一種血液分析儀液流系統流動室的製作方法
2023-10-10 09:41:24 1
本實用新型涉及光學器件加工技術領域，尤其涉及一種血液分析儀液流系統流動室。
背景技術：
血液分析儀又稱全自動血液分析儀（Automated hematology analyzer AHA）、血細胞自動計數儀（Automated blood cell counter，ABCC），是現代臨床血液檢驗常用的檢測儀器，能夠進行全血細胞的分析及相關項目的檢測。血液分析儀中包括光學系統、液流系統、自動上樣系統、信號檢測傳輸系統和軟體分析系統等。液流系統中的核心部件稱為流動室，當血液在一定的壓力條件下流入流動室中，雷射器發出的雷射從流動室垂直穿射後能夠呈現出不同顏色，能夠利用顏色區分血液的成分含量來分析判斷血液病變情況。
流動室通常由石英玻璃材料製成，以前常用的是整體式流動室，流動室內孔尺寸小、精度要求高，其加工難度大，加工時容易變形，導致國內許多廠家都無法批量生產出合格的流動室，大部分的流動室產品都需要從國外進口。
技術實現要素：
為克服現有技術的不足，本實用新型提供了一種精度高、強度好、耐酸鹼性能好的血液分析儀液流系統流動室。
本實用新型為達到上述技術目的所採用的技術方案是：一種血液分析儀液流系統流動室，包括第一拋光基片，所述第一拋光基片上設有兩個平行的第二拋光基片、第三拋光基片，所述第二拋光基片和第三拋光基片上設有第四拋光基片，所述第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片之間設有構成流動室內孔的縫隙孔，所述第二拋光基片和第三拋光基片之間預留的距離為縫隙孔的寬度，研磨拋光後的所述第二拋光基片和第三拋光基片的厚度為縫隙孔的高度，所述第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片通過高溫鍵合連接在一起形成一個整體，所述縫隙孔的兩端設有圓形擴孔，所述圓形擴孔中設有與所述縫隙孔相連的過渡錐孔。
所述第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片中每個平面的平面度誤差小於λ/8，其中λ為632.8nm；所述第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片中相對面的平行度誤差小於0.0005mm；所述第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片中相鄰面的垂直度誤差小於0.001mm。
構成流動室內孔的所述縫隙孔尺寸小於0.2x0.2mm。
所述第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片表面的劃痕和麻點的質量要求為<20-10。
本實用新型的有益效果是：
1、通過利用第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片高溫鍵合形成一個整體的流動室，流動室由四個基片分批光膠鍵合和拋光研磨加工而成，加工過程精度可控，融合後質量穩定、精度高；
2、第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片都為平板結構，其精度容易加工保證，適合大批穩定生產；
3、通過利用第一拋光基片、第二拋光基片、第三拋光基片和第四拋光基片高溫融合採用鍵合工藝，鍵合工藝經過不斷研究改進，鍵合融合後的形成整體的流動室精度高、強度好、耐酸鹼性能好。
附圖說明
下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。其中：
圖1是本實用新型血液分析儀液流系統流動室的端面示意圖；
圖2是本實用新型血液分析儀液流系統流動室的剖視示意圖。
具體實施方式
為詳細說明本實用新型的技術內容、構造特徵、所實現目的及效果，以下結合實施方式並配合附圖詳細說明。
請參閱圖1及圖2所示，本實用新型血液分析儀液流系統流動室包括第一拋光基片1，所述第一拋光基片1上設有兩個平行的第二拋光基片2、第三拋光基片3，所述第二拋光基片2和第三拋光基片3上設有第四拋光基片4，所述第一拋光基片1、第二拋光基片2、第三拋光基片3和第四拋光基片4之間設有構成流動室內孔的縫隙孔5，所述第二拋光基片2和第三拋光基片3之間預留的距離為縫隙孔5的寬度，研磨拋光後的所述第二拋光基片2和第三拋光基片2的厚度為縫隙孔5的高度，所述第一拋光基片1、第二拋光基片2、第三拋光基片3和第四拋光基片4通過高溫鍵合連接在一起形成一個整體，所述縫隙孔5的兩端設有圓形擴孔6，所述圓形擴孔6中設有與所述縫隙孔5相連的過渡錐孔61。
所述第一拋光基片1、第二拋光基片2、第三拋光基片3和第四拋光基片4中每個平面的平面度誤差小於λ/8，其中λ為632.8nm；所述第一拋光基片1、第二拋光基片2、第三拋光基片2和第四拋光基片4中相對面的平行度誤差小於0.0005mm；所述第一拋光基片1、第二拋光基片2、第三拋光基片3和第四拋光基片4中相鄰面的垂直度誤差小於0.001mm。
構成流動室內孔的所述縫隙孔5尺寸小於0.2x0.2mm。
所述第一拋光基片1、第二拋光基片2、第三拋光基片3和第四拋光基片3表面的劃痕和麻點的質量要求為<20-10，其檢測標準參考美國軍用標準MIL-PRF-13830B。
以上所述僅為本實用新型的實施例，並非因此限制本實用新型的專利範圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護範圍內。