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一種用於多晶爐鑄錠的長晶工藝的製作方法

2023-06-11 20:23:21


本發明涉及種一種用於多晶爐鑄錠的長晶工藝,屬於多晶矽鑄錠技術領域。



背景技術:

目前,多晶矽錠的製備方法主要是利用GT Solar定向凝固鑄錠系統進行鑄造,該方法通常包括加熱、熔化、長晶、退火和冷卻等步驟。在凝固長晶過程中,通過對頂部溫度和側邊保溫罩抬升高度進行控制,使得熔融矽液在坩堝底部獲得足夠的過冷度凝固結晶。側邊保溫罩的抬升速度可以通過高精密伺服電機進行控制,精準度極高。

現有的長晶工藝控制模式為溫度控制模式,即爐內溫度由加熱器旁的熱電偶測量所得,並反饋到計算機,但在實際鑄錠過程中,熱電偶所測溫度值由諸多因素影響:加熱器與熱電偶之間的距離、熱電偶測溫的精準度,溫度影響長晶速度,同一臺鑄錠設備連續幾隻矽錠之間長晶速度差異也會很大。在實際長晶速度和設定預計長晶速度偏差較大時,將會影響整個矽錠的質量:產生陰影、雜質排除效果降低、產生位錯,從而導致矽錠良率降低,矽片效率下降。



技術實現要素:

本發明的目的是針對現有技術的缺陷,提供一種用於多晶爐鑄錠的長晶工藝,利於提高長晶速率穩定性,避免出現長晶過快或過慢的現象,提高矽錠質量和良率,降低異常率。

本發明是通過如下的技術方案予以實現的:

一種用於多晶爐鑄錠的長晶工藝,其工藝過程如下:

(1)將若干具有熔融矽液的多晶鑄錠坩堝按溫度控制模式運行一爐次,所述溫度控制模式包括九個多晶矽生長階段,第一生長階段時間為0.5~1h,溫度設定值為1434~1440℃,第二生長階段時間為1~2.5h,溫度設定值為1433~1438℃,第三生長階段時間為2~3h,溫度設定值為1432~1437℃,第四生長階段時間為4~6h,溫度設定值為1430~1435℃,第五生長階段時間為4~6h,溫度設定值為1430~1435℃,第六生長階段時間為4~6h,溫度設定值為1425~1432℃,第七生長階段時間為4~6h,溫度設定值為1415~1422℃,第八生長階段時間為8~12h,溫度設定值為1410~1415℃,第九生長階段時間為2~3h,溫度設定值為1400~1410℃,並記錄各階段長晶速度;

(2)選取步驟(1)中長晶速度達到設定速度的一爐坩堝運行數據,推算運行功率參數值,根據功率參數值設置功率控制模式運行數據,並取具有熔融矽液的多晶鑄錠坩堝運行一爐次,記錄長晶速度;

(3)根據步驟(2)中多晶鑄錠坩堝內的長晶速度與設定速度偏差,調整運行功率參數值,得適宜功率控制模式運行數據,取具有熔融矽液的多晶鑄錠坩堝按功率控制模式運行即可。

上述一種用於多晶爐鑄錠的長晶工藝,其中,步驟(1)中所述熔融矽液質量小於10kg。

上述一種用於多晶爐鑄錠的長晶工藝,其中,步驟(1)中所述第一生長階段至第八生長階段氣壓為600mb,所述第九生長階段氣壓為450mb。

本發明的有益效果為:

本發明通過運行溫度控制模式,以確定理論功率控制模式運行數據,並經過運行調整至適宜功率控制模式運行數據,從而避免採用溫度控制模式,易產生長晶速度偏差波動,導致矽錠良率降低、矽片效率下降的情況,將長晶耗時偏差由原來2h降低至0.5h,長晶速率更穩定,避免出現長晶過快或過慢的現象,同時提高矽錠質量,降低異常率,搞高矽錠良率。

附圖說明

圖1為步驟(1)溫度控制模式運行數據圖。

圖2為步驟(3)功率控制模式運行數據圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的具體實施方式作進一步說明。

一種用於多晶爐鑄錠的長晶工藝,其工藝過程如下:

(1)設定長晶速度,將若干具有熔融矽液的多晶鑄錠坩堝按溫度控制模式運行一爐次,所述溫度控制模式包括九個多晶矽生長階段,如圖1所示:第一生長階段時間為0.5h,溫度設定值為1436℃,第二生長階段時間為2h,溫度設定值為1436℃,第三生長階段時間為2.5h,溫度設定值為1436℃,第四生長階段時間為5h,溫度設定值為1432℃,第五生長階段時間為5h,溫度設定值為1426℃,第六生長階段時間為5h,溫度設定值為1422℃,第七生長階段時間為6h,溫度設定值為1418℃,第八生長階段時間為10h,溫度設定值為1412℃,第九生長階段時間為2.5h,溫度設定值為1406℃,所述第一生長階段至第八生長階段氣壓為600mb,所述第九生長階段氣壓為450mb,並記錄各階段長晶速度;

(2)選取步驟(1)中長晶速度達到設定速度的一爐坩堝運行數據,所述第一生長階段至第九生長階段的設定速度依次為0.7cm/h、0.9cm/h、1cm/h、1.2cm/h、1.4cm/h、1.6cm/h、1.8cm/h、1.8cm/h、1.5cm/h;按推算公式Kw=(C1M1△T+C2M2△T)/863/H+P/2,式中:P為最終溫度下坩堝的散熱量,P單位:kw;H為初始溫度加熱至最終所需要的時間,H單位:h;M1、M2分別為坩堝和矽液的質量,M1、M2單位: kg;C1、C2分別為坩堝和矽液的比熱,C1、C2單位:kcal/(kg℃),△T為最終溫度和初始溫度之差,△T單位:℃;推算運行功率參數值;

或由多晶鑄錠坩堝在步驟(1)運行過程中,所述多晶鑄錠坩堝型號為DSS450HP,購自於美國GT solar公司,具有PLC控制器,當坩堝內實際測量的溫度低於或高於溫度設定值時,坩堝PLC控制器控制自動增加或降低功率(坩堝控制器通過PID調節計算)使溫度升到溫度設定值,同時生成運行日誌數據,得運行功率參數值;

根據功率參數值設置功率控制模式運行數據,並取具有熔融矽液的多晶鑄錠坩堝運行一爐次;

(3)根據步驟(2)中多晶鑄錠坩堝內的長晶速度與設定速度偏差,調整運行功率參數值,得適宜功率控制模式運行數據,取具有熔融矽液的多晶鑄錠坩堝按功率控制模式運行即可,如圖2所示功率控制模式包括十一階段,各階段的時間依次為0.5h、1h、1h、2.5h、5h、6h、6h、6h、4h、6h、2.5h,功率參數值依次為27kw、37.5kw、39.5kw、41kw、41.5kw、42kw、42.5kw、43kw、43.5kw、0kw、0kw,第十階段溫度設定值為1413℃,第十一階段溫度設定值為1406℃,所述第一生長階段至第十生長階段氣壓為600mb,所述第十一生長階段氣壓為450mb。

本發明將矽錠長晶耗時偏差由原來2h降低至0.5h,長晶速率更穩定,避免出現長晶過快或過慢的現象,同時提高矽錠質量,降低異常率,搞高矽錠良率。

以上所述,僅為本發明較佳的具體實施方式,但本發明的保護範圍並不局限於此,任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內,可輕易想到的變化或替換,都應涵蓋在本發明的保護範圍內。因此,本發明的保護範圍應該以權利要求書的保護範圍為準。

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