一種汙染膜的清洗方法和裝置的製作方法

2023-10-05 12:55:44 1

專利名稱：一種汙染膜的清洗方法和裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及膜分離技術，具體為一種汙染膜的清洗方法和裝置。
背景技術：
膜汙染是指被分離物質中某些成分與膜發生物理、化學作用、或因濃差極化使溶質在膜表面的濃度超過其溶解度，以及因機械作用而引起的在膜表面或膜孔內的吸附、沉積，造成膜孔徑變小或堵塞，使膜產生透過流量與分離特性不可逆變化的現象。儘管膜分離汙水處理技術已得到越來越廣泛的應用，但膜汙染已成為制約膜分離技術進一步發展和應用的瓶頸。汙染物尤其是蛋白質等大分子在膜表面和膜孔內的吸附所引起的通量衰減及分離能力的降低是造成膜通量衰減的主要原因。膜汙染引起的通量衰減又往往和濃差極化現象引起的可逆通量下降混合在一起，使得膜分離效果進一步降低。此外，離子結垢溶度積較小的鹽類，在反滲透過程中易析出而形成水垢；生物汙泥經預處理仍殘留的微生物顆粒，在水中的自身繁殖等都是造成膜汙染的原因。膜的水解、有機溶劑及氧化性物質侵蝕等也會造成膜材料的本質改變。為恢復汙染膜的分離性能及通量，各種膜清洗方法應運而生，如機械清洗，物理清洗，超聲波清洗和化學清洗等。但這些現有清洗方法都存在一定缺點。為方便說明列於表 1。表1現有膜清洗方法的工作原理及缺點
權利要求
1.一種汙染膜的清洗方法，該清洗方法採用原料液和汲取液兩個循環系統，通過高滲透壓的汲取液將低滲透壓的原料液「吸」過來，並且在原料液在進入汲取液的過程中， 將汙染膜內腔皮層表面雜質及多孔支撐層內吸附的雜質帶走，實現對汙染膜的徹底清洗；所述原料液循環系統和汲取液循環系統在正滲透膜組件處錯流配製，清洗循環速率為 2. 0-3. OL/min，清洗壓力為0. 2MPa，清洗溫度為室溫，清洗時間為20-30min ；所述原料液為蒸餾水；所述汲取液包括無機鹽類溶液、糖類溶液、或是無機鹽類溶液與糖類溶液的混合液。
2.根據權利要求1所述的汙染膜的清洗方法，其特徵在於所述的無機鹽類溶液為氯化鈉溶液，氯化鎂溶液或硫酸鈉溶液。
3.根據權利要求1所述的汙染膜的清洗方法，其特徵在於所述的糖類溶液葡萄糖溶液、果糖溶液或蔗糖溶液。
4.根據權利要求1所述的汙染膜的清洗方法，其特徵在於所述的汲取液為IM無機鹽類溶液和5M糖類溶液按2 1比例配製的混合液、或者是IM碳酸氫銨溶液與3M氫氧化銨溶液按1. 2 1比例配製的混合液。
5.根據權利要求1所述的汙染膜的清洗方法，其特徵在於所述的原料液或/和汲取液可被加熱，加熱溫度為20-50°C。
6.一種適用於權利要求1-5任一項所述汙染膜清洗方法的汙染膜清洗裝置，其特徵在於該清洗裝置包括原料液和汲取液兩個循環系統，所述原料液循環系統包括依次管路連接的原料液罐、隔膜泵、原料液壓力表和原料液閥門，並在隔膜泵後接入正滲透膜組件中汙染膜的一側；所述汲取液循環系統包括依次管路連接的汲取液罐、蠕動泵、汲取液壓力表和汲取液閥門，並在蠕動泵後接入正滲透膜組件中汙染膜的另一側；所述原料液循環系統和汲取液循環系統在正滲透膜組件處錯流配製。
全文摘要
本發明公開一種汙染膜的清洗方法和裝置。該清洗方法採用原料液和汲取液兩個循環系統，通過高滲透壓的汲取液將低滲透壓的原料液「吸」過來，並且在原料液在進入汲取液的過程中，將汙染膜內腔皮層表面雜質及多孔支撐層內吸附的雜質帶走，實現對汙染膜的徹底清洗；原料液循環系統和汲取液循環系統在正滲透膜組件處錯流配製，清洗循環速率為2.0-3.0L/min，清洗壓力為0.2MPa，清洗溫度為室溫，清洗時間為20-30min；原料液為蒸餾水；汲取液包括無機鹽類溶液、糖類溶液或無機鹽類與糖類溶液的混合液。該清洗裝置適用於本發明清洗方法，包括原料液和汲取液兩個循環系統，兩個循環系統在正滲透膜組件處錯流配製。
文檔編號B01D65/02GK102284249SQ20111015121
公開日2011年12月21日 申請日期2011年6月7日 優先權日2011年6月7日
發明者於湉, 孫靜, 王薇, 田恩玲 申請人:天津工業大學