雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法
2023-10-24 10:12:37 1
雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法
【專利摘要】本發明公開了一種雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法，主要應用於雷射雷達發射系統調校過程中，對擴束後的探測光發散角進行測評和調整。裝置主要由探測光源、光學升降臺、準直望遠鏡、可升降光學調整架、可調諧雙狹縫光闌、光闌、高精密平移平臺、光功率計等部件組成。裝置設計了可調諧雙狹縫光闌，雙狹縫光闌將被測光源的發射光束整形為雙光束，僅需測量雙光束的離散程度，就可以測得光束的發散角，不需要測量整個光斑光強分布，從而實現對不同直徑的雷射雷探測光源光束的發散角進行測量，該裝置與方法可測量最小光束直徑為2mm，最大光束直徑為400mm，可以實現0.01mrad光束髮散角的測量。
【專利說明】雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種雷射雷達光學測量校正裝置，具體為一種雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法，實現雷射雷達探測光源調校。
【背景技術】
[0002]雷射雷達是以雷射為探測光源，通過雷射與大氣相互作用對大氣顆粒物進行探測。光波與大氣中介質相互作用，產生包含氣體分子和氣溶膠粒子有關信息的輻射信號，利用反演方法就可以從中得到關於氣體分子和氣溶膠粒子的信息。因此，雷射雷達的技術基礎是光輻射與大氣中的分子以及氣溶膠粒子之間相互作用所產生的各種物理過程。雷射雷達作用一個為重要光學遙感探測手段，可以實現整個對流層大氣氣溶膠消光垂直廓線的探測、大氣水平能見度、以及顆粒物粒子特性的探測，可以有效彌補當前我國在大氣顆粒物遙感探測不足，有助於開展氣溶膠細粒子的來源分布，分析大氣顆粒物特性，解析灰霾天氣的細粒子時空分布，分析大氣邊界層以上沙塵和捲雲特性及混合層厚度和動態結構的時間演變。
[0003]雷射雷達探測光源部分由雷射器和發射光學單元兩部分組成。雷射器是決定雷射雷達探測性能的關鍵因素之一，雷射器的類型和性能要求取決於系統的要求和具體的探測對象。可用的雷射器主要類型有:用於散射型雷射雷達的雷射器主要有多波長輸出的閃光燈泵浦或二極體泵浦Nd: YAG雷射器、紅寶石雷射器、二氧化碳雷射器等。目前，一些新型雷射器(如板條雷射器、微晶片雷射器、波導雷射器以及固化拉曼雷射器)正處於研發中，它們很快也會應用到雷射雷達之中。雷射器的性能指標主要有輸出波長、能量及其穩定性、重複頻率、光束髮散角、雷射脈衝寬度等。雷射波長決定了雷射雷達探測成份的種類；能量的大小影響雷達有效範圍探測範圍和信噪比，雷射器的高重複頻率能夠改善雷射雷達探測的時空分布特徵。
[0004]而雷射雷達探測光源發散角會影響到雷射雷達的信噪比和系統探測的穩定性，如果雷射雷達探測光源發散角大於設計指標，大量的背景光會進行探測器，導致雷射雷達探測信號噪聲增加，信噪比降低，無法滿足雷射雷達數據反演的要求；而如果雷射雷達探測光源發散角小於設計指標時，會導致系統的穩定降低，雷射雷達有效探測光會發射到雷射雷達探測視場外，其回波信號無法被探測器接收，所以一般要求發射光束的發散角比視場角間的值小些。
[0005]可見，雷射雷達探測光源發散角是雷射雷達設計的重要參數之一，後期雷射雷達安裝調試過程中，雷射雷達探測光源發散角的測試和調較優劣也是影響雷射雷達性能的關鍵因素，同時也是雷射裝調過程一個技術難題。主要原因在於，雷射雷達探測光源發散角極小，遠遠高於一般的光學精密儀器探測光源的發散角。一般光學精密儀器的探測光源發射角在幾個至十幾毫弧度之間，而雷射器雷達通常要求探測光源發散角在零點幾毫弧度，微脈衝雷射雷達的發散角在0.01毫弧度左右，雷射雷達對探測光源發散角的要求遠遠高於一般的精密光學儀器，所以對雷射雷達光源發散角測量裝置和調試方法提出更為苛刻的要求，需要更為特殊工具和調較方法。
[0006]但是目前，在已公開專利或文獻中，專用於雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法的報導尚未看到，已公開的相關的專利文獻中，描述的裝置和測量方法一般用於常規光學精密儀器的光源發散角的測量，主要有光電探測器測量法和CCD成像方法，如中國科學院光電技術研究所的一份中國發明專利CN1180232C(授權公告日為2004年12月15日)雷射光束髮散角測試方法，該方法利用CCD相機測量雷射器光束聚焦光斑的整個二維光強分布，然後根據需要取所需測量方向的光強一維分布，把光強下降到最大值1/e2(即0.136)處的曲線起、止點包絡線的大小作為雷射光束的在次位置的光斑直徑大小。該方法在雷射雷達探測光源發散角測量方面不適用，首先，雷射雷達探測光源均被準直擴束，擴束後的光斑功率密度比較小，整個光斑的光強分布差別不大，使用「光強下降到最大值1/e2 (即0.136)處」定義為光斑直徑大小方法，不能準確的光斑直徑；其次，雷射雷達探測光源的光斑直徑較大，光斑直接一般在20mm-400mm之間，該方法使用CCD測量光強分布,會受CCD探測面兀面積限制，無法測量大光斑。另外一份中國科學院半導體研究所的發明專利CN100354621C(授權公告日為2007年12月12日)雷射器發散角測量儀和測量方法，該發明描述了一種主要應用於半導體雷射器出射光束的測量方法，採用光纖頭測量光場強度，探測範圍小，能夠測量口徑很小的雷射光斑；測量過程中，移動雷射器測量光纖固定不動。該方法同樣不適用在雷射雷達探測光源發散角測量，一是，雷射雷達探測光源光束被擴束後光強較弱，而光纖探頭的耦合效率低，插入損耗大，耦合到光纖中極少的光強無法被探測；二，該裝置和方法同樣無法用於較大光斑發散角的測量。
[0007]本發明專利中設計了可調諧雙狹縫光闌，這是與其他專利的根本區別，可調諧雙狹縫光闌設置有兩個狹縫，狹縫寬度和雙狹縫間距可調，可能根據被測試雷射雷達探測光源的光斑大小和光強，調整狹縫寬度與雙狹縫間距，保證有足夠能量通過被光功率探測-M狹縫光闌將被測光源的發射光束整形為雙光束，僅需測量雙光束的離散程度，就可以測得光束的發散角，不需要測量整個光斑光強分布，從而實現對大直徑光斑的測量，這是以往其他測量方法無法做到的；本發明專利中，對雙光束光強的測量獲得光強曲線圖，測量計算曲線圖中雙峰中心線之間距離，而不像傳統方法那樣通過測量光強確定光斑大小，顯然雙峰中心線間距的測量更加容易、精度更高、誤差更小。
【發明內容】
[0008]本發明要解決的技術問題是提供一種雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法，在雷射雷達裝配和測試過程中實現對雷射雷達探測光源發散角測量和調校。創新地設計了可調諧雙狹縫光闌，雙狹縫光闌將被測光源的發射光束整形為雙光束，僅需測量雙光束的離散程度，就可以測得光束的發散角，不需要測量整個光斑光強分布，從而實現對大直徑光斑的測量，這是傳統測量方法和裝置法無法實現的；通過測量雙光束光強曲線圖，測量計算曲線圖中雙峰中心線之間距離，與傳統方法測量光斑大小的方法比較,雙峰中心線間距的測量更加容易、精度更高、誤差更小。
[0009]本發明解決上述技術問題採用的技術方案為:一種雷射雷達探測光源發散角測量裝置包括:探測光源、光學升降臺、準直望遠鏡、可升降光學調整架一、可調諧雙狹縫光闌、可升降光學調整架二、光闌、高精密平移平臺、光功率計，所述部件依次固定在測量平臺上；所述探測光源水平安裝在升降光學調整架一上，高度可調，調整光學升級臺使得探測光源發射光束沿系統中心光軸發射；所述準直望遠鏡固定在升降光學調整架一上，高度可調，俯仰角度可調，調整升降光學調整架一使得準直望遠鏡的中心軸與系統中心光軸共軸，探測光源光束經準直望遠鏡準直擴束後發射向可調諧雙狹縫光闌；所述可調諧雙狹縫光闌固定在可升降光學調整架二上，高度可調，俯仰角度可調，可調諧雙狹縫光闌設置有兩個狹縫，分別為狹縫A和狹縫B，狹縫A和狹縫B的狹縫寬度可調，狹縫A和狹縫B的狹縫間距可調，狹縫寬度範圍為0.5mm-5mm，狹縫間距可調整範圍為4mm-120mm ;所述光功率計固定安裝在高精密平移平臺上，垂直高度和水平距離可調整，其中水平設置有刻度線，可以精密調整，水平調整精度為0.1mm，測量範圍為0-120mm ;光功率計具有測量精度高特點，測量波長範圍150nm-8um，測量功率範圍60uw-3w，測量精度3% ;所述光闌固定安裝在光功率計的探測器前，光闌直徑為30mm，中心設計有孔徑可調的通光孔，通光孔可調諧範圍0.5mm-5mm ；光闌、高精密平移平臺和光功率計安裝後是一個整體，可以沿系統中心光軸方向在測量平臺上平行移動，水平調諧高精密平移平臺時，光闌和光功率計可以沿垂直於系統中心光軸方向水平步進移動，進而實現對光束光斑能量軸向分布的精密測量。
[0010]利用雷射雷達探測光源發散角測量裝置，所述的發散角測量和調試方法為:
[0011](I)調整可升降光學調整架二高度，使可調諧雙狹縫光闌中心位於與系統中心光軸上，調整可升降光學調整架二高度俯仰角度，使可調諧雙狹縫光闌與系統中心光軸垂直，調整狹縫A和狹縫B的狹縫寬度，使得通過可調諧雙狹縫光闌的光束在光闌處能夠成相對較清晰的像，狹縫A和狹縫B的狹縫寬度一般調整為0.5mm-2mm時，成像較為清晰；調整狹縫A和狹縫B之間的狹縫間距為B毫米，使得光束能夠通過狹縫A和狹縫B後形成雙光束；
[0012](2)沿系統中心光軸方向在測量平臺上平行移動光闌、高精密平移平臺和光功率計，將其固定在與雙狹縫光闌距離為L的位置處，要求L大於IOm;在垂直方向上調諧高精密平移平臺，使得光闌的中心小孔與中心光軸等高；
[0013]( 3 )測量步驟(I)中所述雙光束的光斑能量分布，在水平方向上調諧高精密平移平臺，使得光闌的中心小孔位於步驟(I)中所述雙光束在光闌所成像的一側，然後在水平方向慢慢調諧高精密平移平臺，使得光闌沿水平方向上一步一步向探測光束步進，直至完全通過步驟(I)中所述雙光束在光闌所成像，光闌每步進一次，記錄步進的距離和光功率計的測量值；以所記錄的步進距離值為X軸坐標值，光功率計的測量值為Y軸坐標值繪圖，獲取一個雙峰結構的曲線圖，並計算曲線圖中雙峰中心線之間距離d ；
[0014](4)多次平均測量計算曲線圖中雙峰中心線之間距離，重複步驟(3)，重複測量雙光束在光闌所成像的能量分布，計算測量曲線圖中雙峰中心線之間距離，重複測量計算五次，將五次測量計算的平均值記為D ；
[0015](5)根據步驟(I)、(2)、(4)中的測量計算值，計算雷射雷達探測光源發散角
0,0= (D-B) / (1000*L)；
[0016](6)將雷射雷達探測光源發散角計算值0與雷射雷達系統設計指標需求值比較，如果計算值0大於或小於雷射雷達系統設計指標需求值，需要更換準直望遠鏡或者調整準直望遠鏡結構後，重複步驟(I)至步驟(5)再次測量計算雷射雷達探測光源發散角0，直至雷射雷達探測光源發散角計算值e滿足系統設計指標要求。
[0017]所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置設計了可調諧雙狹縫光闌，可調諧雙狹縫光闌將被測光源的發射光束整形為雙光束。
[0018]所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置測量精度高，裝置可以實現0.0lmrad光束髮散角的測量；
[0019]所述的裝置與方法，可用於不同直徑光束的發散角的測量，可測量最小光束直徑為2mm,最大光束直徑為400mm。
[0020]本發明與現有技術相比的有益效果:
[0021](I)本發明的雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法可用於不同直徑光束的發散角的測量，可測量最小光束直徑為2_，最大光束直徑為400_。大光斑直徑的測量是本發明專利的創新之一，已公開的專利或文獻中描述的發散角的測量方法，一般用於小直徑光束髮散角的測量；
[0022]( 2)本發明中創新地設計了可調諧雙狹縫光闌，雙狹縫光闌將被測光源的發射光束整形為雙光束，僅需測量雙光束的離散程度，就可以測得光束的發散角，而傳統光束髮散角測量方法一般為測量整個光斑光強分布，傳統方法是測量整個光斑面元，而本發明專利的方法僅需要光斑面中的兩個點元，顯然本發明專利的方法更加簡單，精度更高；
[0023](3)本發明在測量雙光束離散程度時，通過測量雙光束光強曲線圖，利用曲線圖中雙峰中心線之間距離，進而確定光斑的位置，測量光束髮散角。而傳統方法一般是通過測量光強測量光斑大小的方法確定光斑位置，本發明專利使用的方法精度更高、誤差更小，因此本發明裝置和方法可實現0.0lmrad光束髮散角的測量。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0024]圖1為本發明探測裝置的組成框圖；
[0025]圖2為可調諧雙狹縫光闌結構示意圖；
[0026]圖3為雙光束的雙峰結構曲線圖。
【具體實施方式】
[0027]下面結合附圖以及具體實施例進一步說明本發明。
[0028]如圖1所示，本發明的雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法主要由探測光源
1、光學升降臺2、準直望遠鏡3、可升降光學調整架一 4、可調諧雙狹縫光闌5、可升降光學調整架二 6、光闌7、高精密平移平臺8、光功率計9組成，所述部件依次固定在測量平臺10上；所述探測光源I水平安裝在升降光學調整架一 4上，高度可調，調整光學升級臺2使探測光源I發射光束沿系統中心光軸11發射；所述準直望遠鏡3固定在升降光學調整架一 4上，高度可調，俯仰角度可調，調整升降光學調整架一 4使準直望遠鏡3的中心軸與系統中心光軸11共軸，探測光源I光束經準直望遠鏡3準直擴束後發射向可調諧雙狹縫光闌5 ;所述可調諧雙狹縫光闌5固定在可升降光學調整架二 6上，高度可調，俯仰角度可調，可調諧雙狹縫光闌5如圖2所示，設置有兩個狹縫，分別為狹縫A12和狹縫B13，狹縫A12和狹縫B13的狹縫寬度可調，狹縫A12和狹縫B13的狹縫間距可調，狹縫寬度範圍為0.5_-5_，狹縫間距可調整範圍為4mm-120mm ;所述光功率計9固定安裝在高精密平移平臺8上，垂直高度和水平距離可調整，其中水平設置有刻度線，可以精密調整，水平調整精度為0.1mm，測量範圍為0-120mm ;光功率計9具有測量精度高特點，測量波長範圍150nm_8um，測量功率範圍60uw-3w,測量精度3% ;所述光闌7固定安裝在光功率計9的探測器前，光闌7直接為30mm，設計有孔徑可調的通光孔，通光孔可調諧範圍0.5mm-5mm ;光闌7、高精密平移平臺8和光功率計9安裝後是一個整體，可以沿系統中心光軸11方向在測量平臺10上平行移動，水平調諧高精密平移平臺8時，光闌7和光功率計9可以沿垂直於系統中心光軸11方向水平步進移動，進而實現對光束光斑能量軸向分布的精密測量。利用雷射雷達探測光源發散角測量裝置，以光束直徑為40_的雷射雷達探測光源發散角測量為例進行說明，所述方法具體步驟為:
[0029](I)調整可升降光學調整架二 6高度，使可調諧雙狹縫光闌5中心位於與系統中心光軸11上，調整可升降光學調整架二 6高度俯仰角度，使可調諧雙狹縫光闌5與系統中心光軸11垂直，調整狹縫A12和狹縫B13的狹縫寬度為1_，使得通過可調諧雙狹縫光闌5的光束在光闌7處能夠成相對較清晰的像，狹縫A12和狹縫B13的狹縫寬度一般調整為
0.時，成像較為清晰；調整狹縫A12和狹縫B13之間的狹縫間距為3.6mm，使得光束能夠通過狹縫A12和狹縫B13後形成雙光束；
[0030](2)沿系統中心光軸11方向在測量平臺10上平行移動光闌7、高精密平移平臺8和光功率計9，將其固定在與雙狹縫光闌(5)距離為L的位置處，L為15m ;在垂直方向上調諧高精密平移平臺8，使得光闌7的中心小孔與中心光軸11等高；
[0031 ] ( 3 )測量步驟(I)中所述雙光束的光斑能量分布，在水平方向上調諧高精密平移平臺8，使得光闌7的中心小孔位於步驟I中所述雙光束在光闌7所成像的一側，然後在水平方向慢慢調諧高精密平移平臺8，使得光闌7沿水平方向上一步一步向探測光束步進，直至完全通過步驟I中所述雙光束在光闌7所成像，光闌(7)每步進一次，記錄步進的距離和光功率計9的測量值；以所記錄的步進距離值為X軸坐標值，光功率計9的測量值為Y軸坐標值繪圖，獲取一個雙峰結構的曲線圖11，如圖3所示，曲線峰A和B分別為探測光通過狹縫A12和狹縫B13後形成雙光束的光強，並計算曲線圖中雙峰中心線之間距離d ；
[0032](4)多次平均測量計算曲線圖中雙峰中心線之間距離，重複步驟(3)，重複測量雙光束在光闌7所成像的能量分布，計算測量曲線圖中雙峰中心線之間距離，重複測量計算五次，五次測量計算的平均值D為3.9mm ;
[0033](5)根據步驟(I)、(2)、(4)中的測量計算值，計算雷射雷達探測光源發散角
0,0= (D-B) / (1000*L)= (3.9-3.6)/ (1000*15) =0.2mrad ;
[0034](6)雷射雷達探測光源發散角計算值0為0.2mrad滿足雷射雷達系統設計指標需求值。如果計算值e大於或小於雷射雷達系統設計指標需求值，需要更換準直望遠鏡3或者調整準直望遠鏡3結構後，重複步驟I至步驟5再次測量計算雷射雷達探測光源發散角e，直至雷射雷達探測光源發散角計算值e滿足系統設計指標要求。
[0035]所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置設計了可調諧雙狹縫光闌，可調諧雙狹縫光闌5將被測光源的發射光束整形為雙光束；
[0036]所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法，測量精度高，所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置可以實現0.0lmrad光束髮散角的測量；
[0037]所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置與方法可用於不同直徑光束的發散角的測量，可測量最小光束直徑為2_，最大光束直徑為400_ ；
[0038]本發明未詳細闡述部分屬於本領域技術人員的公知常識。
【權利要求】
1.一種雷射雷達探測光源發散角測量裝置，其特徵在於，包括:探測光源(I)、光學升降臺(2)、準直望遠鏡(3)、可升降光學調整架一(4)、可調諧雙狹縫光闌(5)、可升降光學調整架二(6)、光闌(7)、高精密平移平臺(8)、光功率計(9)，所述部件依次固定在測量平臺(10)上；所述探測光源(I)水平安裝在升降光學調整架一(4)上，高度可調，調整光學升級臺(2 )使得探測光源(I)發射光束沿系統中心光軸(11)發射；所述準直望遠鏡(3 )固定在升降光學調整架一(4)上，高度可調，俯仰角度可調，調整升降光學調整架一(4)使得準直望遠鏡(3)的中心軸與系統中心光軸(11)共軸，探測光源(I)光束經準直望遠鏡(3)準直擴束後發射向可調諧雙狹縫光闌(5);所述可調諧雙狹縫光闌(5)固定在可升降光學調整架二(6)上，高度可調，俯仰角度可調，可調諧雙狹縫光闌(5)設置有兩個狹縫，分別為狹縫A(12)和狹縫B(13)，狹縫A (12)和狹縫B (13)的狹縫寬度可調，狹縫A (12)和狹縫B(13)的狹縫間距可調，狹縫寬度範圍為0.5mm-5mm，狹縫間距可調整範圍為4mm-120mm ;所述光功率計(9)固定安裝在高精密平移平臺(8)上，垂直高度和水平距離可調整，其中水平設置有刻度線，可以精密調整，水平調整精度為0.1mm，測量範圍為0-120mm ;光功率計(9)具有測量精度高特點，測量波長範圍150nm-8um，測量功率範圍60uw-3w，測量精度3% ;所述光闌(7)固定安裝在光功率計(9)的探測器前，光闌(7)外徑為30mm，中心設計有孔徑可調的通光孔，通光孔可調諧範圍0.5mm-5mm ;光闌(7)、高精密平移平臺(8)和光功率計(9)安裝後是一個整體，可以沿系統中心光軸(11)方向在測量平臺(10)上平行移動，水平調諧高精密平移平臺(8)時，光闌(7)和光功率計(9)可以沿垂直於系統中心光軸(11)方向水平步進移動，進而實現對光束光斑能量軸向分布的精密測量。
2.根據權利要求1所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置，其特徵在於:該裝置設計了可調諧雙狹縫光闌(5)，可調諧雙狹縫光闌(5)將被測光源的發射光束整形為雙光束。
3.根據權利要求1所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置，其特徵在於:該裝置測量精度高，可以實現0.0 Imrad光束髮散角的測量。
4.根據權利要求1所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置，其特徵在於:該裝置可用於不同直徑光束的發散角的測量，可測量最小光束直徑為2_，最大光束直徑為400_。
5.利用權利要求1所述的雷射雷達探測光源發散角測量裝置進行發散角測量和調試的方法，其特徵在於，所述的發散角測量和調試的方法包括如下步驟: 步驟(1)調整可升降光學調整架二(6)高度，使可調諧雙狹縫光闌(5)中心位於與系統中心光軸(11)上，調整可升降光學調整架二(6)高度俯仰角度，使可調諧雙狹縫光闌(5)與系統中心光軸(11)垂直，調整狹縫A (12)和狹縫B (13)的狹縫寬度，使得通過可調諧雙狹縫光闌(5)的光束在光闌(7)處能夠成相對較清晰的像，狹縫A (12)和狹縫B (13)的狹縫寬度一般調整為0.時，成像較為清晰；調整狹縫A (12)和狹縫B (13)之間的狹縫間距為B毫米； 步驟(2)在測量平臺(10)上，沿系統中心光軸(11)方向平行移動光闌(7)、高精密平移平臺(8)和光功率計(9)，將其固定在與雙狹縫光闌(5)距離為L的位置處，要求L大於IOm;在垂直方向上調諧高精密平移平臺(8)，使得光闌(7)的中心小孔與中心光軸(11)等聞; 步驟(3)測量步驟(1)中所述雙光束的光斑能量分布，在水平方向上調諧高精密平移平臺(8)，使得光闌(7)的中心小孔位於步驟(1)中所述雙光束在光闌(7)所成像的一側，然後在水平方向慢慢調諧高精密平移平臺(8)，使得光闌(7)沿水平方向上一步一步向探測光束步進，直至完全通過步驟(1)中所述雙光束在光闌(7 )所成像，光闌(7 )每步進一次，記錄步進的距離和光功率計(9)的測量值；以所記錄的步進距離值為X軸坐標值，光功率計(9)的測量值為Y軸坐標值繪圖，獲取一個雙峰結構的曲線圖(14)，並計算曲線圖中雙峰中心線之間距離d ； 步驟(4)多次平均測量計算曲線圖中雙峰中心線之間距離，重複步驟(3)，重複測量雙光束在光闌(7)所成像的能量分布，計算測量曲線圖中雙峰中心線之間距離d，重複測量計算五次，將五次測量計算的平均值記為D ； 步驟(5)根據步驟(1)、(2)、(4)中的測量計算值，計算雷射雷達探測光源發散角.0,0= (D-B) / (1000*L)； 步驟(6)將雷射雷達探測光源發散角計算值0與雷射雷達系統設計指標需求值比較，如果計算值0大於或小於雷射雷達系統設計指標需求值，需要更換準直望遠鏡(3)或者調整準直望遠鏡(3 )結構後，重複步驟(1)至步驟(5 )再次測量計算雷射雷達探測光源發散角e，直至雷射雷達探測光源發散角計算值e滿足系統設計指標要求。
6.根據權利要求5所述的方法，其特徵在於:該方法可用於不同直徑光束的發散角的測量，可測量最小光束直 徑為2_，最大光束直徑為400_。
【文檔編號】G01S7/497GK103645471SQ201310713857
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年12月20日 優先權日:2013年12月20日
【發明者】董雲升, 張天舒, 陸亦懷, 劉建國, 劉文清, 趙南京, 範廣強 申請人:中國科學院合肥物質科學研究院