感光膜質量監測系統的製作方法

2023-06-11 15:45:01

感光膜質量監測系統的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開一種感光膜質量監測系統，質量檢測系統包括中央控制模塊、光源、光密度尺和定位銷控制器，中央控制模塊分別控制光源、光密度尺和定位銷控制器工作。本實用新型通過光密度尺控制曝光時的光通量，並配合環境監測及控制，使感光膜的質量監測在最優的環境以及最佳的光通量的條件下進行，使質量監測數據最為準確。
【專利說明】
感光膜質量監測系統

【技術領域】
[0001]本實用新型公開一種感光膜檢測系統，特別是一種感光膜質量監測系統。

【背景技術】
[0002]感光膜也稱菲林膜或菲林紙，是以塑料透明薄膜為片基，在其上塗布一定厚度的感光乳劑而製成的，感光膜的產品顏色一般有紅、藍、綠三種，其主要用於間接法和直間法製版，是電路板以及其他一些板材生產過程中不可缺少的東西。感光膜通常以其所塗布的感光膠厚度分為I?4號四種規格:1號感光膜膠層厚度為0.01?0.014mm,主要用於印刷
0.1mm左右精細線條的絲網印版；2號感光膜膠層厚度度為0.018?0.022mm，主要用於大於0.1mm的線條絲網印版；3號感光膜膠層厚度為0.035?0.04mm，主要用於印刷電路板、具有立體感的面版、標牌等的絲網印版；4號感光膜膠層厚度為0.05?0.06mm,主要用於墨膜較厚的印件的絲網印版。
[0003]感光膜曝光即在紫外光照射下，光引發劑吸收了光能分解成游離基，游離基再引發光聚合單體進行聚合交聯反應，反應後形成不溶於稀鹼溶液的體型大分子結構。影響曝光成像質量的因素除幹膜光致抗蝕劑的性能外，光源的選擇、曝光時間(曝光量)的控制等都是影響曝光成像質量的重要因素，因為感光膜曝光的要求條件非常嚴苛，所以，在感光膜質量監測時，要求的監測環境也非常嚴格，常規的曝光機產生的曝光環境往往不能滿足要求。


【發明內容】

[0004]針對上述提到的現有技術中的曝光機不能滿足感光膜曝光要求的缺點，本實用新型提供一種新的感光膜質量監測系統，其採用特殊的監測系統設計，可有效的控制感光膜的曝光量以及曝光環境，使感光膜的曝光質量監測達到最好。
[0005]本實用新型解決其技術問題採用的技術方案是:一種感光膜質量監測系統，質量檢測系統包括中央控制模塊、光源、光密度尺和定位銷控制器，中央控制模塊分別控制光源、光密度尺和定位銷控制器工作。
[0006]本實用新型解決其技術問題採用的技術方案進一步還包括:
[0007]所述的光源採用鎬燈、高壓汞燈或碘鎵燈。
[0008]所述的質量檢測系統還包括溫度傳感器、加熱器和製冷器，溫度傳感器將溫度值輸出給中央控制模塊，中央控制模塊控制加熱器和製冷器工作。
[0009]所述的溫度傳感器採用熱敏電阻。
[0010]所述的加熱器採用電加熱器。
[0011]所述的質量檢測系統還包括溼度傳感器、乾燥器和加溼器，溼度傳感器將溼度值輸出給中央控制模塊，中央控制模塊控制乾燥器和加溼器工作。
[0012]所述的質量檢測系統還包括光密度儀，光密度儀連接在中央控制模塊上。
[0013]本實用新型的有益效果是:本實用新型通過光密度尺控制曝光時的光通量，並配合環境監測及控制，使感光膜的質量監測在最優的環境以及最佳的光通量的條件下進行，使質量監測數據最為準確。
[0014]下面將結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型做進一步說明。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1為本實用新型系統方框圖。

【具體實施方式】
[0016]本實施例為本實用新型優選實施方式，其他凡其原理和基本結構與本實施例相同或近似的，均在本實用新型保護範圍之內。
[0017]請參看附圖1，本實用新型主要包括中央控制模塊、光源、光密度尺和定位銷控制器，中央控制模塊為本實用新型的核心模塊，對其他模塊的工作起到控制作用，本實施例中，中央控制模塊可採用MCU。光源連接在中央控制模塊上，中央控制模塊控制光源工作，本實施例中，光源可採用鎬燈、高壓汞燈或碘鎵燈等，由感光膜的光譜吸收曲線表明，感光膜的光譜吸收區為光波波長在310—440nm (微米)，鎬燈、高壓汞燈以及碘鎵燈在310—440nm波長範圍均有較大的相對輻射強度，光源的光譜發射主峰與感光膜的光譜吸收主峰能相重疊或大部分重疊，匹配良好，曝光效果最佳，是幹膜曝光較理想的光源。光密度尺連接在中央控制模塊上，中央控制模塊控制光密度尺工作，使光源發出的光經光密度尺照射到感光膜上，對感光膜進行曝光，本實施例中，光密度尺可採用瑞斯頓幟(iston) 17級光密度尺或斯圖費(stouffer) 21級光密度尺。瑞斯頓17級光密度尺第一級的光密度為0.5，以後每級以光密度差AD為0.05遞增，到第17級光密度為1.30。斯圖費21級光密度尺第一級的光密度為0.05，以後每級以光密度差Λ D為0.15遞增，到第21級光密度為3.05。在用光密度尺進行曝光時，光密度小的(即較透明的)等級，幹膜接受的紫外光能量多，聚合的較完全，而光密度大的(即透明程度差的)等級，幹膜接受的紫外光能量少，不發生聚合或聚合的不完全，在顯影時被顯掉或只留下一部分。由於環境條件將直接影響印製板的尺寸精度和圖像重合度，照相底片尺寸嚴重脹大或縮小都會使照相底版圖像與印製板的鑽孔發生偏離等問題，因此，在感光膜曝光時，採用定位銷將其固定，本實施例中，定位銷控制器連接在中央控制模塊上，通過中央控制模塊控制定位銷控制器工作，本實施例中採用的定位方法是:首先將正面、反面兩張底版藥膜相對在顯微鏡下對準；將對準的兩張底版用軟片衝孔器於底版有效圖像外任衝兩個定位孔，把衝好定位孔的底版任取一張去編鑽孔程序，便能得到同時鑽出元件孔及定位孔的數據帶，一次性鑽出元件孔及定位孔，印製板金屬化孔及預鍍銅後，便可用定位銷進行定位曝光。本實施例中，在中央控制模塊上還連接有計時器，用於對曝光的時間進行計時。
[0018]本實施例中，在中央控制模塊上連接有溫度傳感器、加熱器和製冷器，溫度傳感器用於檢測感光膜曝光的環境溫度，並將溫度值反饋給中央控制模塊，本實施例中，溫度傳感器可採用熱敏電阻等。本實施例中的加熱器可採用電加熱器，製冷器可採用風冷或水冷製冷器，曝光工作時，通過溫度傳感器檢測工作環境溫度，同時控制加熱器或製冷器工作，使感光膜曝光在恆溫環境下進行，以最大程度上保證曝光的準確。
[0019]本實施例中，在中央控制模塊上連接有溼度傳感器、乾燥器和加溼器，溼度傳感器用於檢測感光膜曝光的環境溼度，並將溼度值反饋給中央控制模塊，曝光工作時，通過溼度傳感器檢測工作環境溼度，同時控制乾燥器或加溼器工作，使感光膜曝光在恆溼環境下進行，以最大程度上保證曝光的準確。
[0020]本實施例中，在中央控制模塊上連接有光密度儀，通過光密度儀可檢測感光膜處的光密度，並將其反饋給中央控制模塊，並通過中央控制模塊控制光密度尺通過，使曝光量準確。
[0021]本實用新型通過光密度尺控制曝光時的光通量，並配合環境監測及控制，使感光膜的質量監測在最優的環境以及最佳的光通量的條件下進行，使質量監測數據最為準確。
【權利要求】
1.一種感光膜質量監測系統，其特徵是:所述的質量檢測系統包括中央控制模塊、光源、光密度尺和定位銷控制器，中央控制模塊分別控制光源、光密度尺和定位銷控制器工作。
2.根據權利要求1所述的感光膜質量監測系統，其特徵是:所述的光源採用鎬燈、高壓汞燈或碘鎵燈。
3.根據權利要求1所述的感光膜質量監測系統，其特徵是:所述的質量檢測系統還包括溫度傳感器、加熱器和製冷器，溫度傳感器將溫度值輸出給中央控制模塊，中央控制模塊控制加熱器和製冷器工作。
4.根據權利要求3所述的感光膜質量監測系統，其特徵是:所述的溫度傳感器採用熱敏電阻。
5.根據權利要求3所述的感光膜質量監測系統，其特徵是:所述的加熱器採用電加熱器。
6.根據權利要求1所述的感光膜質量監測系統，其特徵是:所述的質量檢測系統還包括溼度傳感器、乾燥器和加溼器，溼度傳感器將溼度值輸出給中央控制模塊，中央控制模塊控制乾燥器和加溼器工作。
7.根據權利要求1所述的感光膜質量監測系統，其特徵是:所述的質量檢測系統還包括光密度儀，光密度儀連接在中央控制模塊上。
【文檔編號】G05D27/02GK203965977SQ201420297507
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年6月5日 優先權日:2014年6月5日
【發明者】羅躍清, 劉峰, 劉罡 申請人:深圳惠美亞科技有限公司