化學分析裝置的製作方法

2023-05-26 19:33:16 2

專利名稱：化學分析裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及適合生物體中含有的微量物質的分析的化學分析裝置。
背景技術：
在進行血液、尿等生物體樣品的定性、定量分析的自動分析裝置中，實行使用與樣品中的分析對象成分反應而使反應液的顏色發生改變的試劑的分析(比色分析)、對與分析對象成分特異性地反應的物質直接或間接地附加標記物並統計標記物而進行分析的方法(免疫分析)等。在這樣的自動分析裝置中，將樣品和試劑混合後，為了促進反應，攪拌混合液是有效的。使液體的樣品與液體的試劑反應時，一般是在反應容器中插入攪拌棒等進行攪拌，但是反應液的量少時，有時也不能利用攪拌棒。專利文獻1、2中記載了向反應容器中的反應液噴出空氣而進行攪拌的技術。另外，反應後，為了除去反應容器中的未反應的剩餘樣品而進行吸取。此後，為了根據需要而提高樣品的除去效果，用清洗液清洗反應容器。這樣的分析裝置例如記載於專利文獻3。現有技術文獻專利文獻專利文獻1 日本特開2007-51863號公報專利文獻2 日本特開平6_3擬66號公報專利文獻3 日本特開平7-83939號公報

發明內容
發明所要解決的課題使用攪拌棒的攪拌中，在攪拌的實行中，攪拌棒浸漬在反應液中而旋轉，所以容易確認正在進行攪拌，與此相對，使用噴射空氣來進行攪拌的裝置時，難以檢驗攪拌是否進行到預期，測定值有異常的情況下，難以區分是樣品有異常，還是由於攪拌不充分而看似發生異常。本發明的目的是在具備從空氣噴出口噴出空氣而攪拌反應液的裝置的化學分析裝置中，通過確認攪拌裝置正常動作，從而提供對分析結果的可靠性的高的化學分析裝置。另外，在使用上述的反應容器的分析裝置中，在高精度的分析中需要將未反應的剩餘樣品充分地除去。另一方面，為了除去剩餘樣品而以大流速進行清洗液的供給或液體的吸取，則塗布在反應容器的試劑有可能剝離。在專利文獻1中記載的分析裝置中，將噴出管和吸取管插入反應容器中來進行清洗液的供給或液體的吸取，但是沒有認識到上述的課題。本發明的另一目的是提供反應容器為平皿狀時，不存在設在反應容器底面的試劑的剝離等問題，並且通過充分清洗，從而分析精度高、裝置可靠性高的化學分析裝置。解決課題的方法
用於解決上述課題的本發明的構成如下。一種化學分析裝置，該化學分析裝置具備反應容器設置臺以及空氣噴出口，該反應容器設置臺設置有多個具有開口部的反應容器，該空氣噴出口向該反應容器的上述開口部噴出空氣；在上述反應容器設置臺上的上述反應容器的設置位置之間至少設有壓力傳感器、溫度傳感器、溼度傳感器中的至少一種。特別是優選在設置反應容器的臺上設有細孔和與細孔連接的壓力傳感器，在攪拌動作的前後，在噴出空氣的同時在細孔上停止或者移動噴出口，並監控此時來自傳感器的輸出值，與預先獲得的正常時的信號值進行比較。另外，本發明的其它構成如下。一種化學分析裝置，該化學分析裝置該具備反應容器、向該反應容器噴出清洗液的清洗液噴出管以及從該反應容器吸取液體的吸取管，該反應容器具有開口部且在底面中央具有反應區域；在清洗上述反應容器時，使上述吸取管比上述噴出管先下降到該反應容器的開口部，開始液體的吸取，然後，使上述噴出管下降到反應容器的開口部，噴出清洗液， 並且具備控制裝置，其進行控制，使得液體的吸取和清洗液的噴出至少在規定時間同時進行。發明效果在具備從空氣噴出口噴出空氣來攪拌反應液的裝置的化學分析裝置中，通過確認攪拌裝置正常動作，可提供對分析結果的可靠性高的化學分析裝置。另外，其它的效果如下。可以提供分析精度高、裝置可靠性高的化學分析裝置。


圖1是本發明的一個實施方式中的分析裝置整體的示意圖。圖2是本發明的一個實施方式中的恆溫箱部的示意圖。圖3是本發明的一個實施方式中的恆溫箱部的示意圖。圖4是表示本發明的一個實施方式中的噴嘴、細孔的配置的示意圖。圖5是來自本發明的一個實施方式中的壓力檢測裝置的輸出例。圖6是本發明的一個實施方式中的恆溫箱部的示意圖。圖7是來自本發明的一個實施方式中的溫度檢測裝置的輸出例。圖8是來自本發明的一個實施方式中的荷重傳感器的輸出例。圖9是本發明的一個實施方式中的恆溫箱部的示意圖。圖10是表示本發明的一個實施方式中的噴嘴盤和洗滌盤的配置的示意圖。圖11是本發明的一個實施方式中的化學分析裝置的整體示意圖。圖12是本發明的一個實施方式中的清洗裝置的示意圖。圖13是本發明的一個實施方式中的清洗動作的流程圖。圖14是用於說明本發明的一個實施方式中的反應容器清洗的反應容器以及噴出管、吸取管的中心截面的示意圖。圖15是用於說明本發明的一個實施方式中的反應容器清洗的反應容器以及噴出管、吸取管的中心截面的示意圖。
圖16是用於說明本發明的一個實施方式中的反應容器清洗的反應容器以及噴出管、吸取管的中心截面的示意圖。圖17是圖11所示的清洗場所的放大圖。圖18是本發明的一個實施方式中的清洗時的反應容器與清洗液的噴出管、吸取管、清洗端(U > 7 ★ W )以及清洗液流動的說明圖，圖18(A)是從中心截面看的圖，圖 18(B)是從反應容器底面看的圖。圖19表示本發明的一個實施方式中的清洗時的反應容器中心截面的流速分布。圖20是表示本發明的其它實施方式的圖。
具體實施例方式以下，基於

本發明的實施例。實施例1利用圖1和圖2說明本分析裝置的結構。圖1是本化學分析裝置的整體示意圖， 圖2是恆溫箱部內部的立體示意圖，圖3是將從旁邊看恆溫箱部內部時的樣子模式性地表示的圖。如圖1所示，本化學分析裝置由用於移動小型的反應容器100的轉運工具101、用於收納樣品容器110的樣品盤111、用於容納試劑容器120的試劑盤121、將樣品和試劑從各自的容器中分注到反應容器100內的分注裝置130、攪拌由樣品和試劑組成的反應液的恆溫箱部140以及包括激發光照射器和螢光發光強度檢測器的光學檢測裝置150構成。恆溫箱部140由反應盤161、設有噴出壓縮空氣的噴嘴170的噴嘴盤171和包圍恆溫箱部的側壁142構成，其中，反應盤161設有設置有反應容器100的反應容器設置處160如圖2所示，恆溫箱部140的噴嘴盤171和反應盤161是圓板狀，在其圓周上設有多個噴嘴170和反應容器設置處160。噴嘴170和反應容器設置處160設在垂直方向對應的位置，反應容器100設置在噴嘴170下，壓縮空氣接觸而攪拌樣品和試劑。如圖3所示，噴嘴盤171和反應盤161分別通過驅動馬達231、232來被驅動。壓縮空氣通過用於除去灰塵的過濾器203由空氣泵202供給到噴嘴盤171。配管201的壁面設有配管壓力傳感器204。反應盤161設有多個反應容器設置處160，其中之一設有細孔M0， 細孔240端部埋入有作為壓力探測裝置的隔膜型的壓力傳感器Ml。這些構成要素基於預先輸入的分析項目信息以規定的時間如下進行自動分析。首先，利用分注裝置130將樣品和試劑分注到各自的反應容器100中。接著，一邊旋轉反應盤 161 一邊移動轉運工具101，從而將反應容器100從恆溫箱部開口部141插入恆溫箱內，並設置於規定的反應容器設置處(反應盤)161，從位於反應容器上部的噴嘴170噴出壓縮空氣。噴出的壓縮空氣通過與由樣品和試劑組成的反應液的液面衝撞而產生攪拌流動，從而攪拌樣品和試劑。攪拌結束的反應容器100再次利用轉運工具101從恆溫箱部140中取出而移動至檢測裝置150下，進行光學檢測。在該分析動作的前後，進行被稱作初始化的、裝置內的各裝置是否正常動作的確認動作以及各裝置的原點復位動作。其中，進行用於保障攪拌裝置正常動作的噴嘴異常檢測動作。此時，如圖2所示，反應容器設置處160是空的。圖2的噴嘴臨時注有1號至5號的編號。
圖4是為了說明噴嘴的移動和細孔等的位置關係而表示將噴嘴位置投影到反應盤時的示意圖。本實施例中，將細孔M0a、240b、M0c相對於噴嘴的旋轉方向310垂直地設3處。虛線802表示設有噴嘴170的噴嘴盤171上的圓周。各個細孔連接有靜壓傳感器 241a、241b、241c，用於輸出信號341a、341b、341c。將細孔MOb設在噴嘴移動310的中心位置，細孔Mla、241c設成與細孔MOb相距等距離。在圖4中，在多個噴嘴170中，2號、3 號、4號噴嘴的位置由170 (2)、170 (3)、170 (4)表示。另外，如以下說明的那樣，2號噴嘴偏離了正常位置，4號噴嘴表示附著有灰塵350的樣子。圖5表示來自壓力傳感器的輸出例。橫軸是時間，縱軸是來自壓力傳感器的輸出的信號強度。圖4(A)、(B)、(C)分別是來自圖3所示的3個壓力傳感器的輸出341a、342b、 343c。從噴嘴170噴出的壓縮空氣在反應盤161上形成衝撞噴流。在衝撞噴流的性質上， 作為衝撞面的反應盤的壓力在噴嘴正下方高，隨著離開而下降。因此，以從噴嘴170噴射壓縮空氣的狀態移動噴嘴盤171，則噴嘴170通過細孔240正上方時，壓力為最大，然後下降， 接著通過下一噴嘴時上升，因此顯示對應噴嘴1號至5號的周期性變動。另外，來自與設於噴嘴移動的正下方的細孔MOb連接的傳感器Mlb的輸出341b也最大，輸出341a、341c由於對稱性而是相同值且小。攪拌裝置為正常時，輸出值如圖4的實線401那樣在各噴嘴是同一值。最大值分別為AO、BO、CO。以下，將該值稱為正常值。作為噴嘴的異常，首先，說明1、2、3、5號噴嘴為正常，但4號噴嘴如圖3所示附著有灰塵350而成為堵塞噴嘴170 (4)的情況。該灰塵350是過濾器203的網眼尺寸以下的小灰塵由經年變化而蓄積形成的。在圖5中，用虛線410表示此時的各傳感器的輸出值。與 4號噴嘴對應的輸出值3413、34113、341(3均下降，所以最大值分別為41、81、(1。另外，輸出曲線也鈍。由於噴嘴盤設有多個噴嘴，所以來自其它噴嘴的輸出值以實線的狀態幾乎不變。 這樣與正常值比較來表示異常的輸出，因此可知4號噴嘴發生了堵塞異常。接著，說明1、3、4、5號噴嘴是正常，但2號噴嘴的位置如圖3的170(2)所示偏離的情況。在圖4中，將此時的各傳感器的輸出值用點劃線表示。1、3、4、5號噴嘴通過時的輸出值341a、341b、341c分別是正常值的實線401狀態。但是，2號噴嘴如圖4的360那樣偏向傳感器321a側，所以對應2號噴嘴的輸出值的最大值如A2、B2、C2那樣，輸出341a為最大，並以輸出341b、341c的順序變小。這樣與正常值比較來表示異常的輸出，因此可知2號噴嘴的位置偏離。這樣的位置偏移的檢測不僅是噴嘴單體的位置偏離時發揮功能，而且在反應盤、噴嘴盤的位置偏離時也同樣發揮功能。在攪拌的前後，測定壓力的結果為這樣的情況下，使用了這些2、4號噴嘴的分析成為與使用了其它噴嘴的情況不同的攪拌條件，所以使用了 2、4號噴嘴的分析的結果的可靠性低。因此，以下的分析中，變更裝置動作程序，從而不使用該2、4號噴嘴。作為裝置的性能而預先掌握壓力發生何種程度的變化時攪拌性能不充分，並在分析裝置的程序中作為正常值來儲存，將輸出值與該值進行自動比較即可。正常值可以是高取樣頻率導致的連續性曲線，也可以以與噴嘴盤驅動頻率同步的低取樣頻率輸出，使用其中的最大、最小值等離散的值。另外，使用異常噴嘴攪拌的分析結果在用戶界面上顯示，由用戶向裝置提供者要求維護即可。或者，也可以在噴嘴的附近設置LED燈，在噴嘴異常發生異常時閃爍。此時維修檢查者可以無視其它噴嘴而只檢查異常噴嘴，並進行清掃即可，因此維護性良好。
如圖5的壓力傳感器輸出例所示，攪拌裝置正常動作時，輸出值的峰等在固定時刻被檢測。如果時刻出現了偏離的情況，可以考慮是使噴嘴盤171旋轉的馬達231的異常， 所以維護它即可。以上的異常檢測動作可以在分析的前後每次進行，也可以僅在裝置啟動、停止時進行。或者，也可以在配管靜壓傳感器204的值顯示異常值時進行。由於裝置空間的制約，細孔240設在反應容器設置處160，如果設置在設置的多個的反應容器設置處160之間，則也可以檢測攪拌動作中漏出來的壓力。另外，在本實施例中，在1個反應容器設置處160設有3個細孔240和傳感器M1，但是只用1個也能由傳感器輸出值的變化來檢測噴嘴發生的異常。或者，設在全部的反應容器設置處160而不移動噴嘴盤171也可，因此優選。另外，在本實施例中，通過旋轉噴嘴盤171來檢測壓力，但是旋轉反應盤161也可以獲得相同的效果。實施例2圖6與圖3所示的情形同樣是模式性地表示恆溫箱部內部的樣子的圖。在連接空氣泵202和噴嘴盤171的配管201的途中設置加熱器501和加溼器502，使得恆溫箱內的溫度和溼度恆定。將溫度傳感器510在不妨礙攪拌的反應容器設置處160之間的間隙，設在恆溫箱內部的中空處。該溫度傳感器510在攪拌中監控恆溫箱內部的溫度。在攪拌動作前後的初始化動作中，一邊從全部的噴嘴170噴出壓縮空氣一邊旋轉噴嘴盤171，從各個噴嘴170噴出的壓縮空氣依次通過溫度傳感器510上。將來自此時的溫度傳感器510的輸出值的例子示於圖7。橫軸為時間軸，縱軸為輸出值，每次1號至5號的噴嘴通過時以恆定的周期重複增減。即使恆溫箱部140內部的溫度保持在Tl的情況下， 剛從噴嘴噴出的壓縮空氣剛剛被加熱器加熱，所以其溫度比Tl高。因此，如實線601所示， 噴嘴正常時，來自溫度傳感器510的輸出值從最小值Tl至最大值T2以恆定的圖形重複增減。但是，例如4號噴嘴如在先前實施例中利用圖4說明的那樣附著有灰塵而發生堵塞的情況下、發生位置偏離等異常的情況下，如虛線602所示，發生最大值為T3等的增減的圖形變化。通過將該變化與正常值進行比較，可以檢測噴嘴異常。應予說明，不僅是溫度傳感器， 使用溼度傳感器也可以得到相同的效果。另外，與實施例1同樣地設有多個傳感器時，得到的信息量增加，因此優選。另外，在全部的反應容器設置處160之間設置，信息量也進一步增加，因此優選。另一方面。如圖6所示，某一反應容器設置處160設有荷重傳感器520，從而可以檢測設置在其上的反應容器100的荷重。在攪拌中，壓縮空氣與反應液接觸，則反應容器受力。圖8表示將橫軸設為時間、將縱軸設為來自荷重傳感器520的輸出時的曲線圖例子。噴嘴為正常時，來自荷重傳感器的輸出值如實線所示，從最小值Wl向最大值W2變化。如圖3 所示，附著有灰塵而噴嘴發生堵塞的情況下、噴嘴發生位置偏移的情況下，如虛線702所示發生最大值如W3那樣下降等的增減的圖形變化。因此，可以在正在攪拌時檢測噴嘴異常。 應予說明，本實施例中表示了在一處反應容器設置處160設有荷重傳感器520的例子，如果在全部的反應容器設置處160設置，則可以監控全部的反應容器100中的攪拌狀態，因此優選。實施例3圖9與圖3所示同樣是模式性地表示恆溫箱部的內部的樣子的圖。在噴嘴盤171中的噴嘴170附近設有洗滌盤801。洗滌盤801利用鍵槽一溝)裝置810的轉換，在馬達231旋轉時，與噴嘴盤171 —起驅動，在與噴嘴盤171分開時固定在恆溫箱內部。圖10表示從反應盤161側看時的噴嘴盤171與各個噴嘴170、洗滌盤801等的位置關係。圖9(A)表示攪拌時，圖9(B)表示洗滌時。洗滌盤801是圓板狀，在同一圓周802 上，設有1個洗滌用貫通孔851和多個攪拌用貫通孔810。攪拌時，洗滌盤801和噴嘴盤171 一起旋轉，來自噴嘴170的壓縮空氣通過對應於各噴嘴的位置而設置的攪拌用貫通孔850 來攪拌反應液。在初始化動作時，通過在噴嘴流過大流量，將附著在噴嘴的灰塵等除去並洗滌。洗滌時，洗滌盤801固定在恆溫箱內，只有噴嘴盤171旋轉。此時，如圖9和圖10(B)所示，只有來自1個噴嘴830的壓縮空氣通過洗滌用貫通孔851而噴出，其它的噴嘴170是洗滌盤 801成為大的流體阻礙而作為蓋子。因此，即使不設定成流過來自空氣泵202的大流量，只有通過洗滌貫通孔851的噴嘴830也有大流量的空氣通過，所以可以進行洗滌。如果旋轉噴嘴盤171，則全部的噴嘴通過洗滌用貫通孔851，所以可以洗滌全部的噴嘴。洗滌孔851下的反應容器盤設有深孔840，可以收容除去的灰塵。洗滌時，監控配管壓力傳感器204的輸出。此時，噴嘴830發生堵塞則輸出值下降， 但除去灰塵等，則輸出值恢復到恆定值，所以可以確認除去情況。通過如上進行，可消除噴嘴堵塞。根據本實施例，與使用大流量泵從全部噴嘴同時流過大流量的情況相比，能夠以低成本進行洗滌。另外，作為閉塞其它噴嘴的方法，與對每個噴嘴設置閥門的情況相比，能夠以低成本進行洗滌。實施例4圖11是本化學分析裝置的整體示意圖。本化學分析裝置由收納樣品容器1010的樣品盤1011、設置有小型的反應容器1140的反應盤1131、將樣品分注到反應容器中的分注裝置1020、用於清洗反應容器的清洗裝置1030、用於清洗清洗裝置的清洗槽1110以及包括激發光照射器和螢光發光強度檢測器的光學檢測裝置1040構成。反應盤1131是圓板狀，在其圓周上設有多個反應容器1140。這些構成要素基於預先輸入的分析項目信息以規定的時間如下自動地進行動作。首先，利用分注裝置1020將樣品從樣品容器1010分注到反應容器1140，在設於反應容器底面的反應區域開始化學反應。反應結束的反應容器通過反應盤 1131旋轉而移動至清洗裝置1030附近的規定處，使清洗裝置1030下降而進行清洗。清洗的反應容器通過反應盤旋轉而移動到檢測裝置1040下，可以檢測反應區域中的反應結果。圖12表示清洗裝置的示意圖。該清洗裝置具有將清洗頭動作裝置1106和清洗槽 1110設在分析裝置底座1111的結構；所述清洗頭動作裝置1106使設有用於噴出、吸取清洗液的噴出管1101和吸取管1102的清洗頭1103按照箭頭1104、1105進行上下、旋轉移動； 所述清洗槽1110用於清洗噴出管、吸取管的前端。噴出管1101通過配管1121連接有清洗液供給裝置1120，該清洗液供給裝置1120包括清洗液罐和噴出泵。同樣地，清洗液吸取管 1102通過配管1123連接有清洗液吸取裝置1122，該清洗液吸取裝置1122包括吸取泵和廢液罐。箭頭IlM表示清洗液的流動方向。用於清洗噴出管1101、吸取管1102的前端的清洗槽1110通過配管1115、1116連接有用於供給和廢棄清洗管清洗液1112的清洗管清洗液供給裝置1113和清洗管廢液吸取裝置1114，該清洗管清洗液供給裝置1113具備清洗液罐和噴出泵，該清洗管廢液吸取裝置1114具備廢液罐和吸取泵。箭頭1117是清洗管清洗液的流動方向。圖13是清洗動作的流程圖。反應區域的反應結束(圖13的S01)後，首先反應盤 1131旋轉，反應容器1140移動至清洗位置(圖13的。接著，清洗液吸取裝置1121中的吸取泵一邊工作(圖13的S03) —邊使清洗頭1103下降(圖13的S04)，從吸取管1102 的前端接觸反應液1141的液面1151的瞬間開始，反應液的吸取開始(圖13的S05)。像這樣通過清洗液的吸取器先動作，先將反應液從反應容器排出，所以相比於以混有反應液的狀態使清洗液流動的情況，清洗效率提高。另外，如果反應液以填滿反應容器的狀態浸漬清洗管，則反應液從反應容器溢出而汙染分析裝置，分析裝置的可靠性有可能下降，但是本實施例的情況是在清洗頭下降結束後的時刻反應液被充分地吸取，所以可以迴避這一情況。 清洗頭1103的下降結束後，以吸取管1102的吸取繼續的狀態開始從噴出管1101噴出清洗液(圖 13 的 S06、S07)。為了說明此時的反應容器清洗，圖14表示反應容器以及噴出管、吸取管的中心截面的示意圖。軸1410表示反應容器中心的位置，A、C是反應區域1150的兩端，B是反應區域的中心。為了不覆蓋反應區域1150，噴出管1101、吸取管1102儘可能靠近反應容器1140 兩側壁。在該狀態下，按照箭頭11 的方向噴出、吸取清洗液1400，反應區域1150產生箭頭1401a、1401b、1401C、1401d所示的清洗液流動。像這樣，不是將清洗液暫時貯存在容器中後進行吸取，而是一邊噴出一邊吸取，從而在清洗動作中，清洗液的流動在反應容器底面不斷地產生，所以可以充分地清洗反應區域。圖18表示反應容器底面中的中心軸的清洗液流動的流速分布的例子。橫軸是反應容器的位置、縱軸是流速。對反應區域不帶來妨礙的流速範圍是Vl至V2之間，流速在Vl 以下時，有可能清洗不足，在V2以上時，有可能剝離反應區域。將本實施例的流速分布用圖 18的實線1801表示。在噴出管1101下，噴出管前端和反應容器底面之間形成的清洗液流路截面小，所以流速1401a大。但是，如圖18的實線1801所示，最大流速在V2以下，所以對反應區域不帶來妨礙。另一方面，流速在最低的B點也在Vl以上。因此，可以充分地清洗反應區域。應予說明，圖18中表示了中心軸中的流速分布，但可以確認反應容器底面整個區域在上述流速分布範圍內(在以下的實施例中也相同)。接著，規定量的清洗液的噴出結束，反應區域的清洗結束後，吸取動作也在繼續 (圖13的S08、S09、S10)，從反應容器徹底吸取清洗液。如果清洗液殘留在反應容器內，則殘留液的液面產生光學反射而有可能降低檢測精度，所以可以防止殘留。此後，使清洗頭1103上升而結束吸取動作，旋轉反應盤1131，將反應容器1140從清洗位置撤出(圖13的S10、S11、S12)。同時使清洗頭1103旋轉、下降，將噴出管1101和吸取管1102的前端插入清洗槽1110，使清洗液1112在清洗槽內流動來進行清洗，結束全部的清洗動作(圖13的S12)。實施例5說明其它的實施例。圖15與圖14同樣是表示清洗時的反應容器以及噴出管、吸取管的中心截面的示意圖。在本實施例中，吸取管的前端位置相對地比噴出管更靠近反應容器底面側。優選噴出管前端高度如圖15所示在反應容器開口部以下，使得在清洗中清洗液不向周圍飛散。清洗動作如圖13所示。首先，使圖12中的清洗頭1103下降，只有吸取管1102前端與反應液液面1151接觸，開始吸取反應液1141 (圖13的S04、S05)。噴出管1101和吸取管1102的前端在相同高度時，噴出管1101前端也接觸反應液1141，所以噴出管會被反應液汙染，但是根據本實施例則可以將其避免。接著，清洗頭下降結束，開始清洗液的噴出(圖13的S06、S07)，如圖15所示，反應容器1140的底面產生清洗液1400的流動1500a、1500b、1500c、1500d。在這裡，如果在實施例1中增大流量，則流速分布成為圖18所示的虛線1802，A點的流速成為超過V2的V3。但是，如圖15所示，噴出管前端離開反應容器底面的情況下，來自噴出管的流動1501由於與周圍的清洗液的摩擦而流速變小，所以流動1500a的流速變小。此時，流速分布如圖18的粗虛線1803所示，最大值下降，達到Vl至V2的範圍內。因此，不給反應區域帶來妨礙，可以充分地進行清洗。接著，結束清洗液的噴出，只進行吸取(圖13的S08、S09)。此時，噴出管前端在反應容器底面附近時，由於清洗液附著在噴出管前端周圍，所以容易發生清洗液的吸留。在本實施例中，噴出管位於離開底面的位置，所以不會發生該問題，難以發生吸留。因此，可以對確保分析精度做出貢獻。實施例6利用圖12、圖13、圖16來說明其它的實施例。圖16與圖14同樣是表示清洗時的反應容器以及噴出管、吸取管的中心截面的示意圖。在本實施例中使用2根噴出管和1根吸取管，在反應區域1150的兩側設置噴出管 1101，在反應區域1150中心設置吸取管1102。清洗動作如圖13所示。在圖12中，清洗頭1103的下降結束，清洗液的噴出開始(圖13的S06、S07)，則如圖16所示，在反應容器底面產生清洗液1400的流動1600a、 1600b、1600c。此時的流速分布用圖18的點劃線1804表示。但是，在本實施例中，清洗液流動1600a、1600b、1600c的流路與實施例1、2那樣將噴出管和吸取管設置在兩端的情況相比變短，所以在B點的清洗流速也大。應予說明，B點成為來自兩側的噴出流衝撞的沉澱點， 所以生成流速下降的部分，但是仍在Vl至V2的範圍內。因此，不給反應區域帶來妨礙，可以充分地進行清洗。相反，如果將其進行利用，則使流量降低而減少使用的清洗液量，可以降低運行成本。將此時的流速分布用圖18的粗線的點劃線1805表示。最大值下降到V5， 但仍在Vl至V2的範圍內。因此，不給反應區域帶來妨礙，可以充分地進行清洗。實施例7利用圖12、圖13、圖17、圖18來說明其它的實施例。圖17是圖11所示的清洗場所的放大圖，圖18是清洗時的反應容器與清洗液的噴出管、吸取管、清洗端(U > ι 」 1 )和清洗液流動的說明圖，圖18(A)是從中心截面看到的圖，圖18(B)是從反應容器底面看到的圖。在本實施例中，如圖17所示，在噴出管1101和吸取管1102的前端安裝有被稱為清洗端1701的、對於反應容器1140成為栓的結構物。清洗動作如圖13所示。圖12所示的清洗液吸取裝置1121中的清洗液吸取器一邊工作(圖13的S03) —邊將清洗頭1103下降到反應容器1140中(圖13的S04)，從清洗端1701的前端接觸反應液1141的液面1151的瞬間開始進行反應液的吸取(圖13的 S05)。像這樣通過清洗液的吸取器先動作，先將反應液從反應容器排出，所以相比於以混有反應液的狀態使清洗液流動的情況，清洗效率提高。另外，如果反應液以填滿反應容器的狀態浸漬清洗端，則反應液從反應容器溢出而汙染分析裝置，分析裝置的可靠性有可能下降， 但是本實施例的情況是在清洗頭下降結束後的時刻反應液被充分地吸取，所以可以將其避
免ο接著，優選清洗端1701上部安裝有決定與反應容器1140上面的位置的卡爪1702， 從而在清洗頭1103的下降結束時(圖13的S06)，清洗端1701底面不接觸反應區域1150。 進而，利用該卡爪1702阻擋反應容器1140開口部，所以可以防止在清洗中反應液、清洗液從反應容器1140溢出。另外，優選清洗端側面1703切削成沿反應容器1140側面的形狀， 使得清洗端1501底面可以接近反應容器1140底面。接著，清洗液的噴出開始(圖13的S06、S07)後，如圖18所示，產生清洗液1400 的流動1710a、1710b、1710c、1710d、1710e。如實施例1、2、3所示，只有噴出管和吸取管的情況下，清洗液的液面的運動是自由的，所以難以規定清洗液的流路，因此，難以控制清洗液的流速。如果像本實施例這樣使用清洗端，則可以在反應容器底面與清洗端之間結構性地進行規定清洗液流動的流路。此時，可以減少使用的清洗液的液量，可以對運行成本的減少做出貢獻。應予說明，如圖18(A)所示，如果在噴出管1101側設置擴大流路1720，則清洗液的流動從流速大的噴出流動721變成流速小的流動1710a、1710b、1710c。另一方面，吸取管 1102側在清洗端1701和反應容器1140底面之間形成截面小的流路1730，所以流動1710d、 1710e的流速大。將此時的流速分布示於圖19的粗實線806。與實線1801相比較，由於降低了流量，所以最大流速下降，但是通過規定了流路， 在B、C點變大。因此，對反應區域不帶來妨礙，可充分地進行清洗。應予說明，將清洗端安裝在清洗管前端時，與只有清洗管的情況相比，將清洗端浸漬在反應液中，所以必須為了抑制汙染而充分地進行清洗頭的清洗。此時的清洗端優選由防水性材質的聚對苯二甲酸乙二醇酯等原料形成。另外，還可以是圖20所示的側面流路型。這是在清洗端701中，從噴出管101和吸取管102向側面形成側面流路810、811。 通過側面流路810，來自噴出管的噴出液形成不直接衝撞底面的液流801，所以對塗布試劑 150難以帶來損壞，提高檢測精度。另外，側面流路810呈向微芯(7 4々口 ★ 7 )底面擴大的形狀，如清洗液流動802、803所示，從側面均勻地流入微芯底面，所以提高清洗性能。另外，吸取時也是從側面流路811如清洗液液流802所示以收縮的方式進行吸取，所以形成均一的流動場，提高清洗性能。符號說明100反應容器161反應盤170 噴嘴171噴嘴盤
權利要求
1.一種化學分析裝置，其特徵在於，具備設置有多個具有開口部的反應容器的反應容器設置臺以及其向該反應容器的所述開口部噴出空氣的空氣噴出口；在所述反應容器設置臺上的所述反應容器的設置位置之間至少設有壓力傳感器、溫度傳感器、溼度傳感器中的至少一種。
2.根據權利要求1所述的化學分析裝置，其特徵在於，具備比較裝置和通知裝置； 所述比較裝置將所述壓力傳感器、溫度傳感器、溼度傳感器中的至少一種探測的測定值與預先記憶的閾值進行比較；所述通知裝置在該比較裝置探測到預先記憶的閾值與測定值之間有預先設定的差異時，將該意思進行通知。
3.根據權利要求1所述的化學分析裝置，其特徵在於，所述壓力傳感器通過設在所述反應容器設置臺的細孔而設置在該反應容器設置臺之下。
4.一種化學分析裝置，其特徵在於，具備設置有多個具有開口部的反應容器的反應容器設置臺以及向該反應容器的所述開口部噴出空氣的空氣噴出口；在所述反應容器設置臺上具備所述反應容器的荷重測定器，並且具備比較裝置，所述比較裝置在攪拌載置於該荷重測定器的該反應容器內的該反應液期間，獲取來自該荷重測定器的信號，與預先獲得的信號值進行比較。
5.一種化學分析裝置，其特徵在於，具備設置有多個具有開口部的反應容器的反應容器設置臺以及向該反應容器的所述開口部噴出空氣的多個空氣噴出口；並且具備同時閉塞所述多個空氣噴出口的多個的空氣噴出口閉塞裝置。
6.一種化學分析裝置，其特徵在於，具備反應容器、清洗液噴出管和吸取管，並且具備控制裝置；所述反應容器具有開口部且在底面中央具有反應區域； 所述清洗液噴出管向該反應容器噴出清洗液； 所述吸取管從該反應容器吸取液體； 所述控制裝置進行控制，使得在清洗所述反應容器時，使所述吸取管比所述噴出管先下降到該反應容器的開口部， 開始液體的吸取，然後，使所述噴出管下降到反應容器的開口部，噴出清洗液，並且， 液體的吸取和清洗液的噴出至少在規定時間同時進行。
7.根據權利要求6所述的化學分析裝置，其特徵在於，所述噴出管與所述吸取管之間的距離比該噴出管與該反應容器內壁之間的距離長，並且比該吸取管與該反應容器內壁之間的距離長。
8.根據權利要求6所述的化學分析裝置，其特徵在於，所述噴出管插入所述反應容器側壁附近，並且所述吸取管插入該反應容器的大致中心。
9.根據權利要求7或8所述的化學分析裝置，其特徵在於，至少在液體的吸取與清洗液的噴出同時進行的期間，所述噴出管的前端高度比所述吸取管的前端高度更接近所述反應容器底面。
10.根據權利要求7或8所述的化學分析裝置，其特徵在於，具備至少在液體的吸取與清洗液的噴出同時進行的期間，確定覆蓋所述反應容器的開口部的引導部件的位置的裝置。
11.根據權利要求10所述的化學分析裝置，其特徵在於，所述噴出管的前端具備流路， 該流路越接近所述反應容器，截面越擴大。
全文摘要
本發明的化學分析裝置是對成為攪拌對象的容器中的反應液，從設置在容器上側的空氣噴出口噴出空氣而攪拌反應液的自動化學分析裝置，通過確認向反應容器噴出的空氣的狀態，從而提高可靠性。另外，對反應容器，不帶來將塗布的試劑等剝離之類的損害，可以充分地清洗反應區域。在反應容器設置臺(反應盤)161上設置細孔240和與細孔連接的壓力檢測裝置241，在攪拌動作前後，一邊噴出空氣一邊移動噴出口(噴嘴)170，通過將來自壓力檢測裝置的輸出值與預先測定的正常值進行比較，從而保障攪拌裝置正常。另外，在將噴出管101和吸取管102插入反應容器140的側壁附近的容器開口部兩端的狀態下，不斷地噴出、吸取清洗液來清洗容器底面的反應區域150。
文檔編號G01N35/10GK102326085SQ201080008629
公開日2012年1月18日 申請日期2010年2月22日 優先權日2009年2月27日
發明者大草武德, 山川寬展, 有賀洋一, 清野太作, 高橋賢一 申請人:株式會社日立高新技術