一種晶片生產環境監測系統的製作方法

2023-10-06 13:21:29 3

本實用新型涉及一種環境監控系統，特別涉及一種晶片生產環境監控系統。

背景技術：

生產監控系統中的一項重要內容就是生產環境的監控。在各類礦井、化工廠、天然氣站、危險品倉庫等場所，實時監測環境中的有毒、有害、可燃和易爆氣體等的含量，實時監測環境的溫度、溼度、氣壓等指標，監測地下巷道支撐物及建築結構的受力變形等情況，對於確保安全生產是非常重要的。在晶片生產、製藥等企業中，實時監測生產環境的溫度、溼度、氣壓、潔淨度等指標，並確保這些指標在規定的範圍內，是保證產品質量的必要條件。

集成電路晶片生產設備必須在超淨環境下存放和運行，對環境的溫度、相對溼度、壓差、照度等指標都有嚴格的要求。按照國家潔淨廠房設計規範，以及潔淨室施工和驗收規範的要求，潔淨室的溫、溼度範圍應符合規定；潔淨室與非潔淨室之間的靜壓差應大於10 Pa，相鄰不同潔淨度級別潔淨室之間的靜壓差應大於5 Pa，潔淨室與室外靜壓差應大於12 Pa；無採光窗潔淨區工作面上的照度值，不應低於規定的數值。

技術實現要素：

本實用新型的目的是提供一種晶片生產環境監測系統，且結構簡單，維護方便，部署靈活，成本較低。

本實用新型的目的是這樣實現的：一種晶片生產環境監測系統，包括：

無線傳感器網絡節點，用以監測生產間內的溫度數據、溼度數據、壓差、光照強度，並通過建立的無線傳感器網絡經基站發送給系統控制中心；

基站，負責網絡的啟動，並監控無線傳感器網絡節點的工作狀態，發出用於建立網絡的控制指令、轉發無線傳感器網絡節點的數據；

系統控制中心，用以接受來自無線傳感器網絡的監測數據，對其進行統計、處理和顯示，並將數據反饋給設備控制系統；

設備控制系統，通過控制設備調節生產間內的溫度、溼度、壓力以及光照強度；

所述無線傳感器網絡節點經基站與系統控制中心相連，系統控制中心與設備控制系統相連。

作為本實用新型的進一步限定，所述設備控制系統包括冷源控制系統、熱源控制系統、空氣壓縮機以及光源。

作為本實用新型的進一步限定，所述系統控制中心選用PC機。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果在於，本實用新型通過使用無線傳感器作為網絡節點，用以監測生產間內的各項參數，保證了信號傳輸的穩定性，避免有線線路敷設的空間限制，同時，該系統結構簡單，部署方便，維護方便，降低了成本。本實用新型可用於晶片生產中。

附圖說明

圖1為本實用新型的架構圖。

具體實施方式

如圖1所示的一種晶片生產環境監測系統，包括：

無線傳感器網絡節點，用以監測生產間內的溫度數據、溼度數據、壓差、光照強度，並通過建立的無線傳感器網絡經基站發送給系統控制中心；

基站，負責網絡的啟動，並監控無線傳感器網絡節點的工作狀態，發出用於建立網絡的控制指令、轉發無線傳感器網絡節點的數據；

系統控制中心，用以接受來自無線傳感器網絡的監測數據，對其進行統計、處理和顯示，並將數據反饋給設備控制系統，系統控制中心選用PC機；

設備控制系統，通過控制設備調節生產間內的溫度、溼度、壓力以及光照強度，所述設備控制系統包括冷源控制系統、熱源控制系統、空氣壓縮機以及光源；

所述無線傳感器網絡節點經基站與系統控制中心相連，系統控制中心與設備控制系統相連。

本實用新型通過使用無線傳感器作為網絡節點，用以監測生產間內的各項參數，保證了信號傳輸的穩定性，避免有線線路敷設的空間限制，同時，該系統結構簡單，部署方便，維護方便，降低了成本。

本實用新型並不局限於上述實施例，在本實用新型公開的技術方案的基礎上，本領域的技術人員根據所公開的技術內容，不需要創造性的勞動就可以對其中的一些技術特徵作出一些替換和變形，這些替換和變形均在本實用新型的保護範圍內。