用於體外診斷設備並帶有方形開口的反應倉的製作方法

2023-10-24 08:27:38

本實用新型涉及體外診斷設備檢測用反應倉，尤其是涉及一種用於體外診斷設備並帶有方形開口的反應倉。

背景技術：

基因擴增技術又稱無細胞分析克隆系統，可將極微量的靶DNA擴增上百萬倍，從而大大提高對靶DNA分子的分析和檢測能力，能檢測單分子DNA或對每9萬個細胞中僅含一個靶DNA分子的樣品，因而在體外診斷領域得到快速發展，用於檢測遺傳病、傳染病等疾病。常將體外診斷設備如全自動化學發光免疫分析系統、生化分析儀等儀器與基因擴增技術合為一體進行多種疾病或病毒的診斷。據統計，目前導致基因擴增檢測失敗的關鍵因素在於提純質量的失控而導致靶DNA的丟失或受到汙染，因而靶DNA複製後的提純是直接影響基因擴增反應的關鍵操作，直接影響疾病檢測結果的準確性。提純步驟中用到的反應倉是用來獲得提純物的一次性耗材或可重複性耗材，其主要用於血清、血液、尿液、血漿、骨髓等樣品中靶DNA的提純，需要有接收混合物的反應空間；在檢測過程中，反應倉既要滿足同自動化儀器設備的動作對接，又要依照其動作程序滿足各類功能需求及防汙染需求，並以此獲得高質量的純化物進而確保擴增反應的成功率及準確性。現有反應倉混合不均，反應混合物易出現掛壁現象；用注液管進行注液時，注液位接近倉底，容量小；富集距離大、帶有靶DNA的磁珠試劑富集時間長，進而影響樣品檢測的準確性。

技術實現要素：

本實用新型目的在於提供一種用於體外診斷設備並帶有方形開口的反應倉。

為實現上述目的，本實用新型採取下述技術方案：

本實用新型所述用於體外診斷設備並帶有方形開口的反應倉，包括頂部帶有固定圈的倉體，所述倉體由倉室和設置在所述倉室底部的倉底組成，所述倉室的上開口為方形結構，倉室包括上倉室和下倉室，所述上倉室為上大下小的四稜柱結構，所述下倉室為上大下小的四稜錐臺形結構，上倉室的第一右側壁與下倉室的第二右側壁相銜接，上倉室的第一左側壁和下倉室的第二左側壁相銜接，所述上倉室的第一右側壁和所述下倉室的第二右側壁均向所述倉底的中軸線傾斜，上倉室第一右側壁與倉底中軸線之間的夾角α大於下倉室第二右側壁與倉底中軸線之間的夾角β，上倉室的第一右側壁與倉底中軸線之間的夾角α為165°～178°，下倉室的第二右側壁與倉底中軸線之間的夾角β為156°～175°，倉底為圓弧底；下倉室第二右側壁和/或下倉室第二左側壁外表面活動設置有富集裝置。

所述上倉室的第一左側壁、下倉室的第二左側壁均向所述倉底傾斜，上倉室的第一左側壁和下倉室的第二左側壁的傾斜度相同，下倉室的第二左側壁下端通過緩衝壁與倉底相銜接，所述緩衝壁為弧形結構或傾斜設置的平面結構。

所述上倉室的第一左側壁豎直設置，所述下倉室的第二左側壁自上倉室的第一左側壁下端向所述倉底傾斜設置。

所述上倉室的第一右側壁通過豎直設置的連接壁與所述固定圈相固連。

所述倉室的壁厚為0.4～1.0mm。

所述倉室的注液位置為下倉室第二右側壁中上部位置處的上方。

本實用新型優點在於結構簡單、製造簡單、使用方便；倉室壁厚一致，受熱均勻，倉底為圓弧底，便於渦旋和吸液，使倉室無用容量最小化；上倉室的第一右側壁、下倉室的第二右側壁均傾斜設置，減小富集距離、縮短富集時間，確保倉室的反應容量。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖2是本實用新型的立體結構示意圖（隱去富集裝置）。

圖3是本實用新型的軸側結構示意圖（隱去富集裝置）。

圖4是本實用新型所述緩衝壁為平面結構時的結構示意圖。

圖5是本實用新型所述緩衝壁為平面結構時的立體結構示意圖（隱去富集裝置）。

圖6是本實用新型所述第一左側壁豎直設置時的結構示意圖。

圖7是本實用新型所述第一左側壁豎直設置時的立體結構示意圖（隱去富集裝置）。

具體實施方式

如圖1、圖2、圖3所示，本實用新型所述用於體外診斷設備並帶有方形開口的反應倉，包括頂部帶有固定圈1的倉體，便於固定，所述倉體由倉室和設置在所述倉室底部的倉底2組成，所述倉室的上開口為方形結構，倉室包括上倉室和下倉室，所述上倉室為上大下小的四稜柱結構，所述下倉室為上大下小的錐臺形結構，上倉室和下倉室的橫截面的輪廓均為方形結構，上倉室的第一右側壁3與下倉室的第二右側壁4相銜接，上倉室的第一左側壁5和下倉室的第二左側壁6相銜接，上倉室第一右側壁3和下倉室第二右側壁4的下端均向所述倉底2中軸線傾斜，上倉室的第一右側壁3與倉底2中軸線之間的夾角大於下倉室第二右側壁4與倉底2中軸線之間的夾角，上倉室的第一右側壁3與倉底2中軸線之間的夾角α為172°，下倉室的第二右側壁4與倉底2中軸線之間的夾角β為160°，最大富集距離為15.5mm，富集時間為35秒，確保倉室的反應容量，上倉室的第一右側壁3具有避位作用，防止反應試劑混合過程衝出倉室，上倉室的第一左側壁5、下倉室的第二左側壁6的下端均向倉底2傾斜設置，上倉室的第一左側壁5和下倉室的第二左側壁6傾斜度相同，下倉室第二左側壁6的下端通過緩衝壁8與倉底2相銜接，緩衝壁8為弧形結構，具有緩衝作用，倉底2為圓弧底，具有渦旋作用，同時還有利於吸液、使倉體無用容量最小化；下倉室第二右側壁4的外表面活動設置有富集裝置7，當然實際製造時，也可以將富集裝置7設置在下倉室的第二左側壁6上，還可以在下倉室的第二右側壁4、下倉室的第二左側壁6上同時設置富集裝置7。

實際製造時，如圖4、圖5所示，還可以將緩衝壁8製成傾斜設置的平面結構，加強渦旋現象，使反應試劑混合均勻，第一右側壁3與倉底2中軸線之間的夾角α為177.5°，第二右側壁4與倉底2中軸線之間的夾角β為160°，最大富集距離為15.8mm，富集時間為37秒。

實際製造時，還可以將上倉室第一左側壁5、下倉室第二左側壁6製成如圖6、7所示的結構，即上倉室的第一左側壁5豎直設置，下倉室的第二左側壁6下端向倉底2所在的中軸線傾斜，下倉室的第二左側壁6下端直接與倉底2相銜接，上倉室的第一右側壁3與倉底2中軸線之間的夾角α為167.5°，下倉室的第二右側壁4與倉底2中軸線之間的夾角β為157.3°，最大富集距離為13.9mm，富集時間為35秒；上倉室的第一右側壁3上端通過豎直設置的連接壁9與所述固定圈1底部相固連，避免因上開口過大而導致試劑衝出倉室。

上述最大富集距離均為與下倉室第一右側壁4對應位置處的倉室上液面到下倉室第一右側壁4的距離。

倉體為一體結構，上倉室的第一右側壁3和下倉室的第二右側壁4下端均向倉底2中軸線傾斜設置，即下倉室的橫截面越接近倉底2越小，減少富集距離，提高檢測效率，同時確保倉室的容量；下倉室與倉底2整體呈上大下小的錐形結構，確保反應試劑與磁珠試劑完全混合均勻。

使用時，富集裝置7可拆卸，注液和反應試劑混勻過程中將富集裝置7取下，試劑富集時再將富集裝置7設置在下倉室的第二右側壁4上；注液時，注液管10位於下倉室第二右側壁4中上部位置的正上方，注液管10的注液深度由反應試劑添加量確定，反應試劑經下倉室第二右側壁4流入倉底2，避免因注液位置而導致掛壁和混合不均勻現象，提高準確性；注液的同時對倉室內的反應試劑進行加熱，可以對下倉室第二右側壁4兩側的下倉室進行加熱，也可以直接對整個下倉室進行加熱，倉室壁厚均為0.4mm，便於傳熱，確保受熱均勻；下倉室的第二右側壁4為富集面，反應後的磁珠試劑直接呈線狀地吸附在第二右側壁4的內表面。

本實用新型的工作過程簡述如下：

在反應試劑渦旋混合時，將富集裝置7取下，向倉室內添加磁珠試劑，然後向倉室內注入反應試劑，反應試劑順著下倉室的第二右側壁4向下流入倉底2，倉底2為圓弧底，根據渦旋原理，流入倉底2的反應試劑順著下倉室向上渦旋，然後在自身重力的作用下重新落入倉室內，然後根據實驗要求按照上述操作注入不同的反應試劑，反應試劑渦旋過程中，各種反應試劑與磁珠試劑組成的反應混合物充分混合均勻。

反應結束後，將富集裝置7設置在下倉室的第二右側壁4上，用富集裝置7對反應後的磁珠試劑進行富集，磁珠試劑完全吸附在下倉室第二右側壁4的內表面，並且沿下倉室第二右側壁4的縱向呈線狀分布；倉底2為吸液位，用吸液管11進行緩慢吸液直至將倉室內的液體完全吸出後，即可實現磁珠試劑的富集操作。