真空蒸餾塔中具有緩衝功能的低塔阻分布器的製作方法

2023-06-04 13:27:26 1

專利名稱：真空蒸餾塔中具有緩衝功能的低塔阻分布器的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種化工物料真空蒸餾塔的器件，具體是涉及一種應用於真 空蒸餾塔的噴淋液分布器，或稱噴淋器。
背景技術：
化工物料的真空蒸餾塔由於壓力較低，對塔體上下的壓力差非常敏感。如果 塔內氣體流動的阻力大，使蒸餾塔頂部和底部壓差偏大，往往是塔釜溫度偏高， 釜液過熱變質的主要原因之一。
另外，化工物料的真空蒸餾塔由於直徑較大，因此對其內部的精餾填料的均 勻噴淋要求就更高。這一均勻的含義不但是指空間上的均勻，而且也指時間上的 均勻，即要求噴淋液體的流量穩定而且不間斷。
目前， 一般用於噴淋的噴淋液分布器往往設計成樹枝狀，這將佔居蒸餾塔中 過多的截面積，從而增加塔內氣體流動的阻力，使蒸餾塔操作指標變壞。而且， 這類分布器的噴淋液在整個塔的截面積上的分布也不容易均勻。
此外，由於精餾塔上噴淋的液體物料往往是由活柱泵、隔膜泵、活塞泵等往 復性、周期性的泵注入，或是前置精餾塔的塔釜通過液位調節閥排放而來，因 此，進入液體分布器的物料流量常常是間歇性或不穩定甚至是間斷的。目前通用 的液體分布器還無法解決噴淋物料流量不穩定的問題。
實用新型內容
本實用新型的目的在於克服現有技術中的不足，提供一種可應用於真空蒸餾 塔的低塔阻、分布均勻且具有流量緩衝功能的的噴淋液分布器(或稱噴淋器)。
本實用新型中的真空蒸餾塔中具有緩衝功能的低塔阻分布器，為高環形，附 貼安裝在塔壁內側；其上端開口，下端有底板，內外壁間形成一個上大下小的環 形空間儲液的空腔；該空腔處的塔壁上設有物料進口；內壁的上口是塔內氣流的 通道，上口的直徑為塔內徑的80 90%;分布器內壁和底板上開有噴淋液孔，內 壁上的噴淋液孔從上至下逐層環狀分布，內壁的噴淋液孔上安裝有噴嘴。
分布器的高度是真空蒸餾塔內徑的0. 5 2倍。
該分布器具有較大的容積和高度；當採用周期性排液的泵，例如活柱泵、隔 膜泵、活塞泵等向塔注入物料，或者是前置精餾塔塔釜間歇性或不穩定排液時， 進入分布器中的液體可以在分布器中滯留而流量得到緩衝，使噴淋液流量穩定和 不間斷。
本實用新型的分布器(參考附圖)，具有較大的高度，附貼在蒸餾塔壁內， 其外壁即塔壁，內壁是上小下大的錐臺面，內壁的上口是塔內氣流的通道，上口 的直徑可以設計為塔內徑的80 90%，因此氣流阻力較小；內外壁間形成上大下
小的環形空間，其上端開口，下端有底板。分布器的內外壁和底板之間構成一個 儲液的空腔，該空腔處的塔壁上設有物料進口。
分布器的內壁和底板上開有噴淋液孔，內壁的孔上安裝有噴嘴，細管狀的噴 嘴從上至下逐層環狀分布於內壁上。噴嘴的長度按一定規律設計，使分布器在不 同液面高度時都能均勻噴淋到塔的整個面積；噴嘴焊接或螺接於分布器的內壁 上，噴嘴具有向下彎曲的末端。
與現有技術相比，本實用新型的有益效果
本實用新型的分布器設計成高環形，附貼安裝在塔壁內側，使得塔內氣流通 道仍保留著較大的截面積，上升氣體流動通暢，阻力較低；分布器的儲液空腔具 有較大的容積，可以容納更多的液體以緩衝流量的變化，使噴淋液流量穩定和不 間斷。分布器在不同高度分布了按預定設計的不同長度的噴嘴，使得噴淋液在不 同流量時都能均勻地噴到塔內各點。


圖l是本實施例中分布器安裝示意圖2是本實施例中圖1中A-A向噴嘴和噴淋液孔的位置分布剖視圖3是本實施例中噴嘴安裝示意圖4是本實施例中圖3中B-B向螺紋連接剖視圖。
圖中1-分布器內壁，2-分布器內腔，3-底板，4-塔壁，5-噴嘴，6-物料進 口， 7-分布器外壁，8-底板上的噴淋液孔。
具體實施方式
參考附圖，下面進行詳細描述
本實施例中的分布器(見圖l)，包括一個上口比下口小、呈圓錐臺面狀的 內壁，內壁的上口直徑等於塔徑的90%左右；分布器內外壁和底板之間構成一個
儲液的內腔，上端不封口，內腔處的外壁上設有物料進口；底板上有一系列噴淋 液孔噴灑物料；若干噴嘴從上至下逐層環狀分布於內壁上，噴嘴的長度按一定規 律分布，使物料在不同流量，即內腔中的液位不同時，均能均勻噴灑到塔的截面 上；噴嘴具有向下彎曲的末端。
本實用新型中分布器內壁還可以是上口與下口大小相同，呈圓柱狀。
本實施例中，噴嘴是螺接於內壁上的(見圖3)，拆卸方便，易於更換。也 可以採用焊接的固定方式。噴嘴長度視需要而定
最後，還需要指出的是，以上列舉的僅是本實用新型的具體實施例。顯然， 本實用新型不限於以上實施例，還可以有許多變形。本領域的普通技術人員能從 本實用新型公開的內容直接導出或聯想到的所有變形，均應認為是本實用新型的 保護範圍。
權利要求1、一種真空蒸餾塔中具有緩衝功能的低塔阻分布器，其特徵在於，分布器為高環形，附貼安裝在塔壁內側；其上端開口，下端有底板，內外壁間形成一個上大下小的環形空間儲液的空腔；該空腔處的塔壁上設有物料進口；內壁的上口是塔內氣流的通道，上口的直徑為塔內徑的80～90％；分布器內壁和底板上開有噴淋液孔，內壁上的噴淋液孔從上至下逐層環狀分布，內壁的噴淋液孔上安裝有噴嘴。
2、 根據權利要求1所述的具有緩衝功能的低塔阻分布器，其特徵在於， 分布器的高度是真空蒸餾塔內徑的0.5 2倍。
專利摘要本實用新型涉及一種化工物料真空蒸餾塔的器件，旨在提供一種應用於真空蒸餾塔的噴淋液分布器或稱噴淋器。本實用新型中低塔阻分布器為高環形，附貼安裝在塔壁內側；其上端開口，下端有底板，內外壁間形成一個上大下小的環形空間儲液的空腔；該空腔處的塔壁上設有物料進口；內壁的上口是塔內氣流的通道，上口的直徑為塔內徑的80～90％；分布器內壁和底板上有按工藝要求設計的不同大小、不同長短、不同方向和一定分布規律的孔或噴嘴。分布器使得塔內氣流通道仍保留著較大的截面積，上升氣體流動通暢，阻力較低，可以容納更多的液體以緩衝流量的變化，使噴淋液流量穩定和不間斷，噴嘴設計使得噴淋液在不同流量時都能均勻地噴到塔內各點。
文檔編號B01D3/10GK201189407SQ20072018368
公開日2009年2月4日 申請日期2007年9月29日 優先權日2007年9月29日
發明者吳兆立 申請人:吳兆立