輔助照射裝置及晶圓檢查系統的製作方法
2023-05-26 03:27:56 1
輔助照射裝置及晶圓檢查系統的製作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種輔助照射裝置及晶圓檢查系統，其中，所述輔助照射裝置包括凹面反射鏡及移動裝置，所述凹面反射鏡設置於所述移動裝置上。所述晶圓檢查系統包括光學顯微鏡、載物臺及輔助照射裝置；當執行晶圓檢查時，將待檢查晶圓置於所述載物臺上，在所述輔助照射裝置的配合下，所述光學顯微鏡對所述待檢查晶圓進行檢查。通過凹面反射鏡能夠反射晶圓的背面、晶邊的側面或者晶邊的下表面的情況，從而在執行晶圓檢查時，能夠很方便的對晶圓的背面、晶邊的側面以及晶邊的下表面進行檢查。
【專利說明】輔助照射裝置及晶圓檢查系統
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及集成電路製造設備【技術領域】，特別涉及一種輔助照射裝置及晶圓檢查系統。
【背景技術】
[0002]在集成電路製造過程中，對於晶圓的檢查非常普遍，也十分重要。通過對晶圓的檢查能夠及時發現集成電路製造工藝中可能存在的問題，從而可以儘快加以解決，儘量防止集成電路製造工藝中的缺漏對於集成電路產品的影響；此外，通過對晶圓的檢查也能夠防止缺陷產品流入市場，保證了產品質量。
[0003]例如，在現有技術中，在半導體器件製作完成後，需要通過光學顯微鏡對晶圓進行外觀檢查，以檢出具有明顯外觀缺陷，從而會影響半導體器件質量的晶圓。其中，所述外觀缺陷包括破損、裂紋、劃痕、附著物或者汙染等。
[0004]現有技術中通常採用Lecia、ADI或者AEI等機臺對晶圓進行檢查。由於機臺視野的受限，通常僅能夠檢查晶圓的正面10以及晶邊的上表面11 (如圖1所示)，對於晶圓的背面12、晶邊的側面13以及晶邊的下表面14通常沒有辦法檢查到。但是，在有些對晶圓的檢查項目中，需要獲悉晶圓的背面、晶邊的側面以及晶邊的下表面的情況，從而更加清楚、準確的判斷出晶圓的質量以及相應集成電路製造工藝的可靠性。
[0005]因此，提供一種檢查晶圓的裝置，其能夠獲悉晶圓的背面、晶邊的側面以及晶邊的下表面的情況，成了本領域技術人員亟待解決的一個問題。
實用新型內容
[0006]本實用新型的目的在於提供一種輔助照射裝置及晶圓檢查系統，以解決現有技術中，難以對晶圓的背面、晶邊的側面以及晶邊的下表面進行檢查的問題。
[0007]為解決上述技術問題，本實用新型提供一種輔助照射裝置，所述輔助照射裝置包括:凹面反射鏡及移動裝置，所述凹面反射鏡設置於所述移動裝置上。
[0008]可選的，在所述的輔助照射裝置中，還包括輔助光源，所述輔助光源設置於所述移動裝置上。
[0009]可選的，在所述的輔助照射裝置中，所述移動裝置包括基座，所述基座底部設置有滾輪。
[0010]可選的，在所述的輔助照射裝置中，所述基座底部還設置有滾輪鎖定裝置，所述滾輪與所述滾輪鎖定裝置連接。
[0011]可選的，在所述的輔助照射裝置中，所述移動裝置包括基座，所述基座底部設置有滑塊，所述滑塊置於滑軌上。
[0012]可選的，在所述的輔助照射裝置中，所述移動裝置還包括俯仰調節器，所述俯仰調節器設置於所述基座上，所述凹面反射鏡與所述俯仰調節器連接，所述俯仰調節器調節所述凹面反射鏡的焦點的豎直位置。
[0013]可選的，在所述的輔助照射裝置中，所述移動裝置還包括旋轉調節器，所述旋轉調節器設置於所述基座上，所述旋轉調節器與所述俯仰調節器連接，所述旋轉調節器調節所述凹面反射鏡的焦點的水平位置。
[0014]可選的，在所述的輔助照射裝置中，所述旋轉調節器在所述基座上的高度可調。
[0015]本發明還提供一種晶圓檢查系統，所述晶圓檢查系統包括:
[0016]光學顯微鏡；
[0017]載物臺；及
[0018]如上所述的輔助照射裝置；
[0019]當執行晶圓檢查時，將待檢查晶圓置於所述載物臺上，在所述輔助照射裝置的配合下，所述光學顯微鏡對所述待檢查晶圓進行檢查。
[0020]可選的，在所述的晶圓檢查系統中，還包括校準片，所述校準片與所述待檢查晶圓處於同一平面內，在所述校準片的配合下，調整所述輔助照射裝置的位置。
[0021]可選的，在所述的晶圓檢查系統中，所述載物臺為旋轉式載物臺。
[0022]在本實用新型提供的輔助照射裝置及晶圓檢查系統中，通過凹面反射鏡能夠反射晶圓的背面、晶邊的側面或者晶邊的下表面的情況，從而在執行晶圓檢查時，能夠很方便的對晶圓的背面、晶邊的側面以及晶邊的下表面進行檢查。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0023]圖1是一晶圓的結構示意圖；
[0024]圖2是本實用新型實施例的輔助照射裝置的結構示意圖；
[0025]圖3是本實用新型實施例的晶圓檢查系統的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0026]以下結合附圖和具體實施例對本實用新型提出的輔助照射裝置及晶圓檢查系統作進一步詳細說明。根據下面說明和權利要求書，本實用新型的優點和特徵將更清楚。需說明的是，附圖均採用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。
[0027]本實用新型的核心思想在於，通過凹面反射鏡能夠反射晶圓的背面、晶邊的側面或者晶邊的下表面的情況，從而在執行晶圓檢查時，光學顯微鏡能夠很方便的對晶圓的背面、晶邊的側面以及晶邊的下表面進行檢查。
[0028]具體的，請參考圖2，其為本實用新型實施例的輔助照射裝置的結構示意圖。如圖2所示，所述輔助照射裝置2包括:凹面反射鏡20及移動裝置21，所述凹面反射鏡20設置於所述移動裝置21上。在本申請實施例中，通過所述移動裝置21能夠使得所述凹面反射鏡20的位置發生移動，從而便於所述凹面反射鏡20將(待檢查)晶圓的背面、晶邊的側面以及晶邊的下表面的情況反射出來，繼而利於光學顯微鏡的觀察，實現對晶圓的背面、晶邊的側面以及晶邊的下表面進行檢查。
[0029]進一步的，所述輔助照射裝置2還包括輔助光源22，所述輔助光源22設置於所述移動裝置21上。所述輔助光源22能夠使得所述凹面反射鏡20所照射的面(即需要反射的面)的亮度更高，從而使得所述凹面反射鏡20所反射出來的圖像更加清晰，進而便於光學顯微鏡的觀察。
[0030]在本申請實施例中，所述移動裝置21包括基座210，所述基座210底部設置有滾輪213。通過所述滾輪213的滾動，從而可以使得所述凹面反射鏡20的位置發生移動。進一步的，所述基座210底部還設置有滾輪鎖定裝置214，所述滾輪213與所述滾輪鎖定裝置214連接。通過所述滾輪鎖定裝置214能夠鎖住所述滾輪213。由此，當所述凹面反射鏡20到了特定的位置(即所述凹面反射鏡20能夠反射需要檢查的面)時，通過所述滾輪鎖定裝置214對所述滾輪213的鎖定，可以避免所述滾輪213發生滾動，造成所述凹面反射鏡20發生位置偏差(即所述凹面反射鏡20不能夠很好的反射需要檢查的面)。
[0031]在本申請的其他實施例中，所述基座210底部可以設置滑塊，所述滑塊置於滑軌上。通過所述滑塊在所述滑軌上的移動，實現凹面反射鏡20位置的移動。同時，滑塊能夠很穩定的停在滑軌的特定位置上，由此也能夠避免凹面反射鏡20到了特定的位置之後，因為滑塊的誤移動而發生位置的改變。
[0032]在本申請實施例中，所述移動裝置21還包括俯仰調節器212，所述俯仰調節器212設置於所述基座210上，所述凹面反射鏡20與所述俯仰調節器212連接，所述俯仰調節器212調節所述凹面反射鏡20的焦點的豎直位置。即所述凹面反射鏡20能夠沿著與所述俯仰調節器212的連接線轉動，從而可以在一定範圍內改變所述凹面反射鏡20能夠反射的面，也就相當於細調所述凹面反射鏡20能夠反射的面。
[0033]進一步的，所述移動裝置21還包括旋轉調節器211，所述旋轉調節器211設置於所述基座210上，所述旋轉調節器211與所述俯仰調節器212連接(即在本申請實施例中，所述俯仰調節器212通過所述旋轉調節器211而與所述基座210連接)，所述旋轉調節器211調節所述凹面反射鏡20的焦點的水平位置。即在所述旋轉調節器211的(水平)轉動下，所述凹面反射鏡20也發生了轉動。通過所述旋轉調節器211轉動一周，所述凹面反射鏡20每個位置的焦點可以形成一個圈。同樣的，由此所述凹面反射鏡20可以在一定範圍內改變其能夠反射的面，也就相當於細調所述凹面反射鏡20能夠反射的面。
[0034]進一步的，所述旋轉調節器211在所述基座210上的高度可調。即通過所述旋轉調節器211的高度調節，可以使得所述凹面反射鏡20的高度發生改變，在此也相當於調節了所述凹面反射鏡20的焦點的豎直位置。
[0035]綜上可見，通過所述旋轉調節器211及俯仰調節器212能夠進一步調整所述凹面反射鏡20的位置。假設通過所述滾輪213的滾動，實現了對於凹面反射鏡20位置的粗調，那麼通過所述旋轉調節器211及俯仰調節器212的調節，可以實現對於凹面反射鏡20位置的細調。由此，能夠使得所述凹面反射鏡20更好的反射待檢查晶圓需要檢查的面(即晶圓的背面、晶邊的側面或者晶邊的下表面)。
[0036]進一步的，本申請實施例還提供了一種晶圓檢查系統，具體的，請參考圖3，其為本實用新型實施例的晶圓檢查系統的結構示意圖。如圖3所示，所述晶圓檢查系統包括:光學顯微鏡3 ;載物臺4 ;及如上所述的輔助照射裝置2 ;當執行晶圓檢查時，將待檢查晶圓6置於所述載物臺4上，在所述輔助照射裝置2的配合下，所述光學顯微鏡3對所述待檢查晶圓6進行檢查。
[0037]在本申請實施例中，所述晶圓檢查系統還包括校準片5，所述校準片5與所述待檢查晶圓6處於同一平面內，在所述校準片5的配合下，調整所述輔助照射裝置2的位置。進一步的，所述載物臺4為旋轉式載物臺，即所述載物臺4能夠轉動，從而帶動其上的待檢查晶圓6進行相應的轉動。
[0038]具體的，可通過如下方式對待檢查晶圓進行檢查(在此主要描述對待檢查晶圓的背面、晶邊的側面或者晶邊的下表面進行檢查，當對待檢查晶圓的正面進行檢查時，可通過現有技術實現，即僅使用光學顯微鏡對待檢查晶圓的正面進行觀察):
[0039]移動輔助照射裝置2，使得凹面反射鏡20照射到待檢查晶圓需要檢查的面/位置A(即待檢查晶圓的背面、晶邊的側面或者晶邊的下表面)。在此，可通過校準片5的配合，使得所述輔助照射裝置2 (即凹面反射鏡20)移動到特定的位置，其中，所述校準片5為透明薄片，其上具有標記。具體的，將所述校準片5置於所述待檢查晶圓6的同一平面內，進一步的，所述校準片5位於所述光學顯微鏡3的觀察視野內；移動所述輔助照射裝置2，當發現待檢查晶圓需要檢查的面/位置A上顯示有所述標記，則說明所述輔助照射裝置2 (即凹面反射鏡20)移動到了特定的位置，此時所述輔助照射裝置2即可停止移動，所述輔助照射裝置2將反射待檢查晶圓需要檢查的面/位置A。
[0040]接著，即可通過所述光學顯微鏡3對檢查晶圓需要檢查的面/位置A進行觀察，即方便的實現了對晶圓的背面、晶邊的側面或者晶邊的下表面的檢查。
[0041]上述描述僅是對本實用新型較佳實施例的描述，並非對本實用新型範圍的任何限定，本實用新型領域的普通技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾，均屬於權利要求書的保護範圍。
【權利要求】
1.一種輔助照射裝置，用於晶圓檢查，其特徵在於，包括:凹面反射鏡及移動裝置，所述凹面反射鏡設置於所述移動裝置上。
2.如權利要求1所述的輔助照射裝置，其特徵在於，還包括輔助光源，所述輔助光源設置於所述移動裝置上。
3.如權利要求1所述的輔助照射裝置，其特徵在於，所述移動裝置包括基座，所述基座底部設置有滾輪。
4.如權利要求3所述的輔助照射裝置，其特徵在於，所述基座底部還設置有滾輪鎖定裝置，所述滾輪與所述滾輪鎖定裝置連接。
5.如權利要求1所述的輔助照射裝置，其特徵在於，所述移動裝置包括基座，所述基座底部設置有滑塊，所述滑塊置於滑軌上。
6.如權利要求3?5中任一項所述的輔助照射裝置，其特徵在於，所述移動裝置還包括俯仰調節器，所述俯仰調節器設置於所述基座上，所述凹面反射鏡與所述俯仰調節器連接，所述俯仰調節器調節所述凹面反射鏡的焦點的豎直位置。
7.如權利要求6所述的輔助照射裝置，其特徵在於，所述移動裝置還包括旋轉調節器，所述旋轉調節器設置於所述基座上，所述旋轉調節器與所述俯仰調節器連接，所述旋轉調節器調節所述凹面反射鏡的焦點的水平位置。
8.如權利要求7所述的輔助照射裝置，其特徵在於，所述旋轉調節器在所述基座上的聞度可調。
9.一種晶圓檢查系統，其特徵在於，包括: 光學顯微鏡； 載物臺；及 如權利要求1?8中任一項所述的輔助照射裝置； 當執行晶圓檢查時，將待檢查晶圓置於所述載物臺上，在所述輔助照射裝置的配合下，所述光學顯微鏡對所述待檢查晶圓進行檢查。
10.如權利要求9所述的晶圓檢查系統，其特徵在於，還包括校準片，所述校準片與所述待檢查晶圓處於同一平面內，在所述校準片的配合下，調整所述輔助照射裝置的位置。
11.如權利要求9所述的晶圓檢查系統，其特徵在於，所述載物臺為旋轉式載物臺。
【文檔編號】H01L21/67GK204011372SQ201420416145
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年7月25日 優先權日:2014年7月25日
【發明者】方三軍, 朱瑜傑, 楊健 申請人:中芯國際集成電路製造(北京)有限公司