真空系統和真空鍍膜方法
2023-05-26 04:01:36 1
真空系統和真空鍍膜方法
【專利摘要】本發明公開了一種真空系統和真空鍍膜方法，該真空系統包括輸送裝置、所述輸送裝置依次通過相隔離設置的進端鎖室、進端緩衝室、進端過渡室、工藝室、出端過渡室、出端緩衝室和出端鎖室，其中，所述進端鎖室和所述出端鎖室分別連接有機械泵以抽空，所述進端過渡室、工藝室以及出端過渡室分別連接有分子泵以抽空，所述進端緩衝室和出端緩衝室分別調整輸送裝置的輸送速度。該真空系統能夠有效防止鍍膜時有空氣進入。
【專利說明】真空系統和真空鍍膜方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及磁控濺射領域，具體地，涉及一種真空系統和真空鍍膜方法。
【背景技術】
[0002]在現有技術中，對玻璃的鍍膜條件要求很是苛刻，當鍍膜時有空氣的進入就會導致玻璃鍍的膜不符合條件，不合格，那麼怎樣能讓玻璃進行鍍膜的時候避免空氣的進入，成為一種亟需解決的問題。
【發明內容】
[0003]本發明的目的是克服現有技術中的真空系統在鍍膜時有空氣的進入的問題，提供一種真空系統和真空鍍膜方法，該真空系統能夠有效防止鍍膜時有空氣進入。
[0004]為了實現上述目的，本發明提供了一種真空系統，該真空系統包括輸送裝置、所述輸送裝置依次通過相隔離設置的進端鎖室、進端緩衝室、進端過渡室、工藝室、出端過渡室、出端緩衝室和出端鎖室，其中，所述進端鎖室和所述出端鎖室分別連接有機械泵以抽空，所述進端過渡室、工藝室以及出端過渡室分別連接有分子泵以抽空，所述進端緩衝室和出端緩衝室分別調整輸送裝置的輸送速度。
[0005]優選地，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有進端隔離通道；所述工藝室與所述出端過渡室之間連通有出端隔離通道。
[0006]優選地，所述進端隔離通道和所述出端隔離通道都為敞開口管道。
[0007]優選地，所述分子泵的泵口設置有氣動提升閥，以控制所述分子泵抽氣。
[0008]優選地，所述進端鎖室、進端過渡室、出端鎖室和出端過渡室上都設置有蓋板，所述蓋板通過密封圈密封。
[0009]優選地，所述機械泵為標準旋片泵、滑閥泵或幹泵。
[0010]本發明提供一種真空鍍膜方法，根據上述的真空系統，該方法包括:
[0011]S101，將待鍍膜件置於有第一真空環境的所述進端鎖室；
[0012]S102，將進端鎖室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度依次分別經過有第二真空環境的進端緩衝室和進端過渡室；
[0013]S103，將進端過渡室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第二驅動速度傳送至有第二真空環境的工藝室以進行鍍膜；
[0014]S104，將工藝室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第二驅動速度傳送至有第二真空環境的出端過渡室；
[0015]S105，將出端過渡室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度傳送至有第二真空環境的出端緩衝室；
[0016]S106，將出端緩衝室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度傳送至有第一真空環境的出端鎖室。
[0017]優選地，所述第一真空環境的壓力為10_4tOrr。
[0018]優選地，所述第一真空環境的壓力為10_3torr。
[0019]優選地，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有進端隔離通道以進行信號傳輸，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有出端隔離通道以進行信號傳輸。
[0020]通過上述實施方式，本發明的真空系統克服了通過進端緩衝室的設置完成從粗真空到高真空的轉變，玻璃在這裡抽空完畢，在可以進行鍍膜前，玻璃在這裡做暫時的停留，它還可以用來隔離工藝室，防止氣體從鎖室進入鍍膜室。進端過渡室完成從正常傳動速度到鍍膜需要的緩慢傳動速度的轉變，也用於進一步進行真空隔離和抽真空。
[0021]本發明的其他特徵和優點將在隨後的【具體實施方式】部分予以詳細說明。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0022]附圖是用來提供對本發明的進一步理解，並且構成說明書的一部分，與下面的【具體實施方式】一起用於解釋本發明，但並不構成對本發明的限制。在附圖中:
[0023]圖1是說明本發明的真空系統的【具體實施方式】的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0024]以下結合附圖對本發明的【具體實施方式】進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的【具體實施方式】僅用於說明和解釋本發明，並不用於限制本發明。
[0025]在本發明中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如「上、下、左、右」通常是指具體結構如圖1所示的上下左右，「內、外」是指具體輪廓上的內與外。「遠、近」是指相對於某個器件的遠與近。
[0026]本發明提供一種真空系統，該真空系統包括輸送裝置、所述輸送裝置依次通過相隔離設置的進端鎖室、進端緩衝室、進端過渡室、工藝室、出端過渡室、出端緩衝室和出端鎖室，其中，所述進端鎖室和所述出端鎖室分別連接有機械泵以抽空，所述進端過渡室、工藝室以及出端過渡室分別連接有分子泵以抽空，所述進端緩衝室和出端緩衝室分別調整輸送裝置的輸送速度。
[0027]通過上述實施方式，本發明的真空系統的進端鎖室可以使玻璃從大氣進入粗真空環境；進端緩衝室可以完成從粗真空到高真空的轉變，玻璃在這裡抽空完畢，在可以進行鍍膜前，玻璃在這裡做暫時的停留，它還用來隔離工藝室，防止氣體從進端鎖室進入工藝室，進端過渡室完成從正常傳動速度到鍍膜需要的緩慢傳動速度的轉變，也用於進一步進行真空隔離和抽真空；工藝室可以存在幾個工藝區，每個工藝區之前或之後都具有一個氣體隔離區，玻璃在每個工藝區中都進行鍍膜，利用安裝在泵抽部分或閥室中的光學過程測量裝置可以監視透過率；出端過渡室可以使玻璃加速離開工藝室；出端過渡室完成緩慢的鍍膜傳動速度到正常的傳動速度的轉換，另外，還可以幫助隔離工藝室，防止氣體從出端鎖室進入工藝室；出端緩衝室可以在出端鎖室可以接收玻璃之前，它可以暫時保存玻璃，另外，還可以幫助隔離真空室，防止氣體通過狹縫閥從出端鎖室進入；出端鎖室可以使玻璃完成從真空室到大氣環境的轉換。
[0028]以下結合附圖1對本發明進行進一步的說明，在本發明中，通過此系統進行真空鍍膜的方法也屬於本發明保護的範圍。
[0029]在該種實施方式中，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有進端隔離通道；所述工藝室與所述出端過渡室之間連通有出端隔離通道；本發明利用一個叫做氣體隔離通道的長開口管道，工藝區可以與旁邊的氣體隔離室進行通訊，通道開口的橫截面比較小，這樣就可以允許在工藝區的鍍膜部分和相臨的室之間存在一些壓差，通過該通道，微分泵可以輔助隔離鍍膜區位，防止氣體從其它室體進入工藝區，從而把工藝區的氣體所受到的汙染降到最低，由於要維持適當的濺射氣壓，所以這同時也減少了分子泵的氣體負載。在該種優選地實施方式中，所述進端隔離通道和所述出端隔離通道都為敞開口管道。
[0030]在該種實施方式中，所述分子泵的泵口設置有氣動提升閥，以控制所述分子泵抽氣。
[0031]在該種實施方式中，根據正確的真空實踐經驗，構造室體時連接室體法蘭的位置必須採用單側焊接、雙面成型焊接技術。所有室體內的焊縫應當是連續的，通過這樣的焊接和外側使用的跳焊有助於檢漏並減少可能的虛漏。鎖室和過渡室都裝配著一個用O形圈密封的蓋板，這個O形圈固定在蓋板法蘭上，利用液體驅動可以開啟蓋板；在工藝室上，每個單元都有自己的蓋板；濺射源陰極組件從每個工藝部分的蓋板上懸掛下來。蝸輪分子泵裝配在每個泵蓋上，因此，所述進端鎖室、進端過渡室、出端鎖室和出端過渡室上都可以通過設置有蓋板並通過密封圈進行密封。
[0032]在該種實施方式中，為了實現上述功能，所述機械泵優選為標準旋片泵、滑閥泵或幹泵。
[0033]本發明還提供一種真空鍍膜方法，根據上述的真空系統，該方法包括:
[0034]S101，將待鍍膜件置於有第一真空環境的所述進端鎖室；
[0035]S102，將進端鎖室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度依次分別經過有第二真空環境的進端緩衝室和進端過渡室；
[0036]S103，將進端過渡室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第二驅動速度傳送至有第二真空環境的工藝室以進行鍍膜；
[0037]S104，將工藝室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第二驅動速度傳送至有第二真空環境的出端過渡室；
[0038]S105，將出端過渡室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度傳送至有第二真空環境的出端緩衝室；
[0039]S106，將出端緩衝室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度傳送至有第一真空環境的出端鎖室。
[0040]在對玻璃進行加工的時候，每片玻璃進入或離開的時候，進端鎖室和出端鎖室都必須放一次大氣，為了加快泵抽速度，每個鎖室都安裝了一個大容量羅茨增壓泵，然後在增壓泵的出口處平行連接著一些機械泵。這些泵組雖然很快，但只能將鎖室抽到粗真空。工藝室、進端鎖室、出端鎖室以及進端緩衝室和出端緩衝室也採用機械泵組，某些情況下也採用高真空泵(蝸輪分子泵)。
[0041]在該種方法中，所述第一真空環境的壓力為10_4torr。
[0042]在該種方法中，所述第一真空環境的壓力為10_3ton.，此為工藝區的工藝氣體必須保持的壓力範圍。
[0043]在該種方法中，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有進端隔離通道以進行信號傳輸，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有出端隔離通道以進行信號傳輸。
[0044]以上結合附圖詳細描述了本發明的優選實施方式，但是，本發明並不限於上述實施方式中的具體細節，在本發明的技術構思範圍內，可以對本發明的技術方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬於本發明的保護範圍。
[0045]另外需要說明的是，在上述【具體實施方式】中所描述的各個具體技術特徵，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重複，本發明對各種可能的組合方式不再另行說明。
[0046]此外，本發明的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本發明的思想，其同樣應當視為本發明所公開的內容。
【權利要求】
1.一種真空系統，其特徵在於，該真空系統包括輸送裝置、所述輸送裝置依次通過相隔離設置的進端鎖室、進端緩衝室、進端過渡室、工藝室、出端過渡室、出端緩衝室和出端鎖室，其中，所述進端鎖室和所述出端鎖室分別連接有機械泵以抽空，所述進端過渡室、工藝室以及出端過渡室分別連接有分子泵以抽空，所述進端緩衝室和出端緩衝室分別調整輸送裝置的輸送速度。
2.根據權利要求1所述的真空系統，其特徵在於，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有進端隔離通道；所述工藝室與所述出端過渡室之間連通有出端隔離通道。
3.根據權利要求2所述的真空系統，其特徵在於，所述進端隔離通道和所述出端隔離通道都為敞開口管道。
4.根據權利要求1所述的真空系統，其特徵在於，所述分子泵的泵口設置有氣動提升閥，以控制所述分子泵抽氣。
5.根據權利要求1所述的真空系統，其特徵在於，所述進端鎖室、進端過渡室、出端鎖室和出端過渡室上都設置有蓋板，所述蓋板通過密封圈密封。
6.根據權利要求1所述的真空系統，其特徵在於，所述機械泵為標準旋片泵、滑閥泵或幹泵。
7.一種真空鍍膜方法，其特徵在於，根據權利要求1-5所述的真空系統，該方法包括: S101，將待鍍膜件置於有第一真空環境的所述進端鎖室； S102，將進端鎖室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度依次分別經過有第二真空環境的進端緩衝室和進端過渡室； S103，將進端過渡室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第二驅動速度傳送至有第二真空環境的工藝室以進行鍍膜； S104，將工藝室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第二驅動速度傳送至有第二真空環境的出端過渡室； S105，將出端過渡室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度傳送至有第二真空環境的出端緩衝室； S106，將出端緩衝室中的所述待鍍膜件通過所述驅動裝置以第一驅動速度傳送至有第一真空環境的出端鎖室。
8.根據權利要求6所述的真空鍍膜方法，其特徵在於，所述第一真空環境的壓力為lCT4torr。
9.根據權利要求6所述的真空鍍膜方法，其特徵在於，所述第一真空環境的壓力為lCT3torr。
10.根據權利要求6所述的真空鍍膜方法，其特徵在於，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有進端隔離通道以進行信號傳輸，所述工藝室與所述進端過渡室之間連通有出端隔離通道以進行信號傳輸。
【文檔編號】C23C14/35GK104451590SQ201410628164
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月10日 優先權日:2014年11月10日
【發明者】薛輝, 任俊春, 金海濤 申請人:蕪湖真空科技有限公司