一種春石斛花期調控方法
2023-06-12 02:52:31
專利名稱：一種春石斛花期調控方法
技術領域：
本發明涉及一種春石斛花期調控方法。
背景技術：
春石斛作為盆栽花卉，是洋蘭中繼蝴蝶蘭和大花蕙蘭後出現的又一洋蘭新品。具有較高觀賞價值，觀賞期較長。因此，春節前的鮮花市場上，春石斛成了洋蘭中的佼佼者。春石斛蘭在開花期，抗低溫能力特別強，喜歡光照、乾燥。由於它花色豔麗，適合盆栽，被很多企業看好。認為它是繼蝴蝶蘭、大花蕙蘭之後，最有希望的洋蘭商業品種。
春石斛為蘭科石斛屬植物，多年生常綠或落葉附生草本，莖稱為假鱗莖，肉質呈竹節狀。莖長度依品種不同在25～90cm左右，莖節間長2～5cm，莖節中部粗壯，主要貯存水分和養分。葉互生，總狀花序2～5朵，由每節的腋芽形成。花大而豔麗，花朵直徑6～10cm，花期長達1～2個月。自冬春萌發的新芽生長至秋末冬初逐漸停止，出現終止葉。在莖基部可萌發1～4個新芽成為下一代新莖。而老莖(不論高度)在感受低溫之後，除基部2～4個芽外，上部膨大的節間腋芽，均可能發育成花芽或成為高位芽。
春石斛花芽分化要求低溫在13℃以下，比蝴蝶蘭低，在我國夏、秋季高溫地區難以達到。自然條件下必須利用海拔800m以上的高山才能做到。其次，春石斛花芽分化後，遇25℃以上高溫極易發生「花芽逆轉」現象，而變成葉芽，在生產栽培中較難掌握。
春石斛產業在日本發展較為成熟，我國在最近的5～6年間，品種引進和發展的力度逐年增加。雖然有大的市場和利潤空間，但也存在較大的難點，主要是控花技術較難。目前許多公司都在投產石斛蘭，但是石斛的生產技術很低，同時存在栽培和催花的技術門檻，導致形成的石斛成品質量差，根本無法上市。技術則一直未得到提高，而國外對我們進行技術封鎖。由於種種原因，我國各大蘭花生產企業至今一直沒有拿出批量的高質量春石斛產品，更多的企業則處於觀望狀態。目前，我國已經有花卉公司大量投產，但是由於催花技術不過關，開花提前、滯後的現象多有發生。同時技術不過關，催花後花朵質量下降，導致花期縮短。所以如何來解決催花問題，提高石斛的品質，是當前花卉產業和石斛批量盆花生產中，急需注意和解決的問題。
一般在春石斛的預計花期前2個月，停止使用肥水，使用低溫進行處理春石斛的假鱗莖。不使用生長調節劑或者單使用GA3進行處理，在前期栽培技術好時，催花效果相對較好。但是始終存在花期不集中，次品比例較高，導致賣花不獲利。GA3隻可以提前花期幾天，對於增加花芽數量的貢獻並不大。
同時，現有的技術，是通過栽培技術和環境條件的調節，進行花期控制。在夜間，春石斛處於低溫環境中，白天升高溫度，連續進行1～2個月的溫差處理，同時輔助肥水，停止使用肥料，減少澆水，增加光照，提高光照到4萬～8萬lux，增加石斛假鱗莖的粗度。促進花芽的分化。
目前現有的技術，是單純利用環境條件進行花期調控。還有許多栽培技術不過關，出現相當低矮和細弱的莖，同樣不利於花芽的形成。也有採用了赤黴素進行了處理，但是結果不理想。獲得的植株落葉提前、徒長，或者形成的花芽質量不高。催花的溫度控制在13℃左右，但是催花的時間和低溫處理時間控制不到位。水、肥、基質的配合也不好。導致營養生長不良，影響了後期的生殖生長，出現花期調控失當。在這種技術下，花期不整齊，同一株上下節位開花時間不一致，開花零零散散，觀賞效果差。形成了低矮、細弱的莖，同樣不利於花芽的形成。也有採用了赤黴素進行了處理，但是結果不理想，獲得的植株提前落葉、徒長，形成的花芽質量不高。
總而言之，現有技術具有以下缺點 同一株春石斛的假鱗莖不同節位間開花不一致，在冬春季節零星開花； 不同的株間開花有先後，無法同時開花，不能規模化上市。
在元旦和春節期間，不能準確的進行定時供應春節花卉市場。常常滯後，無法銷售。
發明內容
本發明的目的就是提供一種能夠解決春石斛花期不一致的核心問題，使同一株的不同的節位花芽同時萌發，同時開放；不同株的假鱗莖同時開花，實現規模化上市的春石斛花期調控方法。
本發明是這樣實現的 一種春石斛花期調控方法，它包括營養控制施肥措施、水分調控措施、溫度控制措施、光照控制措施、生長調節劑使用措施，其具體處理方法為 (1)、在營養生長階段自3月初至8月底每月施2～3次平均肥，每次施肥濃度為1000倍(EC值為2～2.3，PH5.5～6.5)，單盆的施肥量為0.1g/次，肥料的N∶P∶K＝20∶20∶20，水分調控措施為每5天施用一次水，溫度與光照控制措施為溫度最佳保持在18～28℃，光照的強度保持在5萬到8萬lux； (2)、促花芽分化及花期調控階段在春石斛出現終止葉後，保持8-13℃夜溫25～60天；當春石斛花芽從植株的每個葉腋開始膨大，7～10天澆一次水，澆水次數為每月3～4次，每次澆水量為150～200ml；肥料的N∶P∶K＝10∶30∶20，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，濃度為1000倍，含0.1g高磷肥； (3)開花階段當花芽伸長到1cm時，進行加溫催花，溫度為18～25℃，此時減弱光照強度，光照強度為3～5萬lux，保持該溫度及光照的時間長短為4～6周；同時7～10天澆一次水，澆水次數為每月3～4次，每次澆水量為150～200ml，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，濃度為1000倍，施用平均肥的N∶P∶K＝20∶20∶20； 在春石斛的預計花期前2個月，採用生長調節劑進行灌根處理；從春石斛的花芽萌發時起10～15天，採用生長調節劑進行灌根處理。
在春石斛的預計花期前2個月，採用一種生長調節劑6-BA進行灌根處理；從春石斛的花芽萌發時起的10～15天，採用另一種生長調節劑進行灌根處理。
所述的春石斛花期調控技術，在春石斛的預計花期前2個月，進行灌根處理，採用的生長調節劑可以為6-苄氨基嘌呤(6-BA)。
所述的春石斛花期調控技術，進行灌根處理所採用的6-苄氨基嘌呤(6-BA)，使用濃度可以為6-BA 100～200ppm，每株可以採用100～150ml的劑量。
所述的春石斛花期調控技術，進行灌根處理採用的生長調節劑6-苄氨基嘌呤(6-BA)，莖花芽分化好時，莖粗度較粗，色澤發黃，這時使用濃度可以為100ppm。莖細、色澤淡綠時，成熟度差，花芽分化差，使用濃度可以為200ppm。
所述的春石斛花期調控技術，從春石斛的花芽萌發時起的10～15天，進行灌根處理所採用的生長調節劑可以為赤黴素(GA3)。
所述的春石斛花期調控技術，進行灌根處理所採用的赤黴素(GA3)，濃度可以為5～10ppm，每株使用量可以為100～150ml。
也就是說，在春石斛的預計花期前2個月，首先採用6-BA進行處理，最適宜的使用濃度為6-BA 100～200ppm，可以按照成熟度的不同，成熟度好的則使用100ppm，成熟度差的則使用200ppm。在基質乾燥時，每株採用100ml左右的劑量進行灌根。從春石斛的花芽萌發時起的10～15天，採用適宜濃度的GA3進行處理，處理濃度為5～10ppm，每株也是採用適宜的濃度進行灌根處理。生長調節劑的使用必須配合栽培和環境調控措施。相關的配套栽培技術主要為 1、完成營養生長8月以前肥料選用選用平均肥(N∶P∶K＝20∶20∶20)，每次施肥濃度為1000倍(EC值為2～2.3，PH5.5～6.5)，單盆的施肥量為0.1g/次，肥料的N∶P∶K＝20∶20∶20，每月2～3次。確保在8月底完成營養生長，形成終止葉。水分調控措施為每5天施用一次水。
2、促花芽分化當秋季氣溫降低，空氣乾燥時，為春石斛開始花期調控的最佳季節。進入9月份，春石斛終止葉出現後，保持13℃以下夜溫25～60天。當春石斛花芽從植株的每個葉腋開始膨大，此時不遮陰，肥料的N∶P∶K＝10∶30∶20，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，濃度為1000倍，含0.1g高磷肥。澆水仍以7～10天一次為宜，澆水次數為每月3～4次，每次澆水量為150～200ml； 3、開花階段11月份以後，當花芽伸長到1cm時，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，濃度為1000倍，施用平均肥的N∶P∶K＝20∶20∶20；同時7～10天澆一次水，澆水次數為每月3～4次，每次澆水量為150～200ml。
當花芽分化生長到不可逆轉時，即花芽伸長到1cm以上時，進行加溫催花，此時增加光照強度，不遮陰，可使花色鮮豔。增加澆水次數，可1～2天澆一次水。施肥10天一次，施用平均肥(N∶P∶K＝20∶20∶20)。
春石斛植株只有完成營養生長，形成終止葉時，才會感受外界的低溫誘導而發生花芽分化，當夜溫在13℃以下，維持25～60天春石斛植株在葉腋處花芽逐漸膨大發育成花芽，花芽形成最重要環境因子是低溫(8～15℃)，溫度越低，維持時間愈長，形成花芽時間越短，花芽形成越穩定，越不易逆轉成葉芽，而對日照長短不敏感。由於冬季的保溫，使植株整個生長過程提前，在7月底之後停施均衡肥，20～30天後換施高P肥(N∶P∶K＝10∶30∶20)。
3、運用水分管理用控水方法停止控制營養生長是栽培技術中控制營養生長的重要措施之一。為使植株停止營養生長，可用逐漸減少澆水量，乾旱間歇鍛鍊的方法，形成終止葉。
4、抑制花芽逆轉這是控花成敗的關鍵技術。當植株花芽開始伸長生長至1cm之前，都有逆轉葉芽的可能性，影響逆轉的主要環境因子是溫度，當夜溫在20℃以上，晝溫在25℃以上，尤其在強光直射下，溫度在28℃以上時，持續2～3天，都可能使花芽逆轉成葉芽。所以在這個時期保持夜溫在20℃以下，晝溫在25℃以下尤為重要。只有在花芽長度在1cm以上，肉眼已確認是花芽，此時已不會發生逆轉才可以升溫。施肥1～2次均衡肥，促進開花。
另外，6-BA是一種促進細胞分裂的生長調節劑，使用其他種類的生長調節劑如KT、ZT等也會達到這種目的，只是控制的質量、效果比較差。主要表現在控制的劑量和時間較6-BA效果差。
6-BA、GA3有許多的商品名稱，其中的主要成分是這兩種生長調節劑，但是使用的名稱卻很多，如九二零、催芽素等多種。
二種生長調節劑有多種使用方法，採用合適的濃度，用不同的噴施，或者低濃度的多次使用，皆能達到同樣的效果。
本發明解決了同一株春石斛的假鱗莖不同節位間開花不一致，在冬春季節零星開花；及不同株間開花有先後，無法同時開花，不能規模化上市，特別是在元旦和春節期間，不能準確的進行定時供應春節花卉市場的問題。由於解決了催花中的難點，必將積極推動我國的花卉企業大量投產春石斛的生產，促進規模化、產業化的形成，生產出一流的產品，獲取極大的利潤，減少外匯支出，促進科研工作的可持續發展，形成以科研帶生產，以生產促科研的良性循環。
具體實施例方式 選取2年生春石斛品種「Den white Christmas」50株，分為兩組，每組各250株，各株的基質均為水苔，該兩組分別作為A處理組和B對照組。對A組採取本發明的處理方法，對B組採取現有的技術措施。現具體對兩組採取如下措施 A組 (1)、在營養生長階段自3月3日至8月31日每月施2次平均肥，每次施肥濃度為1000倍(EC值為2～2.3，PH5.5)，單盆的施肥量為0.1g/次，肥料的N∶P∶K＝20∶20∶20，水分調控措施為每5天施用一次水，溫度與光照控制措施為溫度最佳保持在23-25℃，光照的強度保持在5萬到6萬lux； (2)、促花芽分化及花期調控階段在春石斛出現終止葉後，保持8-10℃夜溫45天；當春石斛花芽從植株的每個葉腋開始膨大，7天澆一次水，澆水次數為每月4次，每次澆水量為150ml；肥料的N∶P∶K＝10∶30∶20，施肥10天一次，每株施肥150ml，濃度為1000倍，含0.1g高磷肥； (3)開花階段當花芽伸長到1cm時，進行加溫催花，溫度為19-21℃，此時減弱光照強度，光照強度為3～5萬lux，保持該溫度及光照的時間長短為5周；同時7天澆一次水，澆水次數為每月4次，每次澆水量為150ml，施肥10天一次，每株施肥150ml，濃度為1000倍，施用平均肥的N∶P∶K＝20∶20∶20； 在春石斛的預計花期前2個月(10月份)，採用生長調節劑進行灌根處理；從春石斛花芽萌發時起13天，採用生長調節劑進行灌根處理。進行灌根處理採用的生長調節劑6-苄氨基嘌呤(6-BA)，每株採用130ml左右的劑量。有21株成熟度好，使用的濃度為100ppm。有4株成熟度差，使用的濃度為200ppm。
在春石斛的花芽剛萌發的13天，進行灌根處理所採用的生長調節劑為赤黴素(GA3)，濃度為8ppm，每株使用量為120ml。
B組 在(1)、在營養生長階段自3月3日至8月31日每月施2次平均肥，每次施肥濃度為1000倍，單盆的施肥量為0.15g/次，肥料的N∶P∶K＝20∶15∶12，水分調控措施為每5天施用一次水。
在春石斛的預計花期前2個月(10月份)，停止使用肥水，使用8℃低溫進行處理15天春石斛的假鱗莖。不使用生長調節劑或者單使用GA3進行處理。
從預計花期前1個月，連續進行晝夜溫差63℃處理，同時停止使用肥料，澆水減少為每月3次，增加光照，提高光照到7萬lux以增加石斛假鱗莖的粗度，促進花芽的分化。
結果 A組 250株中，有230株在元旦開花，20株在元旦第二天開花，同一株春石斛的假鱗莖不同節位間開花一致，不同株間開花先後不超過48小時。
B組 250株中，有110株在元旦開花，50株在元旦第二天開花，60株在元旦第三天開花，30株在元旦第四天開花。同一株春石斛的假鱗莖不同節位間開花不一致，不同株間開花先後超過48小時。
分析 春石斛植株只有完成營養生長，形成終止葉時，才會感受外界的低溫誘導而發生花芽分化，花芽形成最重要環境因子是低溫(8～15℃)，溫度越低，維持時間愈長，形成花芽時間越短，花芽形成越穩定，越不易逆轉成葉芽，而對日照長短不敏感。
用控水方法停止控制營養生長是栽培技術中控制營養生長的重要措施之一。為使植株停止營養生長，可用逐漸減少澆水量，乾旱間歇鍛鍊的方法，形成終止葉。
抑制花芽逆轉是控花成敗的關鍵技術。當植株花芽開始伸長生長至1cm之前，都有逆轉葉芽的可能性，影響逆轉的主要環境因子是溫度，當夜溫在20℃以上，晝溫在25℃以上，尤其在強光直射下，溫度在28℃以上時，持續2～3天，都可能使花芽逆轉成葉芽。
另外，6-BA是一種促進細胞分裂的生長調節劑，使用其他種類的生長調節劑如KT、ZT等也會達到這種目的，只是控制的質量、效果比較差。主要表現在控制的劑量和時間較6-BA效果差。
本發明解決了同一株春石斛的假鱗莖不同節位間開花不一致，在冬春季節零星開花；及不同株間開花有先後，無法同時開花，不能規模化上市的問題。
權利要求
1、一種春石斛花期調控方法，它包括營養控制施肥措施、水分調控措施、溫度控制措施、光照控制措施、生長調節劑使用措施，其特徵在於
(1)、在營養生長階段自3月初至8月底每月施2～3次平均肥，每次施肥濃度為1000倍(EC值為2～2.3，PH5.5～6.5)，單盆的施肥量為0.1g/次，肥料的N∶P∶K＝20∶20∶20，水分調控措施為每5天施用一次水，溫度與光照控制措施為溫度保持在18～28℃，光照的強度保持在5萬到8萬lux；
(2)、促花芽分化及花期調控階段在春石斛出現終止葉後，保持8-13℃夜溫25～60天；當春石斛花芽從植株的每個葉腋開始膨大，7～10天澆一次水，澆水次數為每月3～4次，每次澆水量為150～200ml；肥料的N∶P∶K＝10∶30∶20，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，濃度為1000倍，含0.1g高磷肥；
(3)開花階段當花芽伸長到1cm時，進行加溫催花，溫度為18～25℃，此時減弱光照強度，光照強度為3～5萬lux，保持該溫度及光照的時間長短為4～6周；同時7～10天澆一次水，澆水次數為每月3～4次，每次澆水量為150～200ml，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，濃度為1000倍，施用平均肥的N∶P∶K＝20∶20∶20；
在春石斛預計花期前2個月，採用生長調節劑進行灌根處理；從春石斛花芽萌發時起10～15天，採用生長調節劑進行灌根處理。
2、根據權利要求1所述的春石斛花期調控技術，其特徵在於，在春石斛的預計花期前2個月，進行灌根處理採用的生長調節劑為6-苄氨基嘌呤(6-BA)。
3、根據權利要求2所述的春石斛花期調控技術，其特徵在於，進行灌根處理採用的生長調節劑6-苄氨基嘌呤(6-BA)，使用濃度為6-BA 100～200ppm，每株採用100～150ml左右的劑量。
4、根據權利要求3所述的春石斛花期調控技術，其特徵在於，進行灌根處理採用的生長調節劑6-苄氨基嘌呤(6-BA)，在成熟度好時使用濃度為100ppm。
5、根據權利要求3所述的春石斛花期調控技術，其特徵在於，進行灌根處理採用的生長調節劑6-苄氨基嘌呤(6-BA)，在成熟度差時使用濃度為200ppm。
6、根據權利要求1所述的春石斛花期調控技術，其特徵在於，從春石斛的花芽萌發時起的10～15天，進行灌根處理所採用的生長調節劑為赤黴素(GA3)。
7、根據權利要求4所述的春石斛花期調控技術，其特徵在於，從春石斛的花芽萌發時起的10～15天，進行灌根處理所採用的赤黴素(GA3)，濃度為5～10ppm，每株使用量為100～150ml。
全文摘要
本發明涉及一種春石斛花期調控方法。它包括營養控制施肥措施、水分調控措施、溫度控制措施、光照控制措施、生長調節劑使用措施，其具體處理方法包括在營養生長階段、促花芽分化及花期調控階段、開花階段的營養控制施肥措施、水分調控措施、溫度控制措施、光照控制措施、生長調節劑使用措施。本發明解決了同一株春石斛的假鱗莖不同節位間開花不一致，在冬春季節零星開花；及不同的株間開花有先後，無法同時開花，不能規模化上市的問題。
文檔編號A01G1/00GK1957668SQ20051011760
公開日2007年5月9日 申請日期2005年11月2日 優先權日2005年11月2日
發明者王雁 申請人:中國林業科學研究院林業研究所