信息記錄媒體用玻璃基板、信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法及信息記錄媒體的製作方法

2023-05-31 03:26:01 3

專利名稱：：信息記錄媒體用玻璃基板、信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法及信息記錄媒體的製作方法
技術領域：
：本發明涉及信息記錄媒體用玻璃基板及其製造方法以及信息記錄媒體，所述信息記錄媒體用玻璃基板用於信息記錄媒體，該信息記錄媒體具有利用了磁、光、光磁等屬性的記錄層。
背景技術：
：具有利用磁、光、光磁等屬性的記錄層的信息記錄媒體中，代表性的有磁碟。作為磁碟用基板以往廣泛使用鋁基板。但近年來伴隨記錄密度提高要求磁頭浮起量降低，使用玻璃基板作為磁碟用基板的比例增多，該玻璃基板與鋁基板相比表面平滑性優異且表面缺陷少，能夠實現降低磁頭的浮起量。這種磁碟等信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法中，為了提高玻璃基板的耐衝擊性和耐振性，防止衝擊和振動引起的基板破損，一般是在玻璃基板表面實施化學強化處理，對玻璃基板進行強化。化學強化處理通常通過離子交換法進行，具體是將玻璃基板浸放在化學強化處理液中，以化學強化處理液中的K+等離子對玻璃基板表層的Na+等離子進行離子交換，由此在玻璃基板的表面形成壓縮應力層。化學強化處理後為了除去化學強化處理液引起的浸蝕和微細的傷痕等確保必要的平滑性，多數場合是對被化學強化處理的表面進行研磨加工。但是該研磨加工致使玻璃基板表面形成的壓縮應力層的一部分被除去，這樣破壞了玻璃基板表面和反面的應力平衡，玻璃基板翹起平坦度劣化，存在問題。為了防止上述平坦度的劣化，有一種磁性記錄媒體用玻璃基板被提案，其中，使化學強化處理後的研磨帶來的玻璃基板厚度方向的減少量，單面大於Q^m小於等於0.4mm(參照例如專利文獻1)。專利文獻1:特開平11—268932號公報但是，即使化學強化處理後的研磨引起的玻璃基板厚度方向的減少量在上述專利文獻1中記載的範圍，為了防止玻璃基板平坦度的劣化還必須使玻璃基板的表面和反面的減少量嚴密一致，而為此需要大量的勞力和時間，導致製造成本上升，存在問題。
發明內容本發明鑑於上述技術課題，以提供一種信息記錄媒體用玻璃基板、該信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法以及釆用該信息記錄媒體用玻璃基板的信息記錄媒體為目的，該信息記錄媒體用玻璃基板能夠在兼備高強度高平坦度的同時以低成本進行製造。為了解決上述課題，本發明具有以下特徵。1.一種信息記錄媒體用玻璃基板，是具有中心孔的圓板狀玻璃基板，成分中至少含有Na20，外周端面及內周端面上具有用含K"離子的化學強化處理液作了化學強化的區域，信息記錄媒體用玻璃基板的特徵在於，所述玻璃基板的外周端面及內周端面的所述被化學強化了的區域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，為O.(W1—W3)/W2S5。2.—種信息記錄媒體用玻璃基板，是具有中心孔的圓板狀玻璃基板，成分中至少含有Na20，外周端面及內周端面上具有用含K+離子的化學強化處理液作了化學強化的區域，信息記錄媒體用玻璃基板的特徵在於，所述玻璃基板的外周端面及內周端面的所述被化學強化了的區域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1,K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，為1S(W1—W3)/W2S5。3.上述1或2中記載的信息記錄媒體用玻璃基板，其特徵在於，所述K+離子濃度為最大的位置，是在離開所述玻璃基板外周端面及內周端面的內部。4.上述1至3的任何一項中記載的信息記錄媒體用玻璃基板，其特徵在於，所述玻璃基板的成分中含有NazO和Li20。5.—種信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法，包括化學強化工序，該化學強化工序是用含K+離子的化學強化處理液，化學強化具有中心孔的圓板狀的、成分中至少含有Na20的玻璃基板作，信息記錄媒體用玻璃基板製造方法的特徵在於，所述化學強化工序使得所述玻璃基板的外周端面及內周端面的所述被化學強化了的區域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，為O.(W1—W3)/W2^5。6.—種信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法，包括化學強化工序，該化學強化工序是用含K+離子的化學強化處理液，化學強化具有中心孔的圓板狀的、成分中至少含有N&20的玻璃基板，信息記錄媒體用玻璃基板製造方法的特徵在於，所述化學強化工序使得所述玻璃基板的外周端面及內周端面的所述被化學強化了的區域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為\￥2，所述玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，為1S(W1—W3)/W2S5。7.上述5或6中記載的信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法，其特徵在於，所述K+離子濃度為最大的位置，是在離開所述玻璃基板的外周端面及內周端面的內部。8.—種信息記錄媒體，其特徵在於，在上述1至4的任何一項中記載的信息記錄媒體用玻璃基板上至少形成記錄層。9.上述8中記載的信息記錄媒體，其特徵在於，所述記錄層是磁性層。根據本發明，通過使玻璃基板的外周端面及內周端面的被化學強化了的區域的K+離子濃度和Na+離子濃度在所定範圍，這樣能夠保持玻璃基板外周端面及內周端面的應力平衡，所以能夠提供能夠在兼備高強度和高平坦度的同時以低成本製造的信息記錄媒體用玻璃基板、該信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法，以及採用了該信息記錄媒體用玻璃基板的信息記錄媒體。圖1:本發明實施方式的玻璃基板10的外周端面附近的截面放大圖，上述對應位置的離開玻璃基板外周端面的距離與離子濃度的關係示意曲線。圖2:本發明另一實施方式的玻璃基板10b的外周端面附近的截面放大圖，上述對應位置的離開玻璃基板外周端面的距離與離子濃度的關係示意曲線。圖3:本發明的信息記錄媒體用玻璃基板的一例示意圖。圖4:本發明的信息記錄媒體用玻璃基板的另一例示意圖。圖5:實施例採用的圓環彎曲試驗機20的模式圖。符號說明10、10a、10b玻璃基板11、11a、lib表面12、12a、12b反面13中心孔14外周端面15內周端面16、17去角部18被化學強化了的區域19沒有被化學強化的區域具體實施例方式以下參照附圖詳細說明本發明的實施方式。[信息記錄媒體用玻璃基板]圖3是本發明信息記錄媒體用玻璃基板的一例示意圖。圖3(a)是立體3(b)是截面圖。玻璃基板10是具有中心孔13的圓板狀玻璃基板，具有為形成了記錄層的面的表面11以及反面12。外周端面14及內周端面15上分別設去角部16及17。另外玻璃基板IO上有沒有被化學強化的區域19和被化學強化了的區域18。所謂被化學強化了的區域18，是通過將玻璃基板浸在被加熱了的化學強化處理液中，玻璃基板成分的Na+離子的至少一部分被離子半徑大於它的K+離子置換了的區域，由於離子半徑不同產生變形，被化學強化了的區域18中產生壓縮應力，玻璃基板被強化。圖4是本發明信息記錄媒體用玻璃基板的另一例示意圖。圖4(a)是使化學強化處理後的研磨量為較大情況時玻璃基板10a的截面示意圖，圖4(b)是使化學強化處理後的研磨量為更大情況時玻璃基板10b的截面示意圖。圖4(a)中的玻璃基板10a由於研磨表面lla及反面12a，表面lla及反面12a上留有的被化學強化了的區域的深度，比外周端面14及內周端面15上留有的被化學強化了的區域的深度淺。圖4(b)中的玻璃基板10b因為表面lla及反面12a的研磨量更大，所以表面llb及反面12b上直接露出沒有被化學強化的區域19，被化學強化的區域18隻存在於外周端面14及內周端面15。如上所述，本發明的信息記錄媒體用玻璃基板，對表面及反面是否留有被化學強化了的區域或被化學強化了的區域的深度等沒有特別限定，只要至少在外周端面及內周端面存在被化學強化了的區域即可。被化學強化了的區域中，不僅僅是玻璃基板成分的Na+離子被K+離子置換，在作為玻璃基板的成分並且含有Li+離子的情況時，也可以是L1+離子被!^3+離子和K+離子置換。作為玻璃基板的材料，只要是成份中至少含有Na20，浸在含有K+離子的化學強化處理液中時能夠離子交換的玻璃，沒有特殊限定。可以使用例如以Si02、Na20、CaO為主要成分的蘇打石灰玻璃；以Si02、A1203、R20(R=K、Na、Li)為主要成分的水合矽酸鋁玻璃；硼矽酸鹽玻璃；Li20—Si02系玻璃；Li20—A1203—Si02系玻璃；R'0—A1203—Si02系玻璃(R，=Mg、Ca、Sr、Ba)等。其中，水合矽酸鋁玻璃和硼矽酸鹽玻璃因為耐衝擊性和耐振性優異尤其優選。另外，從化學強化時能夠效率較高地進行離子交換之觀點出發，優選使用成分中含有Na20和L120的玻璃。對玻璃基板的大小沒有限定。可以採用例如外徑為2.5英寸、1.8英寸、l英寸、0.8英寸等各種大小的玻璃基板。另外對玻璃基板的厚度也沒有限定。可以使用例如2mm、lmm、0.63mm等各種厚度的玻璃基板。本發明者為了解決化學強化處理後玻璃基板的平坦度惡化之上述課題，進行了銳意檢討，發現玻璃基板外周端面及內周端面的應力大大影響玻璃基板的平坦度。並且進行繼續檢討的結果發現通過使外周端面及內周端面被強化處理了的區域中的K+離子濃度及Na+離子濃度在所定範圍，則能夠防止玻璃基板的平坦度惡化。具體如下，通過使玻璃基板的外周端面及內周端面被化學強化了的區域中的玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2,玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，滿足0.1《(W1—W3)/W2《5，較優選滿足1《(W1—W3)/W2《5，這樣玻璃基板外周端面及內周端面的應力平衡，能夠防止玻璃基板的平坦度惡化。圖1是本發明實施方式的玻璃基板IO外周端面附近的放大截面圖，上述對應位置的離開玻璃基板外周端面的距離與離子濃度的關係示意曲線。該曲線表示玻璃基板厚度方向中央的K+離子濃度及Na+離子濃度。圖1的曲線中，離端面距離L2的右側(玻璃基板的中心側)是沒有被化學強化的區域19，距離L2的左側(玻璃基板的端面側)是被化學強化了的區域18。作為玻璃基板10的材料，因為使用成分中不含K20的玻璃，所以玻璃基板IO沒有被化學強化的區域19中的K+離子濃度(W3)為0。K+離子濃度在被化學強化了的區域18中是隨著接近玻璃基板的端面而慢慢增加。化學強化處理剛結束的玻璃基板如曲線所示，K+離子濃度在端面最大。之後由於化學強化處理後的洗淨等，端面附近的K+離子洗脫減少，如曲線中的實線所示，K+離子濃度最大(W1)的位置是在離開端面Ll距離的內部。K+離子濃度可以在端面最大，但是優選在離開端面的內部位置為最大(Wl)。通過在離開端面的內部位置為最大(Wl)，這樣能夠抑制過度的離子擴散，表面附近的K+離子分布處於安定狀態，抑制衰變和溫度引起的變化，常時維持安定的應力分布狀態，可謂優選。作為洗淨液，可以採用純水、離子交換水、離子水、臭氧水、超純水、蒸餾水、雙氧水等周知的洗淨水，還可以採用使用了鹽酸、硫酸、硝酸、乙二酸、醋酸、檸檬酸、氫氟酸等酸類或NaOH、KOH等鹼成分的周知的玻璃基板洗淨水溶液。Na+離子濃度在沒有被化學強化的區域19中為一定，但是在被化學強化了的區域18中是隨接近玻璃基板端面而慢慢減少，在端面為最小。使K+離子濃度為最大的位置(L1)上的Na+離子濃度為W2。K+離子濃度在端面為最大時只要使端面的K+離子濃度為W1端面的Na+離子濃度為W2即可。圖1中僅對玻璃基板10外周端面14附近作了放大圖示'但是玻璃基板10內周端面15附近也具有與外周端面14附近相同的離子濃度分布。(Wl—W3)/W2不到0.l時，玻璃基板中含有的Na+離子與化學強化處理液中含有的K+離子的離子交換不足，不能得到作為信息記錄媒體用玻璃基板所必需的強度。(W1—W3)/W2在0.1以上不到1時，端部發生的壓縮應力不充分，有時不能充分發揮所需的強度特性，不優選。反之(W1—W3)/W2大於5時，離子交換過剩，由於外周端面和內周端面中存在超過需要的應力，容易引起玻璃基板的平坦度惡化。圖2是本發明另一實施方式的玻璃基板10b的外周端面附近的放大截面圖，上述對應位置的離開玻璃基板外周端面的距離與離子濃度的關係示意曲線。玻璃基板10b的表面llb及反面12b沒有被化學強化的區域19直接露出，被化學強化了的區域18隻存在於外周端面14及內周端面15。圖2的曲線表示玻璃基板厚度方向中央的K+離子濃度及Na+離子濃度。圖2的曲線中，離端面距離L2的右側(玻璃基板的中心側)是沒有被化學強化的區域19，L2的左側(玻璃基板的端面側)是被化學強化了的區域18。與圖1的情況不同，作為玻璃基板10b的材料因為使用成分中含有K2O的玻璃，所以玻璃基板10b沒有被化學強化的區域19中K+離子濃度(W3)不為0，顯示一定值。K+離子濃度在被化學強化了的區域18中隨接近玻璃基板端面而慢慢增加，在稍微離開端面的內部位置(L1)為最大(W1)。Na+離子濃度在沒有被化學強化的區域19中為一定，但是在被化學強化了的區域18中是隨接近玻璃基板端面而慢慢減少，在端面為最小。使K+離子濃度為最大之位置(L1)上的Na+離子濃度為W2。這種玻璃基板10b的情況也與圖1的玻璃基板10相同，通過滿足0.1S(W1一W3)/W2^5，較優選滿足(W1—W3)/W2S5，這樣玻璃基板外周端面及內周端面的應力平衡，能夠防止玻璃基板的平坦度惡化。[信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法]信息記錄媒體用玻璃基板的製造一般經過坯料製作工序、內外周加工工序、研削研磨工序、化學強化工序、洗淨工序等工序。坯料製作工序是形成作為信息記錄媒體用玻璃基板基礎的坯料，周知的有模壓成型熔融玻璃的製作方法，還有切斷片狀玻璃的製作方法。內外周加工工序是穿孔加工中心孔以及為了確保外周端面和內周端面的形狀和尺寸精度的研削加工和內外周端面的研磨加工等。研削研磨工序是為了使形成記錄層的面滿足平坦度和表面粗細而進行的研削加工和研磨加工。通常大多數情況下是分粗研削加工、精研削加工、l次研磨加工、2次研磨加工等幾個階段進行。化學強化工序是將玻璃基板浸在化學強化處理液中對玻璃基板進行強化。洗淨工序是除去殘留在玻璃基板表面的研磨劑和化學強處理液等異物。上述一系列工序內，本發明信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法主要是在化學強化工序中具有特徵。本發明中，可以在研削研磨工序完成之後進行化學強化工序，也可以先進行化學強化工序然後進行研削研磨工序。另外還可以在研削研磨工序進展到某一階段時進行化學強化工序，然後再進行研削研磨工序乘下的工序直至完成。本發明信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法還可以有上述之外的各種工序。例如可以有用來緩和玻璃基板內部變形的退火工序、用來確認玻璃基板強度可靠性的熱休克工序、各種檢查評價工序等。[化學強化工序]化學強化工序是通過離子交換法進行的，即將玻璃基板浸在被加熱了的化學強化處理液中，化學強化處理液中含有的K+離子置換玻璃基板中含有的Na+離子。由於離子半徑不同產生的變形，被離子交換的區域中發生壓縮應力，玻璃基板的表面被強化。不僅僅是Na+離子與K+離子的離子交換，玻璃基板中含有的Li+離子與化學強化處理液中含有的Na+離子和K+離子的離子交換也可以並同進行。作為化學強化處理液一般採用含K+離子的熔融鹽或含K+離子和Na+離子的熔融鹽。作為含Na+離子和K+離子的熔融鹽，可以舉出Na和K的硝酸鹽、碳酸鹽、硫酸鹽和它們的混合熔融鹽。其中，從熔點低能夠防止玻璃基板變形之觀點出發，優選釆用硝酸鹽。尤其優選採用硝酸鉀和硝酸鈉以1:350:l範圍的質量比率混合的熔融鹽，較優選採用以i:13o:i範圍的質量比率混合的熔融鹽為好。更優選採用以2:ii5:i範圍的質量比率混合的熔融鹽為好。如果硝酸鉀和硝酸鈉的混合比率小於下限值5o:i的話，離子交換速度急劇下降難以得到充分的強化層(離子濃度變化的層)。另外如果硝酸鉀和硝酸鈉的混合比率大於上限值l:3的話，Na離子的交換速度過剩，難以得到所望的離子濃度分布，應力過度發生變得不安定，平坦度惡化。化學強化處理液被加熱到比上述成分融解的溫度還要高的高溫。而化學強化處理液的加熱溫度太高的話，玻璃基板的溫度升得太高，導致玻璃基板變形。因此，優選化學強化處理液的加熱溫度，是低於玻璃基板的玻璃轉移點(Tg)的溫度，更優選是低於玻璃轉移點一5Q。C的溫度。外周端面及內周端面的K+離子濃度及Na+離子濃度由玻璃基板和化學強化處理液的種類、化學強化處理液的溫度、浸放時間等決定。因此，根據所採用的玻璃基板和化學強化處理液的種類，通過適當設定化學強化處理液的溫度和浸放時間，能夠使外周端面及內周端面的K+離子濃度及Na+離子濃度在0.1^(W1—W3)/W2^5的範圍，較優選是在1^(W1—W3)/W2S5的範圍。通常，化學強化處理液的溫度越高、浸放時間越長，(W1—W3)/W2的值越大，化學強化處理液的溫度越低、浸放時間越短，(W1—W3)/W2的值越小。為了防止由於被浸放到加熱了的化學強化處理液中時的熱衝擊而發生的玻璃基板的破碎和微細的裂縫，可以有預熱工序，即在浸入化學強化處理液之前在預熱槽加熱玻璃基板到所定溫度。[信息記錄媒體]通過在本發明的信息記錄媒體用玻璃基板上至少形成記錄層，便能夠得到信息記錄媒體。記錄層沒有特殊限定，可以採用利用了磁、光、光磁等屬性的各種記錄層，但是尤其適合於採用磁性層作為記錄層的信息記錄媒體(磁碟)的製造u作為磁性層所用的磁性材料沒有特殊限定，可以適宜選擇採用周知的材料。可以舉出例如以Co為主要成分的CoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiO等。也可以是用非磁性膜(例如Cr、CrMo、CrV等)分割磁性層的降低了噪音的多層結構。作為磁性層，除了上述Co類材料之外，也可以採用鐵酸鹽類、鐵一稀土族類材料，以及在由Si02、BN等構成的非磁性膜中分散了Fe、Co、CoFe、CoNiPt等磁性粒子之構造的顆粒等。磁性層可以是面內型和垂直型的任何一種。作為磁性膜的形成方法可以採用周知的方法。可以舉出例如噴鍍法、化學沉積法、旋塗法等。可以進一步根據需要在磁碟中設下底層、保護層、潤滑層等。這些層都可以適宜選擇採用周知的材料。作為下底層的材料可以舉出例如Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、A1、Ni等。作為保護層的材料，可以舉出例如Cr、Cr合金、C、Zr02、Si02等。作為潤滑層可以舉出例如塗布由全氟聚醚(PFPE)等構成的液體潤滑劑，根據需要進行加熱處理的等。實施例採用水合矽酸鋁玻璃作為玻璃材料，壓榨成型熔融玻璃製作坯料。經內外周加工工序和研削研磨工序，做成外徑65mm、內徑2Omm、厚度0635mm的玻璃基板。表面粗細加工成正反都是算術平均高Ra(JISB0601:2001)為O.40.5nm。平坦度(PV值)正反都不到1um。平坦度的測定是採用加工成0.1"m以下水準的平面標準原器，通過千涉條紋的測定進行。作為化學強化處理液，準備了硝酸鉀(KN03)和硝酸鈉(NaN03)的混合熔融鹽。混合比是質量比l:1。化學強化處理液的溫度為400°C。將20張玻璃基板裝到搬送夾具上，連同搬送夾具一起浸入化學強化處理液中。如下表1所示，用從5分鐘到1200分鐘改變浸放時間之條件進行了化學強化處理。浸放所定時間之後，連同搬送夾具一起取出玻璃基板，通過超聲波洗淨機用純水洗淨殘留的化學強化處理液，從搬送夾具取出玻璃基板。[離子濃度的測定]各條件各抽取2張玻璃基板，測定玻璃基板外周端面及內周端面的K+離子濃度及Na+離子濃度分布，求得W1、W2及W3，計算(W1—W3)/W2值。K+離子濃度和Na+離子濃度的測定用飛行時間型二次離子質量分析裝置(TimeofFlight(TOF)—SIMS)進行。[平坦度的測定]接下去，各條件各抽取5張玻璃基板進行平坦度(PV值)測定。平坦度的測定與化學強化處理前的基板相同，通過幹涉條紋的測定進行。優選平坦度小，若超過5^m的話作為磁碟則性能上有問題。這裡以平坦度5張的平均值在5"m以下的情況為良好(評價O)，超過5Mm的情況為有問題(評價X)。[用圓環彎曲強度試驗所作的強度測定]進一步各條件各抽取IO張玻璃基板，通過圓環彎曲強度試驗測定了玻璃基板的強度)。圖5是本實施例中採用的圓環彎曲試驗機20的模式圖。圓環彎曲試驗機20是在支撐臺23上放置玻璃基板30，由圓環狀支撐外周31，在玻璃基板30的內周33上放置鐵球22，中介鐵球22通過加載21對玻璃基板30的內周33施加荷重，進行破壞試驗。該方法與行業一般採用的作為硬碟用信息記錄媒體強度實驗的方法相同。支撐臺23是內徑D二63mm的圓筒形。鐵球22是直徑28.57mm的鐵製球，質量l00克左右，該質量與加載21施加的荷重相比能夠忽視。鐵球22碰觸玻璃基板30內周33施加作用力，對外周31被支撐臺23支撐的玻璃基板30施加彎曲應力。加載21的壓下速度為0.5mm/分。根據本發明者以往的經驗，破壞強度小於l00N的話，信息記錄媒體用玻璃基板的破碎、缺損等破損引起的成品率降低顯著。因此，這裡以測定的io張玻璃基板的破壞強度全部在l0QN以上的情況為最良好(評價)、破壞強度在10QN以上的玻璃基板在7張以上的情況為良好(評價O)、破壞強度在l00N以上的玻璃基板不到7張的情況為有問題(評價X)，進行了評價。[評價結果]表l出示評價結果。綜合判定欄的記號表示如下。平坦度的評價為O、破壞強度的評價為的情況。平坦度、破壞強度的評價都為O的情況。X-平坦度、破壞強度的評價都為X的情況。tableseeoriginaldocumentpage14確認到用玻璃基板的外周端面及內周端面的K+離子濃度及Na+離子濃度在0.(W1—W3)/W2^5範圍之條件製作的基板，強度和平坦度都良好，綜合判定結果為〇或。用(W1—W3)/W2值不到0.1之條件製作的比較例的基板，破壞強度的評價為X，用(W1—W3)/W2值超過5之條件製作的比較例的基板，平坦度的評價為X，各情況綜合評定都為X，不能得到良好的信息記錄媒體用玻璃基板。所作評價的所有玻璃基板，洗淨後的K+離子濃度的最大(W1)的位置，在離開端部的內部位置。權利要求1.一種信息記錄媒體用玻璃基板，是具有中心孔的圓板狀玻璃基板，成分中至少含有Na2O，外周端面及內周端面上具有用含K+離子的化學強化處理液作了化學強化的區域，信息記錄媒體用玻璃基板的特徵在於，所述玻璃基板的外周端面及內周端面的所述被化學強化了的區域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，為0.1≤(W1-W3)/W2≤5。2.—種信息記錄媒體用玻璃基板，是具有中心孔的圓板狀玻璃基板，成分中至少含有Na20，外周端面及內周端面上具有用含K+離子的化學強化處理液作了化學強化的區域，信息記錄媒體用玻璃基板的特徵在於，所述玻璃基板的外周端面及內周端面的所述被化學強化了的區域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，為1S(W1—W3)/W2S5。3.權利要求l或2中記載的信息記錄媒體用玻璃基板，其特徵在於，所述K+離子濃度為最大的位置，是在離開所述玻璃基板外周端面及內周端面的內部。4.權利要求1至3的任何一項中記載的信息記錄媒體用玻璃基板，其特徵在於，所述玻璃基板的成分中含有Na20和Li20。5.—種信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法，包括化學強化工序，該化學強化工序是用含K+離子的化學強化處理液，化學強化具有中心孔的圓板狀的、成分中至少含有N320的玻璃基板作，信息記錄媒體用玻璃基板製造方法的特徵在於，所述化學強化工序使得-所述玻璃基板的外周端面及內周端面的所述被化學強化了的區域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1,K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，所述玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，成為0.1S(W1—W3)/W2^5。6.—種信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法，包括化學強化工序，該化學強化工序是用含K+離子的化學強化處理液，化學強化具有中心孔的圓板狀的、成分中至少含有N&20的玻璃基板，信息記錄媒體用玻璃基板製造方法的特徵在於，所述化學強化工序使得所述玻璃基板的外周端面及內周端面的所述被化學強化了的區域中的所述玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2,所述玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，成為1S(W1—W3)/W2S5。7.權利要求5或6中記載的信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法，其特徵在於，所述K+離子濃度為最大的位置，是在離開所述玻璃基板的外周端面及內周端面的內部。8.—種信息記錄媒體，其特徵在於，在權利要求1至4的任何一項中記載的信息記錄媒體用玻璃基板上至少形成記錄層。9.權利要求8中記載的信息記錄媒體，其特徵在於，所述記錄層是磁性層。全文摘要本發明提供一種信息記錄媒體用玻璃基板、該信息記錄媒體用玻璃基板的製造方法以及採用該信息記錄媒體用玻璃基板的信息記錄媒體，其中信息記錄媒體用玻璃基板能夠在兼備高強度高平坦度的同時以低成本進行製造。該信息記錄媒體用玻璃基板，其玻璃基板的外周端面及內周端面的被化學強化了的區域中的玻璃基板厚度方向中央的離子濃度，在以K+離子濃度的最大值為W1，K+離子濃度為最大之位置上的Na+離子濃度為W2，玻璃基板沒有被化學強化的區域中的K+離子濃度為W3時，滿足0.1≤(W1-W3)/W2≤5。文檔編號G11B5/73GK101542603SQ20078004335公開日2009年9月23日申請日期2007年11月5日優先權日2006年11月22日發明者佐佐木賢一,河合秀樹,澤田浩明申請人:柯尼卡美能達精密光學株式會社