清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置製造方法
2023-06-19 07:37:06 1
清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型屬於清洗設備【技術領域】，涉及一種清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置。它包括電機驅動機構，所述的電機驅動機構的輸出端連接渦輪組件，所述的渦輪組件嚙合蝸杆組件，所述的蝸杆組件包括中空的蝸杆，蝸杆的一端密封連接具有進水口的旋轉軸組件，另一端可拆卸的連接噴杆，所述的噴杆的端部密封且噴杆的側壁設有若干噴嘴。本實用新型結構簡單，能進行360°旋轉清洗，清洗效率高、速度快。
【專利說明】
【技術領域】
[0001] 本實用新型屬於清洗設備【技術領域】，涉及一種清洗用的高壓水噴杆裝置，尤其涉 及一種清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置。 清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置
【背景技術】
[0002] 多晶娃（polycrystalline silicon)有灰色金屬光澤，密度 2. 32-2. 34g/cm3。烙 點14KTC。沸點2355°C。溶於氫氟酸和硝酸的混酸中，不溶於水、硝酸和鹽酸。硬度介於 鍺和石英之間，室溫下質脆，切割時易碎裂。加熱至800°C以上即有延性，1300°C時顯出明 顯變形。常溫下不活潑，高溫下與氧、氮、硫等反應。高溫熔融狀態下，具有較大的化學活潑 性，能與幾乎任何材料作用。具有半導體性質，是極為重要的優良半導體材料，但微量的雜 質即可大大影響其導電性。電子工業中廣泛用於製造半導體收音機、錄音機、電冰箱、彩電、 錄像機、電子計算機等的基礎材料。由乾燥矽粉與乾燥氯化氫氣體在一定條件下氯化，再經 冷凝、精餾、還原而得。
[0003] 多晶矽的生產技術主要為改良西門子法和矽烷法，無論是哪種方法，都需要將多 晶矽進行冷卻結晶沉澱，在這個過程中，需要用到反應釜或流化床進行結晶，目前以使用反 應釜結晶較多。結晶完成後，需要對反應釜進行清洗，如清洗不完全，則會導致下次結晶時 雜質含量較多或結晶不完全。現有的清洗工序通常是人工用水槍進行衝洗，衝洗時間較長， 且無法對反應釜內部進行360°衝洗，因此反應釜清洗不完全導致的質量事故時有發生。
[0004] 人們經過不斷的的探索，提出了各種各樣的解決方案，如中國專利文獻公開了一 種噴杆結構[申請號：201220462149. 8]，包括進水座、調整座、固定螺母以和噴嘴套，所述 進水座依序包括連接段、止擋段、接合段與外螺紋段，所述連接段與所述止擋段之內部軸向 貫穿有一螺孔，所述接合段徑向設有一凹槽，所述凹槽內設有一彈性件與一球體，所述外螺 紋段軸向設有第一容槽、第二容槽與第三容槽，所述第一容槽、第二容槽與第三容槽分別透 過第一水道、第二水道與第三水道連通螺孔，所述第一容槽內設有第一滾珠，所述第二容槽 內設有第二滾珠等。上述方案通過第一定位槽、第二定位槽、第三定位槽配合球體可使噴嘴 套定位，以快速切換不同的噴灑模式，且噴嘴套外緣之第一凸緣、第二凸緣與第三凸緣，可 引導使用者調整至需要之噴灑模式，又噴嘴套、調整座與進水座互相搭配，當轉動噴嘴套則 會同時帶動調整座旋轉，並使水從第一噴嘴、第二噴嘴或第三噴嘴噴出，進而達到簡便變換 不同噴灑模式和降低整體結構複雜度之功效。
[0005] 但上述方案的出水口仍然僅限於端部，無法實現360°的快速清洗，當用於多晶矽 反應釜清洗時，清洗效率較低。
【發明內容】
[0006] 本實用新型的目的是針對上述問題，提供一種清洗效率高、清洗效果好的清洗多 晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置。
[0007] 為達到上述目的，本實用新型採用了下列技術方案：一種清洗多晶矽反應釜的高 壓旋轉噴杆裝置，包括電機驅動機構，所述的電機驅動機構的輸出端連接渦輪組件，所述的 渦輪組件嚙合蝸杆組件，所述的蝸杆組件包括中空的蝸杆，蝸杆的一端密封連接具有進水 口的旋轉軸組件，另一端可拆卸的連接噴杆，所述的噴杆的端部密封且噴杆的側壁設有若 幹噴嘴。
[0008] 在上述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置中，所述的電機驅動機構通過減 速機連接渦輪組件，所述的渦輪組件包括與減速機的輸出軸固接的渦輪，渦輪與蝸杆嚙合。
[0009] 在上述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置中，所述的旋轉軸組件包括中空 的旋轉軸，旋轉軸的一端設有進水口，旋轉軸遠離進水口的另一端與蝸杆緊密接觸且旋轉 軸與蝸杆的接觸部外面套設有密封函組件。
[0010] 在上述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置中，所述的旋轉軸和蝸杆外還套 設有機座套，且旋轉軸的進水口和蝸杆的一端延伸出機座套外，蝸杆延伸出機座套外的一 端通過法蘭組件連接噴杆。
[0011] 在上述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置中，所述的噴杆的端部用堵頭密 封。
[0012] 在上述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置中，所述的減速機通過連接件與 機座套固定連接，且減速機的輸出軸與連接件活動連接，所述的噴杆與連接件活動連接。
[0013] 與現有的技術相比，本實用新型的優點在於：結構簡單，能進行360°旋轉清洗， 清洗效率高、速度快。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014] 圖1是本實用新型提供的結構示意圖。
[0015] 圖中：電機驅動機構1、渦輪組件2、渦輪21、蝸杆組件3、蝸杆31、旋轉軸組件4、旋 轉軸40、進水口 41、噴杆5、噴嘴51、堵頭52、減速機6、密封函組件7、機座套8、法蘭組件9、 連接件10。
【具體實施方式】
[0016] 下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型做進一步詳細的說明。
[0017] 如圖1所示，一種清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置，包括電機驅動機構1， 電機驅動機構1包括電機，所述的電機驅動機構1的輸出端連接渦輪組件2,所述的渦輪組 件2嚙合蝸杆組件3,當電機驅動渦輪組件2轉動時，與渦輪組件2嚙合的蝸杆組件3隨之 轉動，且渦輪組件2與蝸杆組件3的旋轉面垂直，所述的蝸杆組件3包括中空的蝸杆31，蝸 杆31的一端密封連接具有進水口 41的旋轉軸組件4,另一端可拆卸的連接噴杆5,所述的 噴杆5的端部密封且噴杆5的側壁設有若干噴嘴51，當然也可以不設噴嘴51而直接在噴 杆5上開設若干小孔，優選的，噴嘴51設置在噴杆5的側壁上且噴嘴51不在同一直線上， 這樣，當噴嘴51噴出高壓水時，具有較大的覆蓋面。
[0018] 在工作時，電機驅動機構1驅動渦輪組件2轉動，並驅動蝸杆組件3轉動，由於蝸 杆組件3與噴杆5連接，因此噴杆5也開始轉動，將進水口 41連接高壓水發生器，高壓水依 次通過旋轉軸組件4、蝸杆組件3和噴杆5,並從噴嘴51噴出高壓水，由於噴杆5是轉動的， 因此可以對多晶矽反應釜的各個角度進行清洗，從而將多晶矽反應釜徹底清洗乾淨。在上 述過程中，旋轉軸組件4是靜止的，蝸杆組件3與旋轉軸組件4密封連接，因此高壓水不會 從旋轉軸組件4與蝸杆組件3的連接處溢出。
[0019] 電機驅動機構1通過減速機6連接渦輪組件2，減速機6將電機驅動機構1的轉速 變慢，防止轉動過快導致漏水或燒壞電機驅動機構1，所述的渦輪組件2包括與減速機6的 輸出軸固接的渦輪21，渦輪21與蝸杆31嚙合。
[0020] 旋轉軸組件4包括中空的旋轉軸40,旋轉軸40的一端設有進水口 41，旋轉軸40 遠離進水口 41的另一端與蝸杆31緊密接觸且旋轉軸40與蝸杆31的接觸部外面套設有密 封函組件7,密封函組件7可以採用夾套加密封圈的方式進行密封，而作為優選的，旋轉軸 40與密封函組件7的接觸面採用搪塑工藝進行處理，從而進一步提高密封效果，當然，也可 以採用四氟乙烯材料進行密封。
[0021] 旋轉軸40和蝸杆31外還套設有機座套8,機座套8起到固定作用，從而可以將整 個裝置固定在某個位置，便於更好的進行清洗作業，且旋轉軸40的進水口 41和蝸杆31的 一端延伸出機座套8外，蝸杆31延伸出機座套8外的一端通過法蘭組件9連接噴杆5。減 速機6通過連接件10與機座套8固定連接，且減速機6的輸出軸與連接件10活動連接，所 述的噴杆5與連接件10活動連接，連接件10可採用法蘭件，便於採購和替換。
[0022] 如前所述，噴杆5的端部是密封的，作為一種優選的方案，噴杆5的端部用堵頭52 密封，堵頭52與噴杆5可拆卸的連接，便於拆卸清洗噴杆5內部。
[0023] 本實用新型在清洗作業時，通常將噴杆5伸入到多晶矽反應釜內部，通過噴杆5的 轉動，噴嘴51沿噴杆5的周向轉動，實現噴嘴51的出水面的360°覆蓋，當然，也可以通過 噴杆5的上下或左右移動，對反應釜內部的死角進行重點清洗。本實用新型結構簡單，但在 清洗時噴杆能進行360°旋轉，從而完成對多晶矽反應釜的徹底清洗，清洗作業效率高、效 果好，清洗成本低。
[0024] 本文中所描述的具體實施例僅僅是對本實用新型精神作舉例說明。本實用新型所 屬【技術領域】的技術人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或採用類似 的方式替代，但並不會偏離本實用新型的精神或者超越所附權利要求書所定義的範圍。
[0025] 儘管本文較多地使用了電機驅動機構1、渦輪組件2、渦輪21、蝸杆組件3、蝸杆31、 旋轉軸組件4、旋轉軸40、進水口 41、噴杆5、噴嘴51、堵頭52、減速機6、密封函組件7、機座 套8、法蘭組件9、連接件10等術語，但並不排除使用其它術語的可能性。使用這些術語僅 僅是為了更方便地描述和解釋本實用新型的本質；把它們解釋成任何一種附加的限制都是 與本實用新型精神相違背的。
【權利要求】
1. 一種清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置，包括電機驅動機構（1)，所述的電機 驅動機構（1)的輸出端連接渦輪組件（2)，所述的渦輪組件（2)嚙合蝸杆組件（3)，其特徵 在於，所述的蝸杆組件（3)包括中空的蝸杆（31)，蝸杆（31)的一端密封連接具有進水口 (41)的旋轉軸組件（4)，另一端可拆卸的連接噴杆（5)，所述的噴杆（5)的端部密封且噴杆 (5) 的側壁設有若干噴嘴（51)。
2. 根據權利要求1所述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置，其特徵在於，所述 的電機驅動機構（1)通過減速機（6)連接渦輪組件（2)，所述的渦輪組件（2)包括與減速機 (6) 的輸出軸固接的渦輪（21)，渦輪（21)與蝸杆（31)嚙合。
3. 根據權利要求2所述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置，其特徵在於，所述 的旋轉軸組件（4)包括中空的旋轉軸（40)，旋轉軸（40)的一端設有進水口（41)，旋轉軸 (40)遠離進水口（41)的另一端與蝸杆（31)緊密接觸且旋轉軸（40)與蝸杆（31)的接觸部 外面套設有密封函組件（7)。
4. 根據權利要求3所述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置，其特徵在於，所述 的旋轉軸（40)和蝸杆（31)外還套設有機座套（8)，且旋轉軸（40)的進水口（41)和蝸杆 (31)的一端延伸出機座套（8)外，蝸杆（31)延伸出機座套（8)外的一端通過法蘭組件（9) 連接噴杆（5)。
5. 根據權利要求1或2或3或4所述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置，其特 徵在於，所述的噴杆（5)的端部用堵頭（52)密封。
6. 根據權利要求2或3或4所述的清洗多晶矽反應釜的高壓旋轉噴杆裝置，其特徵在 於，所述的減速機（6)通過連接件（10)與機座套（8)固定連接，且減速機（6)的輸出軸與 連接件（10)活動連接，所述的噴杆（5)與連接件（10)活動連接。
【文檔編號】B05B3/10GK203899791SQ201420275392
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年5月26日 優先權日:2014年5月26日
【發明者】繩欽國 申請人:浙江德清寶豐射流系統工程有限公司