雷射直寫曝光機內層對位的裝置的製作方法

2023-06-15 09:28:01

專利名稱：雷射直寫曝光機內層對位的裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型屬於印刷線路板曝光設備領域，具體涉及一種雷射直寫曝光機內層對位的裝置。
背景技術：
在製作印刷線路板時，往往需要對位一塊印刷線路板的正反兩面，即內層對位的功能。雷射直寫曝光機內層對位是通過提取印刷電路板邊緣，印刷電路板上對位孔或者特徵圖形的坐標並與CAM圖像上的對位坐標匹配計算，使CAM圖像進行漲縮，平移和旋轉，以此實現CAM圖形與印刷線路板相匹配。印刷電路板上大都沒有合適對位孔或者特徵圖形，因此提取印刷電路板上對位孔或者特徵圖形的方向並不被廣泛使用；提取印刷電路板邊緣的方法一般需要複雜的成像鏡頭以及CXD相機作為裝置，其佔用的空間大，成本高，而且對位的精度低，一般在20um以上。

實用新型內容本實用新型的目的是提供一種雷射直寫曝光機內層對位的裝置，解決現有技術對位裝置體積大，對位精度低的問題。本實用新型採用的技術方案是雷射直寫曝光機內層對位的裝置，其特徵在於包括有光源、透鏡、光欄、待對位的內層電路板，所述的光源、透鏡、光欄依次放置並處於同一水平線上，所述的光欄上開有一個光欄孔，待對位的內層電路板覆在光欄的背面；所述的光源發射的散射光經透鏡聚成一束平行光束穿過光欄孔標記在待對位的內層電路板上。所述光源為LED，LED的波長為405nm，光束髮散角為60°。所述透鏡為平凸透鏡。所述光欄的光欄孔為圓形，直徑為a。本實用新型的有益效果在於 本實用新型體積小，成本低，而且對位精度高。

圖1為本實用新型的結構示意圖。圖2為本實用新型光欄的A向視圖。
具體實施方式
以下將結合一個實施例對本實用新型的作進一步的詳細描述。如圖1所示，雷射直寫曝光機內層對位的裝置，包括有光源1、透鏡2、光欄3、待對位的內層電路板，光源1、透鏡2、光欄3依次放置並處於同一水平線上，光欄3上開有一個光欄孔4，待對位的內層電路板覆在光欄3的背面；光源I發射的散射光經透鏡2聚成一束平行光束穿過光欄孔4標記在待對位的內層電路板上。光源I為LED，LED的波長為405nm，光束髮散角為60°。透鏡2為平凸透鏡。如圖2所示，光欄3的光欄孔4為圓形，直徑為a=3mm。本實用新型的工作步驟為首先點亮光源1，光源I發出的擴散光經過透鏡2變為平行光並照在光欄3上,在雷射直寫曝光機做內層電路板板時，內層電路板與光欄3相接觸，內層電路板A面曝光圖形的同時，B面便可以通過該裝置獲得直徑為3_的圓形標記。
權利要求1.一種雷射直寫曝光機內層對位的裝置,其特徵在於包括有光源、透鏡、光欄、待對位的內層電路板，所述的光源、透鏡、光欄依次放置並處於同一水平線上，所述的光欄上開有一個光欄孔，待對位的內層電路板覆在光欄的背面；所述的光源發射的散射光經透鏡聚成一束平行光束穿過光欄孔標記在待對位的內層電路板上。
2.根據權利要求1所述的一種雷射直寫曝光機內層對位的裝置，其特徵在於所述的光源為LED，LED的波長為405nm，光束髮散角為60°。
3.根據權利要求1所述的一種雷射直寫曝光機內層對位的裝置，其特徵在於所述的透鏡為平凸透鏡。
4.根據權利要求1所述的一種雷射直寫曝光機內層對位的裝置，其特徵在於所述的光欄的光欄孔為圓形，直徑為a。
專利摘要本實用新型公開了一種雷射直寫曝光機內層對位的裝置，包括有光源、透鏡、光欄、待對位的內層電路板，光源、透鏡、光欄依次放置並處於同一水平線上，光欄上開有一個光欄孔，待對位的內層電路板覆在光欄的背面；光源發射的散射光經透鏡聚成一束平行光束穿過光欄孔標記在待對位的內層電路板上。本實用新型體積小、成本低，而且對位精度高。
文檔編號G03F7/20GK202837809SQ20122027143
公開日2013年3月27日 申請日期2012年6月8日 優先權日2012年6月8日
發明者吳俊 , 李文靜, 李顯傑, 劉文海 申請人:合肥芯碩半導體有限公司