用於氣體傳輸系統的優化的防激活組件及其方法

2023-09-22 20:07:25

專利名稱：用於氣體傳輸系統的優化的防激活組件及其方法
技術領域：
本發明一般而言涉及基片(substrate)製造技術，具體地，涉 及用於氣體傳輸系統的優化的防激活組件及其方法。
背景技術：
在基片(例如，半導體晶片、MEMS器件、或諸如在平板顯示 器製造中使用的玻璃面板)的處理工藝中經常4吏用等離子體。作為 基片處理工藝(化學氣相沉積、等離子體增強化學氣相沉積、物理 氣相沉積、蝕刻，等)的一部分，例如，基片淨皮分成多個晶片(die) 或矩形區域，每個晶片或矩形區域會形成一個集成電路。然後在一 系列步驟中處理該基片，在這些步驟中，選擇性地去除(蝕刻)和 沉積(deposition,;咒積)才才泮牛，以^更在基片上形成電子元4牛。
在第一個示例性等離子體處理工藝中，在進行蝕刻前將基片塗 以硬化感光乳劑(例如感光性樹脂掩模)形成的薄膜。之後，選擇 性地去除硬化感光乳劑的區域，乂人而使部分下覆層露出。然後將基 片放置於等離子體處理室中的包括單極性或雙才及性電極的基片支 撐結構(稱為卡盤)上。接著，將適當的蝕刻劑源氣體(例如，C4F8、 C4F6、 CHF3、 CH2F3、 CF4、 CH3F、 C2F4、 N2、 02、 Ar、 Xe、 He、 H2、 NH3、 SF6、 BC13、 Cl2,等)流入該處理室中，並激發該氣體 以形成蝕刻基片的露出區域的等離子體。一般地，具有三種類型的蝕刻工藝純化學蝕刻、純物理蝕刻、 以及反應性離子蝕刻。純化學蝕刻一般不涉及物理轟擊，而是涉及 與基片上的材料的化學反應。取決於處理工藝，化學反應速率可以 非常高或者非常低。例如，氟基分子趨向於與基片上的介電材料發 生化學反應，其中氧基分子趨向於與基片上的諸如感光性樹脂的有 機材料發生化學反應。
純離子蝕刻通常一皮稱為濺射(sputtering)。通常，將i者如氬的惰 性氣體電離成等離子體並用於從基片移走(dislodge)材料。即，帶 正電荷的離子朝向帶負電荷的基片加速。純離子蝕刻是各向同性 (即，主要沿一個方向)且非選擇性的。即，對於特定材料的選擇 性會非常差，這是因為在等離子體蝕刻工藝中，離子轟擊的方向幾 乎正交(perpendicular)於基片表面。另外，取決於離子轟擊的流 量(flux)和能量，純離子蝕刻的蝕刻速率通常偏低。
結合化學工藝和離子工藝兩者的蝕刻通常,皮稱作反應性離子 蝕刻(RIE)或離子輔助蝕刻。通常，等離子體中的離子通過撞擊 (strike )基片表面並且隨後打破表面上的原子的化學鍵以便使它們 更加易於與化學工藝中的分子發生反應來加強化學工藝。因為離子 蝕刻主要是正交的，而^b學蝕刻既有正交的又有垂直的，因此，正 交蝕刻速率會比水平方向上的蝕刻速率快得多。另外，RIE趨向於 具有各向異性的特點(profile )。
然而，因為等離子體處理系統操作也可能有危險(即，毒性氣 體、高壓，等)，所以工人安全條例通常要求等離子體處理製造設 備具有防激活能力，諸如上鎖/掛籤(lockout/tagout)機構。通常， 上鎖裝置為使用強制裝置(例如，鑰匙型或組合型的鎖)將能量隔 離裝置保持在安全位置中從而防止激勵機器或設備的一種裝置。例 如，當盲法蘭或螺栓插銷(boltedslip:M皮適當地安裝時，其被認為 等同於上鎖裝置。 掛籤裝置一般為任何顯眼的警告裝置(諸如標籤和貼附裝置) 其能夠根據設定的工序而被牢固地固定於能量隔離裝置。該標籤表 示不能對其所貼附的機器或設備進行操作，直到根據能量控制工序 將該掛籤裝置移除為止。能量隔離裝置為物理地防止能量傳輸或釋 ;改的任何機械裝置。這些裝置包括，^f旦不限於，手動#:作的斷^各開 關、截斷開關、管路閥門和阻擋件。例如，裝置在符合以下要求之
一時一般能夠被鎖定a)其被設計為具有插銷，鎖可連接在該插銷 上；b)其被設計為具有任何其它整體式部分，通過該整體式部分可 將鎖固定；c)其具有構造於其中的鎖定機構；或者d)其可被鎖住， 而不用拆除、重構或替換該能量隔離裝置或永久地改變其能量控制 能力。
現參照圖1，示出了感應耦合等離子體處理系統的簡化示意圖。 一4殳地，可將適當的氣體組由氣體分配系統122流入具有等離子體 室壁117的等離子體室102中。隨後，在噴射器109處或其附近區 域中將這些等離子體處理氣體電離形成等離子體110,以1更處理(例 如，蝕刻或沉積)基片114 (諸如半導體基片或玻璃面i反)的露出 區域，其中該基片114通過邊緣環115i殳置在,爭電卡盤116上。
第一 RF發生器134產生等離子體並控制該等離子體的密度， 而第二 RF發生器138產生通常用於控制DC偏壓和離子轟擊能量 的偏壓RF。進一步連接於源RF發生器134的是匹配網絡136a， 而進一步連4妻於偏壓RF發生器138的是匹配網絡136b,這些匹配 網絡試圖^吏這些RF功率源的阻抗與等離子體110的阻抗匹配。另 外，包4舌閥112和一組泵111的真空系統113通常用於乂人等離子體 室102向環境大氣排氣(evacuate )，以〗更達到維持等離子體110和 /或去除處^S副產物所需要的壓力。
現參照圖2，示出了電容耦合等離子體處理系統的簡化示意圖。 一4殳地，電容耦合等離子體處理系統可配置有單個或多個分離的
RF功率源。由源RF發生器234產生的源RF通常用於經由電容津禺 合產生等離子體並控制等離子體密度。由偏壓RF發生器238產生 的偏壓RF通常用於控制DC偏壓和離子轟擊能量。進一步連接於 源RF發生器234和偏壓RF發生器238的是匹配網絡236 ，其試圖 使這些RF功率源的阻抗與等離子體220的阻抗匹配。其它形式的 電容反應器使得這些RF功率源和匹配網絡連4妄於頂部電極204。 另外，還存在諸如三極體的多陽極系統，這些系統亦遵循類似的 RF和電才及布置。
一般地，將適當的氣體組由氣體分配系統222通過頂部電極204 中的入口流入到具有等離子體室壁217的等離子體室202中。之後 可將這些等離子體處理氣體電離形成等離子體220，以《更處理(例 如，蝕刻或沉積)基片214 (諸如半導體基片或玻璃面板)的露出 區域，其中該基片通過邊緣環215設置在靜電卡盤216上，該靜電 卡盤還用作電極。另外，包括閥212和一組泵211的真空系統213 通常用於從等離子體室202向環境大氣排氣，以便達到維持等離子 體220所需要的壓力。
因為將十七種以上的不同氣體結合到單個等離子體處理系統 中並不少見，因此，製造商們一般以高密度流量部件配置(稱為"氣 體棒"(gas stick))來配置他們的氣體傳輸系統，這些配置自身可被 構造成連接於基片組件的歧管組件(例如，不鏽鋼等)的形式。氣 流控制部件一^^又需在一側連接到該^i支管組件，以實現鑽入該J攻管 組件自身的氣流通道。
現參照圖3,示出了氣體棒的簡化示意圖。在常見配置中，氣 瓶(未示出)連接於進氣閥302，該進氣閥允許才喿作者截止流入該 棒中的的任何源氣流。在一些配置中，進氣閥302為手動操作。在 其它配置中，進氣閥302為氣動操作。即，進氣閥302由諸如壓縮 空氣的壓縮氣體來操作。另外，儘管如前所述，通常要求等離子體
處理系統具有上鎖/掛籤功能，但由於氣體分配系統內的空間限制，
一般不將上鎖/掛籤功能集成到進氣閥302中。
進氣閥302可進一步連接於調節器/變換器304,該調節器/變換 器(transducer)對質量流量控制器308基本4呆持恆壓，該質量流量 控制器可連接於初級截止閥312，該初級截止閥312 —4化允許氣體 棒中的氣流被阻止。可選地，在調節器/變換器304與初級截止閥 312之間設置過濾器306，以去除可能已經進入該氣流的任何微粒。 另夕卜，一4殳在初級截止閥312與質量流量控制器308之間i殳置方文氣 閥310。質量流量控制器308 —般為獨立的裝置(由變換器、控制 閥、以及控制和信號處理電子裝置及組件組成)，通常用於測量和 調節流向等離子體處理系統的氣體的質量流量。
進一步連一妄於質量流量控制器308且一^:不包括在該氣體一奉自 身內的是混合歧管314，其一般組合來自於每個適當氣體棒的氣流， 並通過噴射器316將混合後的氣體導入到等離子體室318中。
但是，在氣體分配系統中，流量部件相對於彼此的密度也易於 使單個的氣體棒防激活產生問題，尤其是在氣體棒進氣閥處。在一 種典型的配置中，如果員工想要親身進入該氣體分配系統(例^口， 作為工具組裝工藝的 一部分，或者為了將等離子體處理系統與用戶 製造設備集成)， 一般必須將所有的等離子體氣體關閉，然後排出。 該排出工藝會進一步加劇，這是因為用於被輸送到進氣閥中(在進 入氣體棒之前)的氣體的等離子體氣體截止裝置可能並不有形地
(physically)位於等離子體系統中。因此，員工可能需要浪費時間 來到該等離子體氣體截止裝置處，或者員工可能需要與另 一員工協 作來4故同樣的事情。因此，這不利於迅速並安全地關閉單個氣體棒 以1"更解決問題或測試氣流。
綜上所述，期望有 一 種用於氣體傳輸系統的優化的防激活組件。

發明內容
在一個實施例中，本發明涉及一種用於氣體傳輸系統的優化的 防激活組件。該裝置包括氣動，喿作閥組件。該裝置還包括4幾械地連
4妻於該氣動才喿作閥組件的肘節(toggle)開關，該肘節開關包^fe肘節 臂，該肘節臂位於激活區和反激活(deactivation)區中的一個內， 其中當該肘節臂位於該激活區中時激活該氣動操作閥被，而當該肘 節臂位於該反激活區中時反激活該氣動操作閥。該裝置進一步包括 連才妄於該肘節開關的防激活才幾構，其中該防激活4幾構;故配置為用於 防止該肘節臂在未能至少繞過該優化的防激活機構的上鎖功能的 情況下糹皮乂人該反激活區重新置位到該激活區。
在一個實施例中，本發明涉及一種在氣體傳輸系統中防止氣動 操作閥組件激活的方法。該方法包括提供該氣動操作閥組件。該方 法還包括將肘節開關連接於該氣動操作閥組件，該肘節開關包括肘 節臂，該肘節臂位於激活區和反激活區中的一個內，該肘節開關4皮 進一步配置成以《更當該肘節開關位於該激活區中時激活該氣動才喿 作閥，而當該肘節臂^立於該反激活區中時反激活該氣動才乘作閥。該 方法進一步包糹舌將防激活一幾構連4妄於該肘節開關，該防激活一幾構一皮 配置為用於防止該肘節臂在未能至少繞過該優化的防激活才幾構的 上鎖功能的情況下被從該反激活區重新置位到該激活區。
在一個實施例中，本發明涉及一種用於在氣體傳輸系統中防止 氣動操作閥組件激活的裝置。該裝置包括用於提供該氣動操作閥組 件的裝置。該裝置還包括將肘節開關連接於該氣動操作閥組件的裝 置，該肘節開關包括肘節臂，該肘節臂位於激活區和去激活區中的 一個內，該肘節開關進一步4皮配置成以^更當該肘節開關位於該激活
區中時激活該氣動操作閥，而當該肘節臂位於該反激活區中時反激 活該氣動才喿作閥。該裝置進一步包括用於將防激活才幾構連4妾於該肘 節開關的裝置，該防激活機構被配置為用於防止在未能至少繞過該 優化的防激活4幾構的上鎖功能的情況下將該肘節臂從該防激活區 重新置位到該激活區。
下面，將結合附圖在本發明的詳細i兌明中更詳細描述本發明的 這些和其它4爭點。


通過附圖的圖示對本發明進4亍了作為實例目的而非限制目的
的i兌明，並且附圖中相似的參考標號表示相似的元件，其中
圖l示出了感應耦合等離子體處理系統的簡化示意圖； 圖2示出了電容耦合等離子體處理系統的簡化示意圖； 圖3示出了氣體棒的簡化示意圖4示出了根據本發明一個實施例的簡化的上鎖/掛籤工序；
圖5示出了根據本發明 一 個實施例的集成在氣動操作閥中的優 化的防激活組件的簡化示意圖6示出了根據本發明一個實施例的優化的防激活組件的簡化 示意圖糹且；
圖7示出了才艮據本發明一個實施例的在氣體傳輸系統中防止氣 動^操作閥組件的激活的簡化方法。
具體實施例方式
現在將參照如附圖中所示的本發明的 一些優選實施例來詳細 描述本發明。在以下的描述中，將闡明許多具體細節以^是供對本發 明的透徹的理解。然而，對於本領域的技術人員而言，顯然，本發
下，為了避免不必要地混淆本發明，未對已知的工藝步驟和/或結構
進^S羊糹田4苗述。
一般地，如前所述，工人安全條例往往規定等離子體處理製造 設備包括防激活能力，諸如上鎖/掛籤機構。上鎖裝置一般為使用強 制性裝置(諸如，鑰匙型或組合型鎖)將能量隔離裝置保持在安全 位置中的一種裝置。掛籤裝置一般為任何顯眼的警告裝置(諸如標
籤和貼附裝置)，其能夠才艮據i殳定的工序而-皮牢固:l也固定於能量隔
離裝置。
但是，氣體棒密度易於使單個氣體棒的防激活產生問題，特別 是在氣體才奉進氣閥處。不同於通常所4吏用的利用手動閥(能量隔離 裝置)直接阻止等離子體氣流的氣體棒上鎖/掛籤技術，本發明以非 顯而易見的方式通過手動地反激活氣動操作閥來間接阻止等離子 體氣流。即，手動地阻止流向氣動操作閥的壓縮氣流使得該閥被反 激活(關閉)，這進而有效阻止了氣體棒內的等離子體氣流。由此， 上鎖/掛籤機構與氣動操作閥的集成可允許保持氣體棒部件的密度， 同時，通過允許單獨且快速地鎖住和/或標記每個氣體才奉而充分4是高 員工安全。
在一個實施例中，在氣體一奉進氣閥上有利地應用了優化的防激 活組件。在一個實施例中，該優化的防激活組件包括上鎖才幾構。在 一個實施例中，該優化的防激活組件包括掛籤才幾構。上鎖一幾構一般
允許連接鎖，以將裝置》文置於安全位置中，而掛籤4幾構可才是示職工 關於該鎖的存在。
儘管通常為條例所要求，但本發明不要求將鎖和標籤同時都添 加於優化的防激活組件。在一個實施例中，優化的防激活組件糹皮集 成在手動氣體棒進氣閥中。在一個實施例中，優化的防激活組件一皮 集成在氣動才喿作閥中，A^而該優化防激活組件的上鎖/掛籤才幾構的4妄 合阻止壓縮氣體激活該氣動l喿作閥。在一個實施例中，該氣動才乘作
閥為IGS (集成氣體系統)閥。
現參照圖4，示出了^r艮據本發明一個實施例的簡化的上鎖/掛籤
工序。在步-驟402處，準備關閉等離子體處理系統。 <接下來，在步 驟404處，實際關閉等離子體處理系統。接下來，在步驟406處， 將等離子體處理系統與氣體源隔離(例如，通過關閉進氣閥，等)。 接下來，在步驟408處，將上鎖/掛籤裝置添加到能量隔離裝置(例 如，進氣閥，等)。接下來，在步驟410處，安全地釋放所有潛在 危險的存儲或殘留能量(例如，通過排放該等離子體棒中的任何氣 體，等)。最後在步驟412處，在開始維^奮或維護工作之前，核實 等離子體處理系統與氣體源的隔離。
現參照圖5，示出了#4居本發明實施例的集成於氣動4喿作閥中 的優化的防激活組件的簡化示意圖。在一個實施例中，該閥是集成 的表面安裝閥。 一般地，集成的表面安裝部件為氣體控制部件(例 如，閥、過濾器，等)，其通過基片組件(該氣體控制部件安裝於 其上)上的通道連4妻於其它氣體控制部件。這與一^L通過具有VCR 附件(真空耦合環)的大體積管道而連接的氣體控制部件大不相同。
在一個實施例中，該閥為氣體衝奉進氣閥。在一個實施例中，該 閥為IGS閥。在基片組件(未示出)上典型地安裝有歧管組件502, 氣動才乘作閥506通過轉4妾頭504連4妄於該^支管組件。在一個實施例
中，專爭4妄頭504具有螺紋。在一個典型的配置中，壓力聯結器508 允許壓縮氣體管路(未示出)通過轉接頭配件510連接到氣動操作 閥506。即，當壓縮氣體通過轉接頭配件510進入氣動才乘作閥506 時，閥才幾構被^妻合，乂人而允i午氣體流入該氣體才奉。
在一個實施例中，轉接頭510具有螺紋。進一步連接於轉接頭 510的是手動截止開關512和上鎖/桂籤機構514。當手動截止開關 512一皮肘節臂516"l妾合時，壓縮氣體糹皮阻止，乂人而〗吏氣動4喿作閥506 不起作用，並阻止氣體棒內的等離子體氣流。另外，手動截止開關 512還可包括排氣口， /人而允許原先在氣動」搡作閥506中的壓縮氣 體在手動截止開關512的接合之前一皮排出。即，可4吏氣動才喿作閥506 內的壓力與氣動操作閥506外部的壓力基本相等。另夕卜，因此可將 鎖和/或標籤添加至上鎖/掛籤機構514，以便充分保證等離子體處理 系統的安全維護。在一個實施例中，優化的防激活組件被配置為4吏 早期或偶然去除最小化。即，如果不首先移除該鎖和/或標籤，氣動 才喿作閥506將不會糹皮激活，否則將大大損壞該優化的防激活組件。 在一個實施例中，該鎖為不可重複使用的。在一個實施例中，該鎖 可手動連4妻。在一個實施例中，該鎖為自鎖性的。在一個實施例中， 該鎖為不可打開的。在一個實施例中，該標籤為一件式(one-piece) 尼龍纜索帶。在一個實施例中，標籤上標有以下內容中的一種"不 準開啟"、"不準打開"、"不準關閉"、"不準激勵"和"不準操作"。
現參考圖6，示出了根據本發明一個實施例的圖5中優化的防 激活組件514的簡化示意圖組。 一般地，可通過孔608插入肘節臂， 從而將肘節臂(未示出)夾在面板604a與604b之間。上鎖/掛籤才幾 構514進一步包括反激活區614以及激活區612，從而當肘節臂(未 示出)位於反激活區614 U吏如圖5所示的氣動才喿作閥3皮反激活) 並且通過通道606i殳置鎖時，如果不繞過(bypass)上鎖"圭籤才幾構
514(例如，撕開面板604a和604b、移除鎖、彎曲該上鎖/掛籤才幾 構，等)，肘節臂(未示出)就不能被重新設置於激活區612。
現參照圖7，顯示了才艮據本發明一個實施例在氣體傳輸系統中 防止氣動操作閥組件激活的簡化方法。首先，在步驟702處，提供 氣動操作閥組件。接下來，在步驟704處，將肘節開關連接於該氣 動操作閥組件，該肘節開關包括肘節臂，該肘節臂位於激活區和反 激活區中的一個內。最後，在步驟706處，將防激活才幾構連4妄於該 肘節開關。
儘管已根據多個優選的實施例對本發明進行了描述，但仍存在 有落入本發明範圍內的改變、置換、和等同物。例如，儘管結合Lam Research等離子體處理系統(例如，Exelan 、 ExelanTM HP 、 ExelanTMHPT、 2300 、 Versys Star,等)對本發明進行了描述， 但還可使用其它等離子體處理系統。本發明還可用於各種直徑的基 片(例如，200 mm、 300 mm等)。另外可4吏用4壬4可類型的氣動才喿作 閥。還應當注意，存在多種實施本發明方法的替換方式。
本發明的優點包括避免了非優化的氣體傳輸系統所涉及的費 用，其中如果員工想要親身進入該氣體傳輸系統內以便進行維修、 組裝或集成操作，那麼 一般必須將所有的等離子體氣體截止然後排 出。其它的優點包括允許保持氣體棒部件的密度，同時，通過允許 單獨且快速地鎖定和/或標記每個氣體一奉而充分4是高員工安全。
儘管已經公開了示例性實施例和最佳模式，但是在保持處於如 以下權利要求所限定的本發明的主旨和精神的範圍內的同時，可對 公開的實施例做出修改和變化。
權利要求
1.一種用於氣體傳輸系統的優化的防激活組件，包括氣動操作閥組件；肘節開關，機械地連接於所述氣動操作閥組件，所述肘節開關包括肘節臂，所述肘節臂位於激活區和反激活區中的一個內，其中，當所述肘節臂位於所述激活區中時激活所述氣動操作閥，而其中當所述肘節臂位於所述反激活區中時反激活所述氣動操作閥；以及防激活機構，連接於所述肘節開關，其中，所述防激活機構被配置為用於防止所述肘節臂在未能至少繞過所述優化的防激活機構的上鎖功能的情況下被從所述反激活區重新置位到所述激活區。
2. 根據權利要求1所述的裝置，其中，所述防激活機構為上鎖/ 掛籤組件。
3. 根據權利要求1所述的裝置，其中，所述氣動操作閥組件連接 於基片組件。
4. 根據權利要求1所述的裝置，其中，所述上鎖裝置為自鎖、不 可重複4吏用、可手動連接以及不可打開中的一種。
5. 根據權利要求1所述的裝置，其中，所述上鎖裝置為一件式尼龍纜索。
6. 根據權利要求1所述的裝置，其中，所述氣動操作閥組件為IGS閥。
7. —種在氣體傳輸系統中防止氣動操作閥組件激活的方法，所述 方法包4舌以下步艱《提供所述氣動操作閥組件；將肘節開關連接於所述氣動操作閥組件，所述肘節開關 包括肘節臂，所述肘節臂位於激活區和反激活區中的一個內， 所述肘節開關進一步一皮配置為以Y更當所述肘節開關位於所述 激活區中時激活所述氣動才乘作閥，而其中當所述肘節臂位於所 述反激活區中時反激活所述氣動4喿作閥；以及將防激活才幾構連4妻於所述肘節開關，所述防激活才幾構被 配置為用於防止所述肘節臂在未能至少繞過所述優化的防激 活^L構的上鎖功能的情況下^皮^v所述反激活區重新置位到所述激活區。
8. 4艮據一又利要求7所述的方法，其中，所述防激活才幾構為上鎖/ 掛籤組件。
9. 根據權利要求7所述的方法，其中，所述氣動操作閥組件連接 於基片組件。
10. 根據權利要求7所述的方法，其中，所述上鎖裝置為自鎖、不 可重複使用、可手動連接以及不可打開中的一種。
11. 根據權利要求7所述的方法，其中，所述上鎖裝置為一件式尼龍纜索。
12. 根據權利要求7所述的方法，其中，所述氣動操作閥組件為 IGS閥。
13. —種用於在氣體傳輸系統中防止氣動操作閥組件激活的裝置， 包括用於提供所述氣動操作閥組件的裝置；用於將肘節開關連接於所述氣動操作閥組件的裝置，所 述肘節開關包括肘節臂，所述肘節臂位於激活區和反激活區中 的一個內，所述肘節開關進一步被配置為以便當所述肘節開關 位於所述激活區中時激活所述氣動才喿作閥，而其中當所述肘節 臂位於所述去激活區中時反激活所述氣動l喿作閥；以及用於將防激活機構連接於所述肘節開關的裝置，所述防 激活機構被配置為用於防止所述肘節臂在未能至少繞過所述 優化的防激活^L構的上鎖功能的情況下,皮A/v所述反激活區重 新置位到所述激活區。
14. 根據權利要求13所述的裝置，其中，所述防激活機構為上鎖/掛籤組件。
15. ^^艮據^L利要求13所述的裝置，其中，所述氣動操作閥組件連 接於基片組件。
16. 根據權利要求13所述的裝置，其中，所述上鎖裝置為自鎖、 不可重複4吏用、可手動連4妻以及不可打開中的一種。
17. 根據權利要求13所述的裝置，其中，所述上鎖裝置為一件式尼龍纜索。
18. 根據權利要求13所述的裝置，其中，所述氣動操作閥組件為 IGS閥。
全文摘要
本發明公開了一種用於氣體傳輸系統的優化的防激活組件。該裝置包括氣動操作閥組件。該裝置還包括機械地連接於該氣動操作閥組件的肘節開關，該肘節開關包括肘節臂，該肘節臂位於激活區和反激活區中的一個內，其中當該肘節臂位於該激活區時激活該氣動操作閥，而當該肘節臂位於該反激活區時反激活該氣動操作閥。該裝置進一步包括連接到該肘節開關的防激活機構，其中該防激活機構被配置為防止該肘節臂在未能至少繞過該優化的防激活機構的上鎖功能的情況下被從該反激活區重新置位到該激活區。
文檔編號F16K35/00GK101194123SQ200680020364
公開日2008年6月4日 申請日期2006年6月6日 優先權日2005年6月10日
發明者馬克·塔斯卡爾 申請人:朗姆研究公司