電子照相光電導體及其製造方法

2023-06-16 18:11:16 2

專利名稱：：電子照相光電導體及其製造方法
技術領域：
：本發明涉及在基材和光敏層之間具有底塗層的電子照相光電導體及其製造方法，更具體地說，涉及該底塗層及其製造方法。一般來說，採用具有光電導性的光電導體的電子照相成象方法是一種利用光電導體的光電導現象的影象記錄方法。更具體地說，影象是由下列步驟形成的首先在暗處利用電暈放電使光電導體的表面均勻帶電，接著用影象光照射該光電導體的帶電錶面，從而選擇性地消耗光電導體曝光部分的電荷，在未曝光部分產生靜電潛象，隨後通過靜電引力等手段使彩色的並帶有電荷的上色劑顆粒粘附在靜電潛象上來使靜電潛象顯影成可見的影象。在該成象方法中，要求光電導體具有某些基本性能，包括在暗處能使其均勻地帶電至預定的電位、具有優良的電荷儲存性以降低漏電，具有高的光敏度以便能響應光照射而快速開始放電。還要求光電導體能容易地消除在其表面上的靜電電荷，表面具有低的殘留電位和高的機械強度。另外，光電導體還必須具有良好的撓性，重複使用後電氣性能(包括帶電性、光敏度和殘留電位)變化小，並具有良好的耐熱、耐光照、耐高溫、耐水汽和抗臭氧降解性能。現有的和考慮的具有上述性能的光電導體被構造成光敏層是形成於具有光電導性的基材上的。但是不幸的是這種光電導體容易受從基材載流子注入光敏層的影響，從而顯微地消耗或衰減光電導體表面的電荷。導致形成不合格的影象。現已提出了一種光電導體，它在基材和光敏層之間放置底塗層以解決這種問題，覆蓋基材表面瑕疵，改進光電導體的帶電性並增強光敏層與基材的附著性和塗覆性能。現有的底塗層僅含有樹脂材料，適用的樹脂材料的例子包括聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、丙烯酸酯類樹脂、氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、聚氨酯、環氧樹脂、聚酯、蜜胺樹脂、有機矽樹脂、聚乙烯醇縮丁醛、聚醯胺以及含有兩種或多種這些樹脂重複單元的共聚物。適用的樹脂材料還包括酪蛋白、明膠、聚乙烯醇、乙基纖維素等。日本未審查的公開專利JP-A48-47344(1973)公開了聚醯胺作為較好的樹脂材料，而日本未審查的公開專利JP-A52-25638(1977)公開了溶解在滷化烴或醇溶劑中的聚醯胺作為較好的樹脂材料。上述具有僅含樹脂材料的底塗層的光電導體具有相對較高的殘留電位，因而光敏度較低。因此，上色劑顆粒會粘附在無靜電潛象的非影象區，導致形成稱為霧翳影象的不合格影象。在低溫和低溼條件下這種現象特別常見。為了消除這種現象，在例如日本未審查的公開專利JP-A55-25030(1980)、JP-A56-52757(1981)、JP-A59-93453(1984)、JP-A63-234261(1988)、JP-A63-298251(1988)、JP-A2-181158(1990)、JP-A4-172362(1992)和JP-A4-229872(1992)中公開了採用一種底塗層，該底塗層含有導電顆粒或含有導電顆粒的樹脂材料。上述日本未審查公開專利JP-A55-25030(1980)公開了一種底塗層，它含有具體為金屬(如Ag、Cu、Ni、Au、Bi或碳)的導電顆粒，以及一種含有分散有導電顆粒的粘合劑的底塗層。日本未審查公開專利JP-A56-52757(1981)公開了一種含有氧化鈦的底塗層。日本未審查公開專利JP-A59-93453(1984)公開了一種底塗層，它含有顆粒狀的氧化鈦並經氧化錫或氧化鋁表面處理。日本未審查公開專利JP-A2-181158(1990)公開了一種含有聚醯胺樹脂的底塗層，該聚醯胺樹脂分散有塗覆氧化鋁的氧化鈦顆粒。日本未審查公開專利JP-A4-172362(1992)公開了一種含有粘合劑和金屬氧化物(如氧化鈦和氧化錫)顆粒，並且所述顆粒經鈦酸酯偶合劑表面處理的底塗層。日本未審查公開專利JP-A4-229872(1992)公開了一種底塗層，它含有粘合劑和經矽烷化合物或含氟矽烷化合物表面處理的金屬氧化物顆粒。日本未審查公開專利JP-A63-234261(1988)和JP-A63-298251(1988)公開了主要含有白色顏料(如氧化鈦)和粘合劑的底塗層的白色顏料和粘合劑的最佳混合比。上述底塗層和光敏層是用浸塗方法製得的，這是一種相對容易的塗覆方法，生產率高和製造成本低。由於底塗層形成後再形成光敏層，因此用於底塗層的樹脂材料最好不溶於用作光敏層塗料液的溶劑。如上所述，用作底塗層的塗料液中一般使用能溶於醇或水的樹脂材料。該塗料液是將樹脂材料溶解或分散在醇或水中製得的。在底塗層含有金屬顆粒作為導電顆粒的情況下，存在光電導體帶電性下降，從而經重複使用後導致影象密度下降的問題。在底塗層含有金屬氧化物(如氧化鈦)顆粒的情況下，含有少量氧化鈦和相對大量粘合劑的底塗層具有很大的體積電阻，從而抑制了在光照射過程中所產生的載流子的轉移。這樣使光電導體的殘留電位上升，導致形成不合格的影象如霧翳的影象。另外，由於在低溫和低溼條件下耐用性嚴重下降，使得光電導體不能提供滿意的影象特性。在低溫和低溼條件下增加氧化鈦的量會促使稍許增加殘留電位並可使耐用性稍許降低。但是，當長期重複使用後，特別在低溫、低溼條件下光電導體的殘留電位會增加。結果，光電導體的性能不能長期保持穩定。另一方面，含有很少量粘合劑的底塗層會使膜強度和與基材的附著性下降。這會導致光敏層脫離，從而形成不合格的影象。另外，由於體積電阻的嚴重下降，所以光電導體的帶電性下降。此外，氧化鈦對粘合劑具有微弱的親和力，從而使底塗層塗料液的分散性和儲存穩定性下降。結果形成不均勻的塗層厚度，導致光電導體達不到優良的影象特性。因此，本發明的目的是提供一種電子照相光電導體及其製造方法，該光電導體能被均勻地帶電至預定量的電荷，在操作環境中並經重複使用後它具有低的殘留電位和優良的穩定性。本發明提供一種電子照相光電導體，它包括導電基材；形成於該導電基材上的底塗層；以及形成於所述底塗層上的光敏層，其中，所述底塗層包括具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物和粘合劑。根據本發明，位於基材和光敏層之間的底塗層包括具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物和粘合劑。金屬氧化物通過底塗層中含有的帶不飽和鍵的偶合劑而增加對粘合劑的親和力，結果儘管金屬氧化物的含量很大，但是這種金屬氧化物能均勻地分散在底塗層塗料液中，不產生團聚或造成塗料液的凝膠化。這還能增加塗料液的儲存穩定性。所以，形成厚度均勻的底塗層。因此，可使製得的光電導體均勻帶電至預定量的電荷。由於金屬氧化物含量增加，使得底塗層具有較小的體積電阻，從而確保所形成的載流子的轉移。因此，殘留電位的上升受到抑制。另外，還能防止由於操作環境(特別是在低溫、低溼條件下)或由於光電導體長期重複使用而造成的殘留電位上升。結果，光電導體能穩定地提供高的光敏度。本發明光電導體的特徵在於偶合劑是具有不飽和鍵的含矽(sililation)試劑。根據本發明，將具有不飽和鍵的含矽試劑用作偶合劑使得底塗層具有上述效果的特徵。本發明光電導體的特徵還在於偶合劑是具有不飽和鍵的矽烷偶合劑。根據本發明，將具有不飽和鍵的矽烷偶合劑作為偶合劑使得底塗層具有上述效果的特徵。本發明光電導體的特徵還在於金屬氧化物預先經偶合劑表面處理。根據本發明，用偶合劑預先對金屬氧化物進行表面處理，使用少量的偶合劑就可製得抗金屬氧化物團聚和塗料液凝膠化的底塗層塗料液。另外，這種表面處理能使底塗層塗料液具有改進的分散性和儲存穩定性。因此，可形成厚度均勻的底塗層。此外，可降低底塗層的製造成本。本發明光電導體的特徵還在於金屬氧化物是具有針狀顆粒形狀的氧化鈦。根據本發明，使用氧化鈦針狀顆粒作為金屬氧化物能相對增加氧化鈦針狀顆粒相互接觸的機會。因而儘管氧化鈦的量相對較少，但是由於操作環境(特別是由於低溫、低溼條件)造成的殘留電位上升可受到抑制。由於可降低氧化鈦的含量，從而能改進底塗層膜的強度及其與基材的粘結。這還能使電子照相光電導體獲得優良的穩定性，因為該光電導體不易受由於重複長期使用而造成的電氣性能和影象特性下降的影響。將含有金屬氧化物顆粒的底塗層與含有針狀金屬氧化物顆粒的底塗層進行比較，在底塗層含有等量金屬氧化物的情況下，含有針狀金屬氧化物顆粒的底塗層的電阻更低，從而能增加底塗層的厚度。因此，底塗層表面不反映基材的缺陷，從而使底塗層具有良好的表面光潔度。本發明光電導體的特徵還在於金屬氧化物針狀顆粒的短軸為0.001-1微米，長軸為0.002-100微米，長短軸比的平均值為1.5-300。根據本發明，具有上述效果特徵的底塗層具體地可通過使用短軸為0.001-1微米，長軸為0.002-100微米，長短軸比的平均值為1.5-30的針狀金屬氧化物顆粒而製得。本發明光電導體的特徵還在於金屬氧化物佔底塗層總重量的比例為10-99重量％。根據本發明，通過使金屬氧化物在底塗層總重量中所佔的比例處於上述範圍內可抑制由於操作環境(特別是在低溫、低溼條件)而造成的殘留電位上升，從而使光電導體穩定地獲得高的光敏度。本發明光電導體的特徵還在於粘合劑包括可溶解在有機溶劑中的聚醯胺樹脂。根據本發明，使用可溶解在有機溶劑中的聚醯胺樹脂作為粘合劑能使金屬氧化物和粘合劑形成更強的親和力，並使粘合劑和基材形成優良的粘結。另外，能使底塗層具有良好的撓性。聚醯胺樹脂不會在常用於光敏層塗料液的溶劑中溶脹或溶解，因此在形成底塗層的過程中能防止產生塗層缺陷或塗層厚度不均勻。結果，可形成厚度均勻的底塗層。本發明光電導體的特徵還在於金屬氧化物是未經表面導電處理的氧化鈦。根據本發明，使用作為上述金屬氧化物的未經表面導電處理的氧化鈦，能使底塗層作為用於抑制從基材注入電荷的電荷阻擋層。因此，能防止由於重複使用而使光電導體的帶電性能下降。本發明還提供一種包括導電基材、形成於所述導電基材上的底塗層和形成於底塗層上的光敏層的電子照相光電導體的製造方法，其中，所述底塗層是使用含有具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物、粘合劑和溶劑的底塗層塗料液製得的。根據本發明，底塗層是使用含有具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物、粘合劑和溶劑的底塗層塗料液製得的。該底塗層塗料液具有高的金屬氧化物分散性和均勻性的特徵。也就是說，例如當將基材浸入底塗層塗料液中以形成底塗層時，可防止產生塗層缺陷或塗層厚度不均勻，從而能製得具有上述效果的底塗層。另外，底塗層塗料液具有高的儲存穩定性。本發明光電導體的製造方法的特徵在於金屬氧化物是針狀的顆粒狀氧化鈦，它預先經偶合劑表面處理，所述溶劑是含有選自具有1-4個碳原子的低級醇的溶劑和選自二氯甲烷、氯仿、1，2-二氯乙烷、1，2-二氯丙烷、甲苯和四氫呋喃的溶劑的混合溶劑，所述粘合劑是可溶解在所述混合溶劑中的聚醯胺樹脂。根據本發明，底塗層塗料液具有高的金屬氧化物分散性和均勻性的特徵，從而能防止在形成的底塗層上產生塗層缺陷或塗層厚度不均勻。因此，可形成具有上述效果的底塗層。另外，底塗層塗料液具有高的儲存穩定性。本發明光電導體製造方法的特徵還在於金屬氧化物是針狀顆粒狀氧化鈦，偶合劑在底塗層塗料液中作為分散劑，所述溶劑是含有選自具有1-4個碳原子的低級醇的溶劑和選自二氯甲烷、氯仿、1，2-二氯乙烷、1，2-二氯丙烷、甲苯和四氫呋喃的溶劑的混合溶劑，所述粘合劑是可溶解在所述混合溶劑中的聚醯胺樹脂。根據本發明，底塗層塗料液具有高的金屬氧化物分散性和均勻性的特徵，從而能防止在形成的底塗層上產生塗層缺陷或塗層厚度不均勻。因此，可形成具有上述效果的底塗層。另外，底塗層塗料液具有高的儲存穩定性。最好選擇具有共沸組分的混合溶劑作為上述混合溶劑。共沸是指在給定的壓力下，液體混合物的組成與其在氣相中的組成相同，使得混合溶液具有恆定的沸點的現象。共沸組合物是由選自上述低級醇的溶劑和選自二氯甲烷、氯仿、1，2-二氯乙烷、1，2-二氯丙烷、甲苯和四氫呋喃的溶劑任意組合而確定的。構成這種混合溶劑的溶劑混合比選自已知的混合比，例如，將35重量份甲醇和65重量份1，2-二氯乙烷混合在一起構成共沸組合物。挑選構成共沸組合物的溶劑使得溶劑蒸發均勻，從而使形成的底塗層不產生塗層缺陷並具有均勻的膜厚度。另外，底塗層塗料液具有改進的儲存穩定性。偶合劑的種類包括矽烷偶合劑，如烷氧基矽烷化合物；含矽試劑，如由如滷素、氮、硫等原子與矽化合而成的試劑；鈦酸酯偶合劑；鋁偶合劑等。具有不飽和鍵的偶合劑的例子包括下列化合物，如烯丙基三甲氧基矽烷(silane)、烯丙基三乙氧基矽烷、3-(1-氨基丙氧基)-3，3-二甲基-1-丙烯基三甲氧基矽烷、(3-丙烯醯氧基丙基)三甲氧基矽烷、(3-丙烯醯氧基丙基)甲基二甲氧基矽烷、(3-丙烯醯氧基丙基)二甲基甲氧基矽烷、N-3-(丙烯醯氧基-2-羥丙基)-3-氨基丙基三乙氧基矽烷、3-丁烯基三乙氧基矽烷、2-(氯甲基)烯丙基三甲氧基矽烷、1，3-二乙烯基四甲基二矽氮烷(disilazane)、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、O-(乙烯氧基乙基)-N-(三乙氧基甲矽烷基丙基)氨基甲酸乙酯、烯丙基二甲基氯矽烷、烯丙基甲基二氯矽烷、烯丙基二氯矽烷、烯丙基二甲氧基矽烷、丁烯基甲基二氯矽烷等。在將偶合劑用作分散劑和將偶合劑用作金屬氧化物表面處理試劑的情況下，均可單獨使用上述偶合劑或者兩種或多種組合使用之。用偶合劑對金屬氧化物進行表面處理的方法分成兩大類預處理方法和整體混合方法。預處理方法包括溼法和幹法。溼法可分成兩類水性處理法如直接溶解法、乳液法和胺加合法，以及溶劑處理法。溼法包括如下步驟將金屬氧化物加入含有有機溶劑或水並且溶解或懸浮有作為表面處理試劑的上述偶合劑的混合溶液中；將形成的混合溶液攪拌數分鐘至約1小時，並且如有必要可對該混合溶液加熱；過濾形成的金屬氧化物，隨後乾燥之。或者，將偶合劑加入含有有機溶劑或水並且分散有金屬氧化物的混合溶液中，隨後的步驟與前面所述相同。直接溶解法使用溶解在水中的偶合劑。乳液法使用在水中乳化的偶合劑，胺加合法使用具有磷酸殘基的偶合劑。在胺加合(aduct)法中，最好向混合溶液中加入少量叔胺(如三烷基胺或三烷醇胺)，從而將混合溶液的pH調節至7-10，隨後在冷卻混合溶液(以抑制放熱的中和反應造成的液體溫度上升)的同時實施該方法。溼法將適用的偶合劑限制在那些能溶解或懸浮在所用的有機溶劑或水中的偶合劑。在幹法中，將上述偶合劑直接加入金屬氧化物中，並使用攪拌器等攪拌之。最好預先乾燥金屬氧化物以除去其表面上的水分。例如，將金屬氧化物置於溫度約100℃且以幾十rpm數量級的速度旋轉的Henschel混合器或類似物中進行預先乾燥，隨後加入偶合劑，或者，在加至金屬氧化物中以前將偶合劑溶解或分散在有機溶劑或水中。此時，通過將偶合劑與乾燥的空氣或氮氣一起噴霧可使金屬氧化物與偶合劑均勻地相混合。在加入偶合劑以後，最好將形成的混合物在約80℃且旋轉速度不低於1000rpm的混合器中攪拌10分鐘。使用整體混合方法使得在捏合金屬氧化物和粘合劑的過程中金屬氧化物顆粒受到表面處理。根據金屬氧化物顆粒的種類和形狀適當地選擇偶合劑的摻入量，按金屬氧化物的重量計該摻入量一般選為0.01-30重量％。如果偶合劑的摻入量低於該範圍，則表面處理無效果。另一方面，如果摻入量超過上述範圍，表面處理的效果不再改善。按金屬氧化物的重量計，偶合劑的摻入量較好為0.1-20重量％。適用的金屬氧化物的例子包括氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯等。其中，最好的是氧化鈦。這些金屬氧化物均可單獨使用或多種一起組合使用。上述金屬氧化物顆粒可以是粒狀的，但最好是針狀的如細長條、細長柱或細長的紡錘體。金屬氧化物顆粒較好是針狀的，長短軸比L/S不小於1.5(L指長軸的長度，S指短軸的長度)。較好的長短軸比為1.5-300。如果長短軸比小於該範圍，不能獲得針狀的效果。另一方面，如果長短軸比超出上述範圍，針狀的效果不再改善。最好的長短軸比為2-10。金屬氧化物顆粒的長軸L為0.002-100微米，而短軸S為0.001-1微米。如果長軸L和短軸S超出了上述範圍，則底塗層塗料液的分散性不穩定。如果L和S的長度均低於上述範圍，針狀的效果就會下降。較好的長軸L為0.02-10微米，而較好的短軸S為0.01-0.5微米。儘管金屬氧化物顆粒的長短軸比和軸長度L和S可通過重力沉降分析、透光性粒度分布分析等方法測得，但是最好使用電子顯微鏡直接測定長度。金屬氧化物佔底塗層總重量的10-99重量％。如果金屬氧化物的含量低於10重量％，則製得的底塗層光敏度差，會積聚靜電電荷，導致殘留電位上升。當在低溫和低溼條件下重複使用光電導體時，這種現象尤為明顯。如果金屬氧化物的含量超過99重量％時，底塗層塗料液的儲存穩定性差。這會使塗料液中所含的金屬氧化物發生沉降，導致塗料液的均勻性下降。在底塗層的總重量中金屬氧化物所佔的比例較好為30-99重量％，最好為50-95重量％。金屬氧化物顆粒可以是粒狀的或針狀的。但是，也可使用粒狀和針狀的金屬氧化物顆粒的混合物。在使用氧化鈦作為金屬氧化物的情況下，氧化鈦顆粒可以是任何一種晶形(包括銳鈦礦(anataze)和金紅石)和無定形的。另外，氧化鈦顆粒不限於任何單一的晶形，可組合使用具有不同晶形的多種氧化鈦顆粒。金屬氧化物的體積電阻為105-1010Ω·cm。如果金屬氧化物的體積電阻小於105Ω·cm，則含有這種金屬氧化物的底塗層具有低的電阻，難以作為電荷阻擋層。例如，含有用於導電處理的金屬氧化物(如摻雜有銻的氧化錫)的底塗層具有低至100-101Ω·cm的極低的體積電阻，因此不能作為電荷阻擋層。這樣，降低了作為光電導體性能的帶電性。另一方面，如果金屬氧化物的體積電阻值高於1010Ω·cm(該值等於或大於粘合劑的體積電阻)，形成的底塗層的電阻太高，抑制了由光輻照產生的載流子(carrier)的轉移，結果增加了殘留電位。在用具有不飽和鍵的偶合劑表面處理金屬氧化物前或處理後，以及當偶合劑被用作分散劑時，金屬氧化物可塗覆一層包括氧化鋁、氧化矽和氧化鋅的單種化合物或化合物混合物，從而將金屬氧化物的體積電阻調節至上述範圍內。可使用與現有技術(該現有技術中底塗層是由單種樹脂組分製成的)所使用的同樣的材料作為粘合劑。適用的樹脂材料的例子包括聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、丙烯酸酯類樹脂、氯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、聚氨酯、環氧樹脂、聚酯、蜜胺樹脂、有機矽樹脂、聚乙烯醇縮丁醛、聚醯胺和含有兩種或多種這些樹脂材料重複單元的共聚物。合適的樹脂材料還包括酪蛋白、明膠、聚乙烯醇、乙基纖維素等。其中，聚醯胺由於不會溶解或溶脹於用於在底塗層上形成光敏層的溶劑中、具有優良的與基材的附著性以及適度的撓性而是最好的。對於聚醯胺，最好是能溶於醇的尼龍，包括例如所謂的共聚尼龍，如由尼龍-6、尼龍-66、尼龍-610、尼龍-11、尼龍-12等共聚獲得的尼龍；以及化學改性的尼龍如N-烷氧基甲基改性的尼龍和N-烷氧基乙基改性的尼龍。底塗層是使用底塗層塗料液製得的，該塗料液包括具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物、粘合劑和溶劑。具體地說，將上述混合溶劑作為溶劑用於塗料液，以克服使用單種溶劑時產生的金屬氧化物分散性下降的問題。使用混合溶劑還能改進塗料液的儲存穩定性，從而使之能重複使用。底塗層的厚度選擇為0.01-20微米。厚度小於0.01微米的底塗層事實上不能作為底塗層。這種底塗層既不能覆蓋基材的表面缺陷以獲得均一的表面特性，又不能防止從基材注入載流子。從而導致底塗層帶電性下降。對於厚度大於20微米，底塗層難以形成，並且其機械強度下降。底塗層的厚度最好選為0.05-10微米。在製備底塗層塗料液時，可使用球磨、砂磨、立式球磨、振動磨、超聲波分散混合等方法製備塗料分散液。可使用常用的塗覆方法(如浸塗)施塗該塗料液。基材可以是金屬鼓或金屬片(如由鋁、鋁合金、銅、鋅、不鏽鋼和鈦製得的金屬鼓或金屬片)；由聚合物材料(包括聚對苯二甲酸乙二醇酯、尼龍和聚苯乙烯)製得的上面層壓有金屬箔或置有金屬的鼓、片或無縫帶；以及由硬紙製成的上面層壓有金屬箔或置有金屬的鼓、片或無縫帶。形成於底塗層上的光敏層可以是下述幾種類型中的任何一種，即由電荷產生層和電荷轉移層組成的的功能獨立型、由單一層組成的單層型等。在功能獨立型光敏層中，在底塗層上形成電荷產生層，隨後再在上面形成電荷轉移層。電荷產生層含有電荷產生物質。電荷產生物質的例子包括雙偶氮化合物如ChlorodianeBlue；多環醌化合物如二溴二苯並[cd，jk]芘-5，10-二酮；苝化合物；喹吖啶酮(quinacridone)化合物；酞菁化合物；薁鎓(azulenium)鹽化合物等。這些化合物可單獨使用或多種組合使用。可使用真空沉積電荷產生物質的方法，或使用將電荷產生物質分散在粘合劑樹脂溶液中隨後施塗形成的塗料溶液的方法製得電荷產生層。常用的是後一種方法。將電荷產生物質分散在電荷產生層塗料液中並施塗該塗料液的方法可與底塗層所使用的方法相同。電荷產生層中所含的粘合樹脂的例子包括蜜胺樹脂、環氧樹脂、有機矽樹脂、聚氨酯、丙烯酸酯類樹脂、聚碳酸酯、聚芳基酯、苯氧基樹脂、縮丁醛樹脂等。適用的粘合樹脂還包括含有兩個或多個重複單元的共聚物，如氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙烯腈-苯乙烯共聚物等。應指出適用的粘合樹脂不限於這些，可單獨使用或多種組合使用常用的樹脂材料。用於溶解電荷產生層用粘合劑樹脂的適用的溶劑的例子包括滷化烴如二氯甲烷、二氯乙烷等；酮如丙酮、甲乙酮、環己酮等；酯如乙酸乙酯、乙酸丁酯等；醚如四氫呋喃、二噁烷等；芳香烴如苯、甲苯、二甲苯等；以及非質子傳遞極性溶劑如N，N-二甲基甲醯胺、N，N-二甲基乙醯胺等。電荷產生層的厚度選為0.05-5微米，較好為0.1-1微米。電荷轉移層含有電荷轉移物質。電荷轉移物質的例子包括腙化合物、吡唑炔(pyrazolyne)化合物、三苯基胺化合物、三苯基甲烷化合物、茋化合物、噁二唑化合物等。這些化合物可單獨使用或多種組合使用。與底塗層一樣，電荷轉移層是用將電荷轉移物質溶解在含粘合劑樹脂的溶液中隨後施塗形成的混合液的方法而製得的。用於電荷轉移層的粘合劑樹脂的例子包括與那些用於電荷產生層相同的樹脂。這些樹脂材料可單獨使用或多種組合使用。電荷轉移層的厚度選為5-50微米，較好為10-40微米。單層型光敏層的厚度選為5-50μm，較好為10-40μm。在單層光敏層和多層光敏層這兩種情況下，光敏層最好都帶負電荷，以便底塗層可作為抵抗從基材注入空穴的阻擋層，並能獲得高的敏感度和長的耐久性。出於改進光電導體的敏感度、防止殘留電位上升和由於重複使用造成的光敏度性能下降的目的，光敏層還可含有至少一種電子受體。合適的電子受體的例子包括醌化合物如對苯醌、氯醌、四氯-1，2-苯醌、氫醌、2，6-二甲基苯醌、甲基-1，4-苯醌、α-萘醌、β-萘醌等。硝基化合物如2，4，7-三硝基-9-芴酮、1，3，6，8-四硝基咔唑、對硝基二苯甲酮、2，4，5，7-四硝基-9-芴酮、2-硝基芴酮等；以及氰基化合物如四氰基乙烯、7，7，8，8-四氰基醌二甲烷、4-(對硝基苯甲醯(benzoyl)氧基)-2』，2』-二氰基乙烯基苯、4-(間硝基苯甲醯氧基)-2』，2』-二氰基乙烯基苯等。這些化合物中，較好的是具有一個吸電子的取代基(如Cl、CN、NO2等)的芴化合物、醌化合物和苯衍生物。需提及的是，可加入UV吸收劑和抗氧劑。UV吸收劑和抗氧劑的例子包括苯甲酸、茋化合物及其衍生物；以及含氮化合物如三唑化合物、咪唑化合物、噁二唑(oxadiazoile)化合物、噻唑化合物及其衍生物。如有必要，可提供一層保護層用於保護光敏層。保護層可使用熱塑性樹脂、光固化樹脂和熱固化樹脂。另外，保護層還可含有上述UV吸收劑、抗氧劑、無機物質如金屬氧化物、有機金屬化合物、電子受體等。為了改進光敏層和保護層的機械性能(包括加工性和撓性等)，還可加入增塑劑如二元酸酯、脂肪酸酯、磷酸酯、鄰苯二甲酸酯、氯化石蠟等。此外，可加入勻塗劑如有機矽樹脂。由下列參照附圖的詳細描述可進一步理解本發明的其它目的、特徵和優點。圖1A和1B分別是本發明一個實例的電子照相光電導體的剖面圖；圖2是浸塗設備的示意圖，用於說明電子照相光電導體1a和1b的製造方法。下面參照附圖描述本發明較好的實例。圖1A和1B分別是本發明一個實例的電子照相光電導體(下面簡稱為「光電導體」)1a和1b的剖面圖。光電導體1a和1b各自包括導電基材2、形成於導電基材2上的底塗層3以及形成於底塗層3上的光敏層4。底塗層3包括具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物和粘合劑。圖1A所示的光電導體1a是功能獨立型的。光電導體1a的光敏層4包括相互獨立的電荷產生層5和電荷轉移層6。形成於底塗層3上的電荷產生層5包括粘合劑樹脂7和電荷產生物質8，而形成於電荷產生層5上的電荷轉移層6包括粘合劑樹脂18和電荷轉移物質9。圖1B所示的光電導體1b是單層型的並具有單層光敏層4。該光敏層4包括粘合劑樹脂19、電荷產生物質8和電荷轉移物質9。圖2是用於說明電子照相光電導體1a和1b製造方法的浸塗設備的示意圖。塗料液浴13和攪拌罐14中含有塗料液12。泵16將塗料液12由攪拌罐14通過循環通道17a輸送至塗料液浴13，塗料液從塗料液浴13通過連接塗料液浴13的上部和攪拌罐14的向下傾斜的循環通道17b流向攪拌罐14。塗料液以這種方法循環。在塗料液浴13上面，基材2被固定在旋轉軸10上。旋轉軸10的軸向沿平行於塗料液浴13的直立方向延伸。利用馬達11旋轉旋轉軸10可使固定的基材2垂直移動。馬達11以預定的方向旋轉使基材2下降，從而將基材2浸入在塗料液浴13中的塗料液12中。隨後，馬達11反向旋轉使基材2上升，從而從塗料液12中取出基材2。對帶有塗料液的基材2進行乾燥，從而在其上面形成塗料液12的膜。使用這種浸塗方法可製得功能獨立型光敏層4的底塗層3、電荷產生層5和電荷轉移層6以及單層型光敏層4。底塗層塗料液包括具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物、粘合劑和溶劑。下面將描述本發明實施例1-66。實施例1先將0.02g作為具有不飽和鍵的偶合劑的甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(S710，購自ChissoCorporation)加入500g正己烷中。邊攪拌邊將20g粒狀氧化鋅(FINEX-50，購自SakaiChemicalIndustryCo.，Ltd.，平均粒徑為0.01-0.04微米)加入形成的混合溶液中，隨後再攪拌1小時。接著，濾去氧化鋅顆粒並在100℃加熱3小時進行乾燥。這樣獲得經具有不飽和鍵的偶合劑表面處理的氧化鋅顆粒。應注意本實施例使用的氧化鋅顆粒未經表面導電處理。接著，將17.1重量份經偶合劑表面處理的氧化鋅和0.9重量份作為粘合劑的共聚物尼龍樹脂(CM8000，購自TorayIndustries，Inc.)加入含有28.7重量份甲醇和53.3重量份1，2-二氯乙烷的混合溶劑中。用油漆振蕩器將形成的混合溶液攪拌分散8小時。這樣製得底塗層塗料液。將如此製得的塗料液置於2-mm厚的測量池中，用積分球型濁度計(SEP-PT-501D，購自三菱化學工業株式會社)測定剛從振蕩器中獲得的塗料液的濁度。從獲得的結果評價底塗層塗料液的分散性。在放置90天後，用與前面相同的方法測定底塗層塗料液的濁度。從獲得的結果評價底塗層塗料液的儲存穩定性。結果列於表1。實施例2-4在實施例2中用粒狀氧化錫(S-1，購自MitsubishiMaterialsCorporation，平均粒徑為0.02微米)代替實施例1中的氧化鋅；在實施例3中用粒狀氧化矽(AEROSIL200，購自NipponAerosilCo.，Ltd.，平均粒徑0.012微米)代替實施例1中的氧化鋅；在實施例4中用粒狀氧化鋁(AluminiumOxideC，購自NipponAerosilCo.，Ltd.，平均粒徑為0.013微米)。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例1相同，從而用具有不飽和鍵的偶合劑表面處理這些顆粒，並製得各個實施例的底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表1。實施例5-9在實施例5中用未經表面處理的粒狀氧化鈦(TTO-55N，購自IshiharaSangyoKaisya，Ltd.，平均粒徑為0.03-0.05微米)代替實施例1中的氧化鋅；在實施例6中用經Al2O3表面處理的粒狀氧化鈦(TTO-55A，購自IshiharaSangyoKaisya，Ltd.，平均粒徑為0.03-0.05微米)代替實施例1中的氧化鋅；在實施例7中使用未經表面處理的氧化鈦針狀顆粒(STR-60N，購自SakaiChemicalIndustryCo.，Ltd.，長軸L為0.05微米，短軸S為0.01微米，長短軸比為5)，而在實施例8中使用經Al2O3表面處理的氧化鈦針狀顆粒(STR-60，購自SakaiChemicalIndustryCo.，Ltd.，長軸L為0.05微米，短軸S為0.01微米，長短軸比為5)。實施例9使用經Al2O3和SiO2表面處理的氧化鈦針狀顆粒(STR-60A，購自SakaiChemicalIndustryCo.，Ltd.，長軸L為0.05微米，短軸S為0.01微米，長短軸比為5)。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例1相同，從而用具有不飽和鍵的偶合劑表面處理這些顆粒，並製得各個實施例的底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表1。實施例10在實施例10中，用經SiO2表面處理的氧化鈦針狀顆粒(STR-60S，購自SakaiChemicalIndustryCo.，Ltd.，長軸L為0.05微米，短軸S為0.01微米，長短軸比為5)代替實施例1中的氧化鋅。對於具有不飽和鍵的偶合劑，使用鈦酸酯偶合劑(KR55，購自AjinomotoCo.，Inc.)代替甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例1相同，從而用具有不飽和鍵的偶合劑表面處理這些顆粒，並製得底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表1。比較例1-10在比較例1-10中，使用與實施例1相同的方法製備底塗層塗料液，但是金屬氧化物不用上述偶合劑進行表面處理。分別測定剛製得的塗料液和放置90天以後的塗料液的濁度。結果列於表2。表1表2對於剛製得的塗料液的分散性，由表可見，與相應的比較例相比，實施例1-4、6和8-10的塗料液具有更優良的分散性，更低的濁度和更高的透明度。在與實施例5對應的比較例5中，剛製得塗料液就觀察到存在團聚和沉降。對於儲存穩定性，實施例1-10的所有塗料液均基本保持其初始的濁度，而其相應的比較例均產生團聚和沉降或凝膠化。可見使用經具有不飽和鍵的偶合劑表面處理的金屬氧化物可使剛製得的底塗層塗料液具有優良的分散性。另外，這種塗料液具有經長期儲存後分散性穩定的特徵。但是，實施例10的塗料液具有優良的初始分散性，但儲存後濁度上升。要提及的是，大多數比較例塗料液的濁度下降是因為團聚和沉降而產生的各種塗料液的澄清液的透明度增加。實施例11在本實施例中，用烯丙基三甲氧基矽烷(AO567，購自ChissoCorporation)代替實施例1的甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷作為具有不飽和鍵的偶合劑。另外，用粒狀氧化鈦(MT-600B，購自TaycaCorporation，平均粒徑為0.05微米)代替粒狀氧化鋅。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例1相同，從而用具有不飽和鍵的偶合劑表面處理這些顆粒，並製得底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表3。實施例12在本實施例中，用烯丙基三甲氧基矽烷(AO567，購自ChissoCorporation)代替實施例1的甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷作為具有不飽和鍵的偶合劑。另外，用氧化鈦針狀顆粒(MT-150A，購自TaycaCorporation，長軸L為0.1微米，短軸S為0.01微米，長短軸比為10)代替粒狀氧化鋅。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例1相同，從而用具有不飽和鍵的偶合劑表面處理這些顆粒，並製得底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表3。實施例13-15在實施例13中，用乙烯基三乙氧基矽烷(S220，購自ChissoCorporation)代替實施例12的烯丙基三甲氧基矽烷作為具有不飽和鍵的偶合劑；在實施例14中，用1，3-二乙烯基四甲基二矽氮烷(購自ChissoCorporation)代替實施例12的烯丙基三甲氧基矽烷作為具有不飽和鍵的偶合劑，並且在實施例15中，用丁烯基甲基二氯矽烷(購自ChissoCorporation)代替實施例12的烯丙基三甲氧基矽烷作為具有不飽和鍵的偶合劑。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例1相同，從而用具有不飽和鍵的偶合劑表面處理這些顆粒，並製得各個實施例的底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表3。比較例11-15在這些比較例中，使用無不飽和鍵的偶合劑代替相應的實施例11-15中的偶合劑。比較例11使用十二烷基三乙氧基矽烷(購自ChissoCorporation)、比較例12使用甲基三甲氧基矽烷(TSL8113，購自ToshibaSiliconeCo.，Ltd)、比較例13使用(十三氟-1，1，2，2-四氫辛基)三乙氧基矽烷(購自ChissoCorporation)、比較例14使用三甲基氯矽烷(TSL8031，購自ToshibaSiliconeCo.，Ltd)作為含矽試劑。比較例15使用二苯基二氯矽烷(TSL8062，購自ToshibaSiliconeCo.，Ltd)。除了上述變動以外，隨後的步驟與相應的實施例11-15相同，從而用各種無不飽和鍵的偶合劑表面處理這些顆粒，並製得各個實施例的底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表4。實施例16向含有28.7重量份甲醇和53.3重量份1，2-二氯乙烷的混合溶劑中加入17.1重量份氧化鈦針狀顆粒(STR-60N，購自SakaiChemicalIndustryCo.，Ltd.，長軸L為0.05微米，短軸S為0.01微米，長短軸比為5)、0.9重量份共聚物尼龍樹脂(CM8000，購自TorayIndustries，Inc.)作為粘合劑以及0.171重量份(3-丙烯醯氧基丙基)三甲氧基矽烷(購自ChissoCorporation)作為具有不飽和鍵的偶合劑。用油漆振蕩器將形成的混合溶液攪拌分散8小時，製得底塗層塗料液。在本實施例中，偶合劑在底塗層塗料液中作為分散劑。用與實施例1相同的方法測量剛製得的塗料液和放置90天後的塗料液的濁度。結果列於表3。實施例17和18在實施例17中，用長軸L為3-6微米、短軸S為0.05-0.1微米並且長短軸比為30-120(FTL-100，購自IshiharaSangyoKaisha，Ltd.)的氧化鈦針狀顆粒代替實施例16的氧化鈦針狀顆粒；在實施例18中，用長軸L為4-12微米、短軸S為0.05-0.15微米並且長短軸比為27-240(FTL-200，購自IshiharaSangyoKaisha，Ltd.)的氧化鈦針狀顆粒代替實施例16的氧化鈦針狀顆粒。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例16相同，從而製得底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表3。實施例19在本實施例中，用N-甲氧基甲基化的尼龍樹脂(EF-30T，購自TeikokuChemicalIndustriesCo.，Ltd.)代替實施例16中的共聚物尼龍樹脂作為粘合劑。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例16相同，從而製得底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表3。比較例16在本比較例中，用氯乙烯-乙酸乙烯酯-馬來酸共聚物樹脂(EsreckM，購自SekisuiChemicalCo.，Ltd.)代替實施例16中的共聚物尼龍樹脂作為粘合劑。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例16相同，從而製得底塗層塗料液。測量剛製得的塗料液和經90天放置後的塗料液的濁度。結果列於表4。表3表4對於剛製得的塗料液的分散性，由表可見，與相應的比較例相比，實施例11-19的塗料液具有更優良的分散性、更低的濁度和更高的透明度。對於儲存穩定性，實施例11-19的所有塗料液都基本保持其初始的濁度，而相應的比較例塗料液均產生團聚和沉降或凝膠化。因此，由此可見，與含有經無不飽和鍵的偶合劑表面處理的金屬氧化物的底塗層塗料液相比，剛製得的含有經具有不飽和鍵的偶合劑表面處理的金屬氧化物、粘合劑和混合溶劑的塗料液具有更優良的分散性。另外，這些實施例的塗料液經長期儲存後其分散性保持穩定。由此還可見，與使用同樣的偶合劑作為分散劑並使用非醯胺的樹脂作為粘合劑的底塗層塗料液相比，使用具有不飽和鍵的偶合劑作為分散劑並使用醯胺作為粘合劑的底塗層塗料液具有更優良的分散性。實施例20向含有28.7重量份甲醇和53.3重量份1，2-二氯乙烷的混合溶劑中加入1.8重量份氧化鈦針狀顆粒(STR-60N，購自SakaiChemicalIndustryCo.，Ltd，粉末電阻為9×105Ω·cm，長軸L為0.05微米，短軸S為0.01微米，長短軸比為5)、16.182重量份共聚物尼龍樹脂(CM8000，購自TorayIndustries，Inc.)作為粘合劑和0.018重量份甲基丙烯醯氨基(amide)丙基三乙氧基矽烷(購自ChissoCorporation)。將形成的混合溶液用油漆振蕩器攪拌分散8小時，製得底塗層塗料液。在本實施例中，偶合劑在底塗層塗料液中作為分散劑。用烘烤塗膜器(bakerapplicator)將該底塗層塗料液塗覆在100微米厚的鋁製導電基材上，並在110℃用熱空氣乾燥10分鐘，形成幹厚度為3.0微米的底塗層。在乾燥過程中所含有的溶劑基本蒸發，使得底塗層含有氧化鈦針狀顆粒、共聚物尼龍和具有不飽和鍵的偶合劑。此時氧化鈦針狀顆粒佔底塗層總重量的10％，而偶合劑佔氧化鈦重量的1％。為了製造圖1A所示的功能獨立型光電導體，在如此製得的底塗層上形成電荷產生層。更具體地說，將含有1.5重量份由下面化學式1表示的雙偶氮顏料(ChlorodianeBlue)和1.5重量份苯氧基樹脂(PKHH，購自UnionCarbideCorporation)的混合溶液加入97重量份1，2-二甲氧基乙烷中，用油漆振蕩器攪拌分散8小時。這樣製得電荷產生層塗料液。使用烘烤塗膜器將該電荷產生層塗料液塗覆在底塗層上，並在90℃用熱空氣乾燥10分鐘，製得幹厚度為0.8微米的電荷產生層。隨後，在如此形成的電荷產生層上塗覆電荷轉移層。更具體地說，將含有1重量份由下面化學式2表示的腙化合物、0.5重量份聚碳酸酯(Z-200，購自MitsubishiGasChemicalCo.，Ltd.)和0.5重量份聚芳基酯(polyarylate，U-100，購自UnitikaLtd.)加入8重量份二氯甲烷中，並用磁力攪拌器攪拌溶解。這樣製得電荷轉移層塗料液。使用烘烤塗膜器將該電荷轉移層塗料液塗覆在電荷產生層上，並在80℃用熱空氣乾燥1小時，製得幹厚度為20微米的電荷轉移層。將如此製得的功能獨立型光電導體安裝在成象設備(SF-8870，購自夏普公司)上，測量在設備顯影臺中的光電導體的表面電位。更具體地說，測量除曝光過程外在暗處進行處理時光電導體的表面電位VO，消除靜電後光電導體的表面電位VR以及在曝光過程中光電導體空白(white)區域的表面電位VL。根據表面電位VO可評價光電導體的帶電性，根據表面電位VL可評價其敏感度。測量剛製得的光電導體和使用20,000次以後的光電導體的表面電位VO、VR和VL。用於評價的測量是在5℃/20％RH(下面稱為「L/L環境」)的低溫低溼條件下、25℃/60％RH(下面簡稱「N/N環境」)的常溫常溼條件下和35℃/85％RH(下面簡稱「H/H環境」)的高溫高溼條件下進行的。結果列於表5。實施例21-24在這些實施例中，氧化鈦針狀顆粒在底塗層總重量中所佔的比例與實施例20中的10重量％不同。即在實施例21-24，底塗層中氧化鈦所佔的比例分別為50重量％、80重量％、95重量％和99重量％。注意以氧化鈦計具有不飽和鍵的偶合劑所含的比例恆定為1重量％。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例20相同，從而製得底塗層，隨後製得光電導體。分別測定該光電導體的表面電位VO、VR和VL。結果列於表5。實施例25-29在這些實施例中，用N-甲氧基甲基化的尼龍樹脂(EF-30T，購自TeikokuChemicalIndustriesCo.，Ltd.)代替實施例20-24中的共聚物尼龍樹脂作為底塗層粘合劑。除了上述變動以外，隨後的步驟與相應的實施例相同，從而製得底塗層，隨後製得光電導體。分別測定該光電導體的表面電位VO、VR和VL。結果列於表5。比較例17-20在這些比較例中，用經SnO2(摻雜有Sb)表面導電處理的氧化鈦針狀顆粒(FTL-1000，購自IshiharaSangyoKaisha，Ltd，粉末電阻為1×101Ω·cm，長軸L為3-6微米，短軸S為0.05-0.1微米，長短軸比為30-120)代替實施例20-24中使用的氧化鈦針狀顆粒。除了上述變動以外，隨後的步驟與相應的實施例相同，從而製得底塗層，隨後製得光電導體。分別測定該光電導體的表面電位VO、VR和VL。結果列於表6。比較例21-24在這些比較例中，用N-甲氧基甲基化的尼龍樹脂(EF-30T，購自TeikokuChemicalIndustriesCo.，Ltd.)代替比較例17-20中的共聚物尼龍樹脂作為底塗層粘合劑。除了上述變動以外，隨後的步驟與相應的實施例相同，從而製得底塗層，隨後製得光電導體。分別測定該光電導體的表面電位VO、VR和VL。結果列於表6。比較例25儘管實施例20的底塗層含有10重量％比例的氧化鈦針狀顆粒，但是在本比較例中氧化鈦顆粒在底塗層總重量中所含的比例為8重量％。順便說明按氧化鈦的重量計具有不飽和鍵的偶合劑所含的比例為1重量％。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例20相同，從而製得底塗層，隨後製得光電導體。分別測定該光電導體的表面電位VO、VR和VL。結果列於表6。比較例26儘管實施例25的底塗層含有10重量％比例的氧化鈦針狀顆粒，但是在本比較例中氧化鈦顆粒在底塗層總重量中所含的比例為8重量％。順便說明按氧化鈦的重量計具有不飽和鍵的偶合劑所含的比例為1重量％。除了上述變動以外，隨後的步驟與實施例25相同，從而製得底塗層，隨後製得光電導體。分別測定該光電導體的表面電位VO、VR和VL。結果列於表6。表5TiO2ASTR-60N針狀，購自SakaiC.I.C.L.，0.05×0.01微米，甲基丙烯醯氨基(amide)丙基三乙氧基矽烷1重量％粘合劑aCM-8000共聚物尼龍，購自TorayI.I.bEF-30TN-甲氧基甲基化尼龍，購自TeikokuC.I.C.L.表6TiO2CFTL-1000針狀，經SnO2(摻雜有Sb)導電處理，購自IshiharaS.K.L.3-6微米×0.05-0.1微米，甲基丙烯醯氨基丙基三乙氧基矽烷1重量％ASTR-60N針狀，購自SakaiC.I.C.L.，0.05×0.01微米，甲基丙烯醯氨基丙基三乙氧基矽烷1重量％。粘合劑aCM-8000共聚物尼龍，購自TorayI.I.bEF-30TN-甲氧基甲基化尼龍，購自TeikokuC.I.C.L.對於含有氧化鈦針狀顆粒、具有不飽和鍵的偶合劑和由聚醯胺組成的粘合劑的底塗層，如果氧化鈦針狀顆粒佔底塗層總重量的比例為10-99重量％時則可獲得優良的光敏性能。對於含有經表面導電處理的氧化鈦針狀顆粒、具有不飽和鍵的偶合劑和由聚醯胺組成的粘合劑的底塗層，隨著氧化鈦針狀顆粒在底塗層總重量中所佔的比例上升底塗層表面電位VO逐漸下降，經20,000次使用後其表面電位VO嚴重下降，使得底塗層變得幾乎不能帶電。明顯降低氧化鈦針狀顆粒的比例(尤其在L/L環境下)會導致殘留電位上升，從而使光敏度下降。實施例30實施例30使用鼓形基材。該基材由鋁製成，厚度t為1mm，直徑(φ)為80mm，長348mm最大表面粗糙度為0.5微米。用圖2所示的設備對該基材進行浸塗，從而在該基材表面上塗覆實施例12製得的底塗層塗料液。除此之外，隨後的步驟與實施例20相同。從而形成底塗層並在該底塗層上進一步形成電荷產生層和電荷轉移層。如此製得本實施例的光電導體。將其安裝在成象設備(SF-8870，購自夏普公司)上，評價製得的影象的特性。結果列於表7。實施例31-34作為實施例30底塗層塗料液中所含的混合溶劑中的溶劑之一的1，2-二氯乙烷，在實施例31中用1，2-二氯丙烷代替之，在實施例32中用氯仿代替之，在實施例33中用四氫呋喃代替之，在實施例34中用甲苯代替之。這些溶劑分別以表7所示的混合比與作為混合溶劑的另一種溶劑甲醇相混合，形成共沸組合物。除此之外，隨後的步驟與實施例30相同。從而形成底塗層並進而形成各個實施例的光電導體。將製得的光電導體分別安裝在成象設備上，評價製得的影象的特性。結果列於表7。實施例35-39在這些實施例中，底塗層塗料液所含的混合溶劑分別對應於實施例30-34所含的甲醇與其它溶劑以41∶41(重量份)的混合比形成的混合溶劑。除此之外，隨後的步驟與實施例30相同。從而形成底塗層並進而形成各個實施例的光電導體。將製得的光電導體分別安裝在成象設備上，評價製得的影象的特性。結果列於表7。比較例27在本比較例中，用82重量份單一的甲醇溶劑代替實施例30中的混合溶劑。除此之外，隨後的步驟與實施例30相同。從而形成底塗層並進而形成光電導體。將製得的光電導體安裝在成象設備上，評價製得的影象的特性。結果列於表7實施例40-49用相同於相應的實施例30-39的方法製得實施例40-49的底塗層和光電導體，但是使用靜置90天後的實施例30-39的塗料液。將製得的光電導體分別安裝在成象設備上，評價製得的影象的特性。結果列於表8。比較例28用相同於比較例27的方法製得本比較例的底塗層和光電導體，但是使用靜置90天後的比較例27的塗料。將製得的光電導體分別安裝在成象設備上，評價製得的影象的特性。結果列於表8。表7(接下表)分散性評價○優良可接受×團聚不均勻性評價○無不均勻可接受×有些不均勻××嚴重不均勻表8儲存穩定性評價○優良可接受×團聚不均勻性評價○無不均勻可接受×有些不均勻××嚴重不均勻根據實施例30-49和比較例27和28的評價結果，與各自含有由單種組分組成的溶劑的底塗層塗料液的分散性和儲存穩定性相比，各自含有經具有不飽和鍵的偶合劑表面處理的金屬氧化物針狀顆粒、由實施例30-49所示聚醯胺組成的粘合劑和具有共沸組分的混合溶劑的底塗層塗料液具有改進的分散性和儲存穩定性。因此，這些塗料液能穩定地形成無不均勻的塗層厚度的底塗層。另外，使用具有這種底塗層的光電導體能避免影象密度不均勻，並具有優良的影象特性。實施例50向含有28.7重量份甲醇和53.3重量份1，2-二氯乙烷的混合溶劑中加入1.8重量份氧化鈦針狀顆粒(STR-60N，購自SakaiChemicalIndustryCo.，Ltd，長軸L為0.05微米，短軸S為0.01微米，長短軸比為5)、15.84重量份共聚物尼龍樹脂(CM8000，購自TorayIndustries，Inc.)作為粘合劑以及0.36重量份甲基丙烯醯氧基丙基甲氧基矽烷(S710，購自ChissoCorporation)作為具有不飽和鍵的偶合劑。用油漆振蕩器將形成的混合溶液攪拌分散8小時，製得底塗層塗料液。在本實施例中，偶合劑在底塗層塗料液中作為分散劑。用與實施例30相同的方法使用獲得的底塗層塗料液製得底塗層，並隨後製成光電導體。評價光電導體的影象特性。順便說明，氧化鈦針狀顆粒在底塗層總重量中所佔的比例為10重量％，而具有不飽和鍵的偶合劑在氧化鈦重量中所佔的比例為20重量％。評價結果列於表9。實施例51和52用與實施例50相同的方法製得這些實施例的底塗層和光電導體，但是在實施例51中氧化鈦針狀顆粒佔底塗層總重量的比例為30重量％，在實施例52中氧化鈦針狀顆粒佔底塗層總重量的比例為50重量％。分別評價製得的光電導體的影象特性。結果列於表9。實施例53-55用相同於相應的實施例50-52所述的方法製得這些實施例的底塗層和光電導體，但是用N-甲氧基甲基化的尼龍(EF-30T，購自TeikokuChemicalIndustriesCo.，Ltd)作為底塗層粘合劑。評價製得的光電導體的影象特性。結果列於表9。比較例29-31用相同於相應的實施例50-52所述的方法製得這些比較例的底塗層和光電導體，但是使用經AlO3表面處理的粒狀氧化鈦(TTO-55A，購自IshiharaKogyoKaisha，Ltd，平均粒徑為0.03-0.05微米)作為氧化鈦，不使用具有不飽和鍵的偶合劑。分別評價製得的光電導體的影象特性。結果列於表9。比較例32-34用相同於相應的比較例29-31所述的方法製得這些比較例的底塗層和光電導體，但是用N-甲氧基甲基化的尼龍(EF-30T，購自TeikokuChemicalIndustriesCo.，Ltd)作為底塗層粘合劑。分別評價製得的光電導體的影象特性。結果列於表9。實施例56-58用相同於相應的實施例50-52所述的方法製得這些實施例的底塗層塗料液，但是混合溶劑含有43.46重量份甲醇和38.54份1，2-二氯丙烷。分別用形成的底塗層塗料液製備底塗層並隨後製得光電導體。分別評價製得的光電導體的影象特性。結果列於表10。實施例59-61用相同於相應的實施例56-58所述的方法製得這些實施例的底塗層塗料液，但是用N-甲氧基甲基化的尼龍(EF-30T，購自TeikokuChemicalIndustriesCo.，Ltd)作為塗料液粘合劑。分別用形成的底塗層塗料液製備底塗層並隨後製得光電導體。分別評價製得的光電導體的影象特性。結果列於表10。實施例62-64用相同於實施例50的方法製得這些實施例的底塗層塗料液，但是各種塗料液含有9重量份氧化鈦針狀顆粒和9重量份粘合劑，同時在實施例62中塗料液的混合溶劑含有10.33重量份甲醇與71.67重量份氯仿相混合的共沸組分，在實施例63中含有25.50重量份甲醇與56.50重量份四氫呋喃相混合的共沸組分，在實施例64中含有58.30重量份甲醇與23.70重量份甲苯相混合的共沸組分。分別用形成的塗料液製備底塗層並隨後製得光電導體。分別評價製得的光電導體的影象特性。結果列於表10。表9接下表TiO2ASTR-60N未經表面處理的針狀顆粒，購自SakaiC.I.C.L.BTTO-55A經Al2O3表面處理的顆粒，購自IshiharaS.K.L.粘合劑aCM-8000共聚物尼龍樹脂，購自TorayI.I.bEF-30TN-甲氧基甲基化尼龍，購自TeikokuC.I.C.L.偶合劑甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷，購自ChissoC.不均勻性評價○優良可接受×不均勻表10(接下表)TiO2ASTR-60N未經表面處理的針狀顆粒，購自SakaiC.I.C.L.粘合劑aCM-8000共聚物尼龍樹脂，購自TorayI.I.bEF-30TN-甲氧基甲基化尼龍，購自TeikokuC.I.C.L.偶合劑甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷，購自ChissoC.不均勻性評價○優良可接受×不均勻根據實施例50-64和比較例29-34的評價結果，與各自含有經導電錶面處理的金屬氧化物的底塗層塗料液相反，通過使用作為分散劑的偶合劑，各自含有具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物針狀顆粒、由聚醯胺組成的粘合劑以及共沸組分的混合溶劑的塗料液可使底塗層不存在不均勻的塗層厚度。當使用具有這種底塗層的光電導體形成影象時，可獲得無不均勻的影象密度並具有優良影象特性的影象。實施例65在L/L環境和H/H環境評價實施例30光電導體的影象特性。影象特性的評價是將光電導體安裝在成象設備(SF-8870，購自夏普公司)上進行的。結果獲得無不均勻影象密度的優良影象，不均勻的影象密度是由基材的表面缺陷或底塗層的不均勻厚度造成的。另外，即使光電導體經20,000次重複使用後，也能獲得基本上如使用新的光電導體那樣優良的影象。比較例35用與實施例30相同的方法製得光電導體，但是不形成底塗層。與實施例65相同，在L/L環境和H/H環境評價製得的光電導體的影象特性。觀察到形成的影象具有不均勻的影象密度，這種不均勻是由基材的表面缺陷或底塗層厚度的不均勻所造成的。另外，光電導體光敏度下降導致在影象的空白區產生霧翳。光電導體經重複使用後，進一步加劇了光電導體的影象特性的下降。實施例66在本實施例中，製備如圖1B所示的單層型光電導體。用與實施例23相同的方法製得底塗層塗料液，但是使用甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(S710，購自ChissoCorporation)作為具有不飽和鍵的偶合劑。用與實施例30相同的方法(使用浸塗方法)在基材上形成底塗層。隨後，將17.1重量份由下面化學式3所示的苝顏料和17.1重量份聚碳酸酯(z-400，購自MitsubishiGasChemicalCo.，Ltd)溶解在66.8重量份四氫呋喃中。用油漆振蕩器將形成的混合溶液攪拌分散12小時。接著，向該混合溶液中加入17.1重量份由下面化學式4表示的聯苯酚合苯醌和100重量份四氫呋喃。再將其攪拌分散2小時。這樣製得光敏層塗料液。使用浸塗法將製得的光敏層塗料液塗覆在底塗層上並使用熱空氣乾燥法在100℃乾燥1小時。形成幹厚度為15微米的光敏層。用與實施例30相同的方法評價如此製得的單層型光電導體的影象特性。結果獲得優良的影象，不存在由基材表面缺陷或底塗層厚度不均勻造成的不均勻的影象密度。在不偏離本發明精神或基本特徵的情況下可列舉出其它具體的實例。因此所述實施例是說明性的而非限制性的。本發明的範圍由所附的權利要求書而非前面的描述所限定，在所述權利要求的含義和等同的範圍內的所有變化均包括在本發明範圍內。權利要求1.一種電子照相光電導體(1a.1b)，它包括導電基材(2)；形成於所述導電基材上的底塗層(3)；以及形成於所述底塗層上的光敏層(4)，其特徵在於所述底塗層(3)包括具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物和粘合劑。2.如權利要求1所述的電子照相光電導體，其特徵在於所述偶合劑是具有不飽和鍵的含矽試劑。3.如權利要求1所述的電子照相光電導體，其特徵在於所述偶合劑是具有不飽和鍵的矽烷偶合劑。4.如權利要求1所述的電子照相光電導體，其特徵在於所述金屬氧化物預先經偶合劑表面處理。5.如權利要求1所述的電子照相光電導體，其特徵在於所述金屬氧化物是具有針狀的顆粒狀氧化鈦。6.如權利要求5所述的電子照相光電導體，其特徵在於所述金屬氧化物具有針狀顆粒的形狀，其短軸為0.001-1微米，長軸為0.002-100微米，長短軸比的平均值為1.5-300。7.如權利要求1所述的電子照相光電導體，其特徵在於所述金屬氧化物在底塗層(3)的總重量中所佔的比例為10-99重量％。8.如權利要求1所述的電子照相光電導體，其特徵在於所述粘合劑包括可溶解於有機溶劑中的聚醯胺樹脂。9.如權利要求1所述的電子照相光電導體，其特徵在於所述金屬氧化物是未經表面導電處理的氧化鈦。10.一種包括導電基材(2)、形成於所述導電基材上的底塗層(3)和形成於所述底塗層上的光敏層(4)的電子照相光電導體(1a，1b)的製造方法，其特徵在於所述底塗層(3)是使用含有具有不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物、粘合劑和溶劑的底塗層塗料液製得的。11.如權利要求10所述的電子照相光電導體的製造方法，其特徵在於所述金屬氧化物是預先經偶合劑表面處理的針狀顆粒狀氧化鈦，所述溶劑是含有選自具有1-4個碳原子的低級醇的溶劑和選自二氯甲烷、氯仿、1，2-二氯乙烷、1，2-二氯丙烷、甲苯和四氫呋喃的溶劑的混合溶劑，所述粘合劑是可溶解於所述混合溶劑的聚醯胺樹脂。12.如權利要求10所述的電子照相光電導體的製造方法，其特徵在於所述金屬氧化物是針狀顆粒狀氧化鈦，所述偶合劑在底塗層塗料液中作為分散劑，所述溶劑是含有選自具有1-4個碳原子的低級醇的溶劑和選自二氯甲烷、氯仿、1，2-二氯乙烷、1，2-二氯丙烷、甲苯和四氫呋喃的溶劑的混合溶劑，所述粘合劑是可溶解於所述混合溶劑的聚醯胺樹脂。全文摘要公開一種電子照相光電導體及其製造方法。通過用含有帶不飽和鍵的偶合劑、金屬氧化物、粘合劑和混合溶劑的底塗層塗料液,在基材和光敏層之間形成底塗層。偶合劑增加金屬氧化物對粘合劑的親和力,使塗料液不凝膠化或使金屬氧化物不團聚,並使塗料液具有均勻性和優良的儲存穩定性。具有這種均勻底塗層的光電導體可被均勻地帶電至預定電位,在操作環境和長期重複使用後殘留電位低,穩定性優良,因此能穩定地提供高的光敏度。文檔編號G03G5/06GK1203383SQ9811550公開日1998年12月30日申請日期1998年6月23日優先權日1997年6月23日發明者片山聰,寺本高広,森本清文,町野賢,森田龍廣,金澤朋子申請人:夏普株式會社