光學透明狹縫及帶有光學透明狹縫的分光儀的製作方法
2023-10-10 19:06:29
專利名稱：光學透明狹縫及帶有光學透明狹縫的分光儀的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種光學檢測儀器，具體涉及一種光學透明狹縫。本發明還涉及
一種帶有光學透明狹縫的分光儀。
背景技術：
近年來線陣列、面陣列的探測器廣泛應用到光譜儀及分光光度計上，使光譜儀、分 光光度計在各個領域內日益發揮著重要作用。這種帶有陣列探測器的光譜儀或分光光度計 需要使用到狹縫(slit)，狹縫是決定儀器解析度指標的重要零件。 目前廣泛使用的狹縫包括一厚度為80 100微米的基片，基片上開具有一定規 格、一定形狀的細縫，該細縫的尺寸最終決定了儀器的解析度。這種狹縫的製作方法是通過 蝕刻或雷射切等方法在平整的金屬基片上產生所需要的細縫，不僅加工成本高，而且細縫 的邊緣質量較差。 此外，這種狹縫還存在以下缺點 1、由於該狹縫的細縫寬度非常窄，一旦細縫內落入極小的雜質，清理這些雜質將 非常困難，這些雜質會影響到儀器的響應度且對解析度產生影響。 2、該狹縫的厚度很薄(80 100微米)，而狹縫的基片一般採用平整金屬材料制 成，儀器安裝過程中很容易破壞狹縫的表面平面度，進而影響狹縫的質量。由於狹縫的質量 不高，會惡化在陣列探測器上的成像質量，從而影響到儀器的解析度，為消除這些不利影響 一般還要通過其它的方法進行校正。 3、該狹縫的細縫使光譜儀的外部環境與內部環境是相通的，在某些使用環境中外 部環境會對內部的光學器件、陣列探測器以及電路造成損壞，限制了光譜儀的應用範圍。
實用新型內容本實用新型所要解決的技術問題是提供一種光學透明狹縫，它可以改善成像質 量，降低加工成本。 為解決上述技術問題，本實用新型光學透明狹縫的技術解決方案為 包括光學透明基片，光學透明基片包括透光區域和非透光區域，非透光區域的一
面或兩面分別鍍有金屬膜；所述透光區域的寬度不大於0. 5mm。 所述金屬膜的膜層厚度為2 5微米。 所述非透光區域的邊緣設有定位缺口。 本實用新型還提供一種帶有光學透明狹縫的分光儀，其技術解決方案為 包括陣列探測器、光學透明狹縫、分光光學及其機械模塊，光線從光學透明狹縫進
入分光光學及其機械模塊的光學空間，在陣列探測器上成像。 所述分光光學及其機械模塊與光學透明狹縫形成密閉空間。 所述分光光學及其機械模塊的光學空間內充填有保護性氣體。
本實用新型可以達到的技術效果是[0018] 本實用新型光學透明狹縫的透光區域為封閉式，不存在任何細縫，維護更加方便， 封閉性更好，應用領域大，使用壽命長。 本實用新型光學透明狹縫的透光區域邊緣質量高，在陣列探測器上的成像質量 好，能夠提高分光儀的像質。 本實用新型光學透明狹縫的透光區域的製造方法簡單，製造成本低。
以下結合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進
圖1是本實用新型光學透明狹縫的示意圖； 圖2是本實用新型的剖面圖3是本實用新型帶有光學透明狹縫的分光儀的示意圖 圖中附圖標記說明
2為透光區域， ll為光學透明基片， 13為感光膠， 6為殼體， 8為光學空間。
步詳細的說明
1為非透光區域，
3為定位缺口，
12為金屬膜，
10為光學透明狹縫，
7為陣列探測器，
具體實施方式如圖1、圖2所示，本實用新型光學透明狹縫，包括光學透明基片11，光學透明基片 11包括透光區域2、非透光區域l，非透光區域1的兩面分別鍍有一層完全不透光的金屬膜 12。 透光區域2的寬度不大於0. 5mm。透光區域2的寬度決定了光譜儀的解析度。 光學透明基片11可以是玻璃、石英、矽片等在UV到IR區域內透光的光學透明材 料。 金屬膜12的膜層厚度為2 5微米。 非透光區域1的邊緣設有定位缺口 3，定位缺口 3用於定位光學透明狹縫的方向， 以利於調試的方便。 也可在非細縫區域1的一面鍍有一層完全不透光的金屬膜12。鍍有金屬膜12的 一面為光學透明狹縫的工作面。 本實用新型透光區域2的製作方法是在金屬膜12上塗上一層感光膠13，通過掩 膜版對塗有感光膠13的基片進行曝光(掩膜版的形狀與細縫區域2的形狀相同)，再將整 個基片放入腐蝕液中將透光區域2的金屬膜12去掉而形成的；最後將感光膠13去除。 這種形成透光區域2的方法，不僅方法簡單，能夠大幅降低光學透明狹縫的成本， 進而降低分光儀的成本；而且所形成的透光區域2的邊緣質量很高，因此本實用新型光學 透明狹縫10在陣列探測器7上的成像質量更好，能夠提高分光儀的像質。 如圖3所示，本實用新型帶有光學透明狹縫的分光儀，包括陣列探測器7、光學透 明狹縫10、分光光學及其機械模塊的殼體6，殼體6內設置陣列探測器7，殼體6外壁設置光 學透明狹縫10。光線從光學透明狹縫IO進入分光光學及其機械模塊的光學空間8，最終在
4陣列探測器7上成像。 本實用新型光學透明狹縫10的透光區域2為封閉式(透光區域2為光學透明基 片11的一部分)，不存在任何細縫，維護更加方便，封閉性更好，可使分光儀內部的光學空 間8與外界隔絕，保護分光儀內部的光學器件，使分光儀能夠在潮溼環境中使用，使用壽命 更長。 由於分光儀內部的光學空間8與外界隔絕，可在光學空間8內充填特殊的保護性
氣體(如惰性氣體、氮氣等)以保護光學器件，擴大了陣列光譜儀的應用領域。 本實用新型光學透明狹縫10可用於光譜儀、分光光度計、單色儀等分光儀器上。
權利要求一種光學透明狹縫，其特徵在於包括光學透明基片，光學透明基片包括透光區域和非透光區域，非透光區域的一面或兩面分別鍍有金屬膜；所述透光區域的寬度不大於0.5mm。
2. 根據權利要求1所述的光學透明狹縫，其特徵在於所述金屬膜的膜層厚度為2 5微米。
3. 根據權利要求1所述的光學透明狹縫，其特徵在於所述非透光區域的邊緣設有定位缺口。
4. 一種帶有權利要求1至3所述的光學透明狹縫的分光儀，其特徵在於包括陣列探測器、光學透明狹縫、分光光學及其機械模塊，光線從光學透明狹縫進入分光光學及其機械模塊的光學空間，在陣列探測器上成像。
5. 根據權利要求4所述的帶有光學透明狹縫的分光儀，其特徵在於所述分光光學及其機械模塊與光學透明狹縫形成密閉空間。
6. 根據權利要求4所述的帶有光學透明狹縫的分光儀，其特徵在於所述分光光學及其機械模塊的光學空間內充填有保護性氣體。
專利摘要本實用新型公開了一種光學透明狹縫，包括光學透明基片，光學透明基片包括透光區域和非透光區域，非透光區域的一面或兩面分別鍍有金屬膜；所述透光區域的寬度不大於0.5mm。所述金屬膜的膜層厚度為2～5微米。本實用新型光學透明狹縫的透光區域為封閉式，不存在任何細縫，維護更加方便，封閉性更好，應用領域大，使用壽命長。本實用新型光學透明狹縫的透光區域邊緣質量高，在陣列探測器上的成像質量好，能夠提高分光儀的像質。本實用新型光學透明狹縫的透光區域的製造方法簡單，製造成本低。本實用新型還公開了一種帶有光學透明狹縫的分光儀。
文檔編號G01J3/00GK201488810SQ200920074459
公開日2010年5月26日 申請日期2009年9月3日 優先權日2009年9月3日
發明者江道國 申請人:必達泰克光電設備(上海)有限公司