
本發明的輻照源組件應用於封閉式流體處理系統中是理想的，因為這會將清洗問題最大的這類系統的停機時間和需要的冗長系統減少到最小。
在一個優選的實施方案中，封閉式流體處理系統具有一個包括一個外殼和至少一個輻照源組件的流體處理區，該輻照源組件包括密封連接到支件上的輻照源，該支件密封固定在外殼上。優選(但並非必須)使輻照源基本上與流體流平行配置。更優選流體入口、流體出口和流體處理區具有基本上相同的橫截面且基本上以共線方式排列。外殼最好是一個基本上細長的圓筒，具有在基本上圓形的橫截面。在這個實施方案中，支件離輻照源遠的一端可具有與外殼密封連接的安裝板。優選封閉式的流體處理系統包括在限定輻照源環的外殼周圍呈圓形安裝的多個輻照源組件，更優選它們彼此間具有相同的距離。如果需要，該外殼可以包括多個這樣的輻照源環。輻照源環的數量和每個環上組件的數量因各設備的不同而改變，並可由本領域的技術人員基於對一個或多個下列因素的考慮而選擇外殼的橫截面積、流過外殼的流體的體積、每個組件的輻射功率、系統所需的總輻射量等。這個封閉式流體處理系統的實施方案可以在常規流體(例如水)管道中「在線」使用。管道直徑可根據具體應用確定，對於家庭使用，直徑最大可達4英寸左右，而對市政使用，直徑可達1英尺-3英尺或更大。
在另一個優選的實施方案中，封閉式流體處理系統是自流加料並具有流體處理區，該區具有封閉式的橫截面，將被處理流體限制在預定離輻照源部件的最大距離內。本文所用的術語「自流加料(gravity fed)」包括在其中由液位變化得到流體水力壓頭的系統。應當理解，這樣的系統包括自然自流加料和通過泵或其它機械裝置改變流體液位提供自流加料這兩類系統。優選輻照源部件是細長的，且其縱向軸基本上平行於流體通過流體處理區流動的方向。流體處理區的橫截面積優選小於流體入口和流體出口的橫截面積。在大多數情況下，這會導致流體的流動在流體入口有第一種速度，在流體處理區有第二種速度和在流體出口有第三種速度。在理想情況下，第二種速度(即在流體處理區)大於第一和第三兩種速度中的至少一種速度。且優選大於這兩種速度。優選第三種速度基本上等於第一種速度更優選流體處理區的橫截面積小於流體入口的橫截面積，並將流體處理區配置在一個包括將流體入口與流體處理區連通的第一過渡區的處理區內，該過渡區能減少入口和流體處理區之間流體的壓力損失並能增加流體的流速。更優選流體處理區的橫截面積小於流體出口的橫截面積，並將流體處理區配置在包括將流體出口與流體處理區連通的第二過渡區的處理區內，該過渡區能減少出口和流體處理區之間流體的壓力損失，並能降低流體的流速。最優選流體處理區包括第一和第二過渡區。
參照附圖，所示輻照源組件10包括支件15、從支件15伸出的輻照源部件20以及將輻照源組件10固定在流體處理系統中的安裝板25。
輻照源部件20包括一個同軸漸縮管30，該管可被焊接到支件15上或與支件15製成一體。環35固定在漸縮管30上，安裝套筒40固定在環35上。安裝套筒40離同軸漸縮管30遠的一端有螺紋段45。具有螺紋段55的內套筒50被配置在安裝套筒40之內，螺帽60擰在螺紋段55上。內套筒50帶有適當的凹槽，以安放一對有彈性的O形環65、70。內套筒50離同軸漸縮管30遠的一端鄰接一個有彈性的楔形密封環75。安裝螺帽80擰在安裝套筒40的螺紋段45上，並與楔形密封環75鄰接。安裝螺帽80開有施加扭力的凹槽85，該凹槽用於安放適當的工具，以將安裝螺帽80扭進與安裝套筒40的密封連接處。
一個環形的壓電陶瓷振子90配置在內套筒50內，該振子是由多個單獨的環形壓電陶瓷振子(未示出)粘附在一起製成的多層結構。振子90的一端與內套筒50鄰接，而振子90的另一端與石英套筒95的開口端鄰接。如圖中所示，石英套筒95的另一端是封閉的。本領域的技術人員會理解，也可使用兩端開口的石英套筒。輻照源100配置在石英套筒95內。在理想情況下，輻照源是紫外線燈。對紫外線燈沒有特殊限制，且紫外線燈的選擇是在本領域技術人員的權限內。在石英套筒95內配置一對隔板105、110，用其使石英套筒95內的輻照源100位於中心並被固定在合適的位置上。
從輻照源100引出一對電導線115、120，它們被接到第一接線器135上。從振子90引出另一對電導線125、130，它們也接到第一接線器135上。第一接線器135與第二接線器140連接。電線導管145從第二接線器140上引出並穿過同軸漸縮管30、支件15和安裝板25。電線導管145與本領域慣用的適當電源和控制系統(未示出)連接。
第一接線器135和第二接線器140各自的一部分由絕緣環150圍繞著。絕緣環150由不導電的材料製成，並用來減少或消除在連接第一接線器135和第二接線器140的電接頭間產生的電弧。優選絕緣環150是非彈性的且由硬橡膠或塑料(例如DelrinTM)製成。
在用圖說明的實施方案中，安裝板25是彎曲的並具有多個孔155。在加壓的、封閉式系統中，例如在所引入的共同未決的1994年10月17日提交的本發明人的美國專利申請S.N 08/323,808，現為專利號*中所述的系統中，採用輻照源組件10的這個實施方案是有利的。在這個實施方案中，將輻照源部件20通過尺寸比安裝板25上的孔小但形狀與其相似的孔插入外殼。螺栓在外殼上的排布與安裝板25上孔的排布相同。然後扭動每個螺栓上的螺帽將輻照源組件固定在合適的位置上，這種方法藉助於安裝板25和外殼之間的O形環(或其它密封環，未示出)提供密封。
輻照源組件可用下列方法組裝。首先將絕緣環150放在內套筒50的一端，並將螺帽60擰在內套筒50的螺紋段55上，把絕緣環固定在合適的位置上。將第一接線器135的一部分插進絕緣環150，並將振子90放在與內套筒50鄰接的位置上。將O形環70放在內套筒50內的凹槽中並將石英套筒95(裝有輻照源100)插入內套筒50，使其與振子90鄰接。將O形環65和楔形密封環75放在相對內套筒50的適當位置上，然後將內套筒50插入安裝套筒40中。在全部插進安裝套筒40之前，將第一接線器135和第二接線器140接上。然後將安裝螺帽80擰到安裝套筒40的螺紋段45上。採用適當的工具(未示出)扭轉安裝螺帽80，所施加的力要達到兩個目的。第一，所施加的力應足以壓緊O形環65、70和楔形密封環75，以使在輻照源部件20之外的流體和輻照源部件20之內的電導線115、120、125、130之間形成密封。第二，所施加的力應足以確保石英套筒95和振子90以及振子90和內套筒50之間相應的連接。
在使用時，將輻照源組件10放在被處理的流體(例如水)中，以使輻射源100基本上完全被浸沒。將電線導管145連接到適合用於驅動輻照源100的振子90的電源上。在工作期間，流體流被輻照源100輻照。同時，振子90使石英套筒95以圖4中箭頭B所示的往複方式振動。這種往復運動起著去除可能附著到石英套筒上的汙物(例如礦物質、細菌等)的作用。往復運動還起著防止流體載帶的汙物附著到石英套筒上的作用。往復作用使石英套筒95上的汙物受到很大的剪切力，這種剪切力可從石英套筒95上除去附著的汙物，或可防止在石英套筒95上形成汙物，這對本領域的技術人員是會清楚了解的。
本領域的技術人員自然也會理解，為了適合特定的流體處理系統，可在不離開本發明內容的條件下改變所列舉的輻照源組件的實施方案。例如可以省去安裝板25，並可將支件15加長成一個支柱，其長度等於或大於輻照源部件20的長度。這類輻照源組件適用於流體處理系統，例如上文引入的』809，』980，』244和』370專利所述的一些系統。在保持密封的同時，還可改變密封環(即O形環、楔形環等)的數量、類型和配置。雖然本發明的輻照源組件在用於輻照流體的同時保持輻照源部件不受其中汙物的汙染更為有利，但也可以從流體處理裝置中拆下輻射源組件，將其放在流體(例如在外部容器中的清洗液)裡並只開動振動發生器(即不輻照流體)-這種變動涉及在不同時處理或純化流體的條件下清洗輻照源組件中輻照源部件的方案。
雖然上文的敘述講授了輻照源組件，但正如上文所討論的，本發明的實施方案涉及到聲納組件。這種組件可用能檢測所關心的特定波長發射的輻射強度的光電二極體(或類似物)替代輻照源100和電導線115、120、125、130來製作。對光電二極體(或類似物)的選擇沒有特殊限制，且可選擇在目前的輻射傳感器中常用的材料。光電二極體的電氣連接和控制也是常規的，這對本領域的技術人員而言，也是不難做到的。
因此很顯然，雖然本文已敘述了本發明有代表性的實施方案，但本發明並不局限於這些有代表性的實施方案，而且在不離開所附權利要求所規定的本發明內容範圍的條件下，本領域的技術人員可做出這樣或那樣的變動和改變。
權利要求
1.用於流體處理系統的輻照組件，該組件包括一個用於在流體處理系統中固定該組件的支件；至少一個從支件上伸出的輻照部件；和至少一個與輻照源部件相連的振動發生器。
2.權利要求1的輻照組件，其中的輻照部件是輻照源部件。
3.權利要求2的輻照組件，其中振動發生器配置在支件和至少一個輻照源部件之間。
4.權利要求2的輻照組件，其中至少一個輻照源部件包括一個紫外線燈。
5.權利要求4的輻照源組件，其中輻照源部件還包括在紫外線燈周圍的套筒，該套筒限定了紫外線燈和被處理流體之間的絕緣間隙。
6.權利要求5的輻照源組件，其中套筒具有在支件遠側的封閉端和與支件密封連接的開口端。
7.權利要求2的輻照源組件，其中振動發生器包括至少一個配置在支件連接面和套筒開口端之間的環形壓電振子。
8.權利要求2的輻照源組件，其中振動發生器包括多個互相粘附在一起且配置在支件鄰接表面和套筒開口端之間的環形壓電振子。
9.權利要求2的輻照源組件，其中支件包括至少二個與其連接的紫外線燈。
10.權利要求2的輻照源組件，其中振動發生器能在約1kHz至約100kHz的頻率下工作。
11.權利要求2的輻照源組件，其中振動發生器能在約10kHz至約15kHz的頻率下工作。
12.權利要求2的輻照源組件，其中支件包括向輻照源部件和振動發生器提供電源所通過的導管裝置。
13.權利要求1的輻照組件，其中輻照部件是輻照傳感器部件。
14.一種從輻照組件上清除汙物的方法，該方法包括下列步驟(i)將輻照組件的至少一部分浸在流體中，和(ii)使輻照組件在足以基本上阻止汙物附著到至少一個輻照源上的頻率下振動。
15.權利要求14的方法，其中頻率為約1kHz至約100kHz。
16.權利要求14的方法，其中頻率為約10kHz至約20kHz。
17.權利要求14的方法，其中頻率為約10kHz至約15kHz。
18.權利要求14的方法，其中間斷地施加頻率。
19.權利要求14的方法，其中連續地施加頻率。
20.權利要求14的方法，其中還包括使流體受輻照的步驟。
21.權利要求14的方法，其中輻照是紫外線輻照。
22.流體處理系統，其中包括流體入口、流體出口和配置在流體入口和流體出口之間的一個流體處理區以及至少一個輻照源組件，該組件包括一個支件、至少一個從支件伸進流體處理區的輻照源部件和至少一個與輻照源部件相連的振動發生器。
23.權利要求22的流體處理系統，其中振動發生器被配置在支件和至少一個輻照源部件之間。
24.權利要求22的流體處理系統，其中至少一個輻照源部件包括紫外線燈。
25.權利要求24的流體處理系統，其中輻照源部件還包括在紫外線燈周圍的套筒，該套筒限定了紫外線燈和被處理流體之間的絕緣間隙。
26.權利要求25的流體處理系統，其中套筒具有在支件遠側的封閉端和與支件密封連接的開口端。
27.權利要求22的流體處理系統，其中振動發生器包括至少一個配置在支件連接表面和套筒開口端之間的環形壓電振子。
28.權利要求22的流體處理系統，其中振動發生器包括多個互相粘附在一起並配置在支件連接表面和套筒開口端之間的環形壓電振子。
29.權利要求22的流體處理系統，其中振動發生器能在約1kHz至約100kHz的頻率下工作。
30.權利要求22的流體處理系統，其中支件包括為輻照源部件和振動發生器提供電源所通過的導管裝置。
31.權利要求22的流體處理系統，其中流體處理區包括一個外殼，和至少一個輻照源組件包括一個與支件密封連接的輻照源，該支件密封安裝在外殼上。
32.權利要求32的流體處理系統，其中輻照源基本上與流體流平行配置。
33.權利要求32的流體處理系統，其中流體入口、流體出口和流體處理區基本上具有相同的橫截面。
34.權利要求33的流體處理系統，其中流體入口、流體、流體出口和流體處理區以基本上共線的方式排列。
35.權利要求22的流體處理系統，其中該系統是自流加料，且流體處理區是封閉的，其橫截面將處理的流體限制在預定離開至少一個輻照源部件的最大距離之內。
36.權利要求35的流體處理系統，其中至少一個輻照源部件是細長的，且其縱向軸基本上平行於流體通過流體處理區流動的方向。
37.權利要求35的流體處理系統，其中流體處理區的橫截面積小於流體入口和流體出口的橫截面積，配置在處理區內的流體處理區包括第一和第二過渡區，第一過渡區使流體入口與流體處理區相通和第二過渡區使流體處理區與流體出口相通，第一和第二過渡區分別減少了流體入口和流體處理區之間以及流體處理區和流體出口之間流體的壓力損失。
38.一種在流體處理系統中處理流體的方法，該系統包括流體入口、流體出口和配置在流體入口和流體出口之間的流體處理區以及至少一個輻照源組件，該組件包括一個支件、至少一個從支件伸進流體處理區的輻照源部件和與至少一個輻照源部件相連的振動發生器，該方法包括下列步驟(I)向流體入口提供流體流；(ii)將流體流從流體入口導入流體處理區；(iii)使流體流在流體處理區受輻照；(iv)使振動發生器在足以清洗至少一個輻照源部件的頻率下工作；和(v)將流體流輸送到流體出口。
39.權利要求38的方法，其中振動發生器在約1kHz至約100kHz的頻率下工作。
40.權利要求38的方法，其中還包括在基本上與至少一個輻照源平行的方向加入流體流的步驟。
41.權利要求40的方法，其中通過流體入口、流體出口和流體處理區的流體流基本上呈共線。
42.權利要求41的方法，其中還包括選擇具有基本上相同橫截面的流體入口、流體出口和流體處理區的步驟。
43.權利要求38的方法，其中輻照源包括至少一個紫外線燈。
44.權利要求43的方法，其中至少一個輻照源部件還包括一個圍繞至少一個紫外線燈外表的一部分的套筒。
45.權利要求38的方法，其中流體以第一種速度在流體入口流動，以第二種速度在處理區流動，以第三種速度在流體出口流動，第二種速度大於第一、第三這兩種速度。
46.權利要求45的方法，其中在步驟(ii)之前，流體流被導入過渡區，該過渡區使流體的流速增加。
47.權利要求45的方法，其中在步驟(v)之前，流體流被導入過渡區，該過渡區使流體的流速下降。
全文摘要
一種從輻照組件上清除汙物的方法，該方法包括下列步驟(i)使輻照組件的至少一部分浸在流體裡，和(ii)使輻照組件在足以基本上阻止汙物附著到至少一個輻射源上的頻率下振動。一種用於流體處理系統的輻照組件，該組件包括一個在流體處理系統中固定該組件的支件；至少一個從支件上伸出的輻照部件，和至少一個與輻照部件相連的振動發生器。輻照組件是自清洗式的，並可以採取輻照組件或輻射傳感器組件的形式。本文還敘述了輻照源組件在流體處理系統中的一體化。
文檔編號C02F1/32GK1168659SQ95196638
公開日1997年12月24日 申請日期1995年10月17日 優先權日1994年10月17日
發明者J·M·馬爾斯哈爾克維爾德 申請人:特洛伊人技術公司