一種凹凸面陶瓷產品及其製備方法
2023-09-22 08:31:55 1
專利名稱：一種凹凸面陶瓷產品及其製備方法
技術領域：
本發明涉及一種建築裝飾材料及其製備方法，特別涉及一種凹凸面陶瓷產品及其製備方法。
背景技術：
陶瓷產品因其吸水率低，強度硬度高、結構緻密、耐磨、產品理化性能優越而廣泛應用於家裝和建築領域。凹凸面陶瓷產品具有仿天然凹凸紋理的特點更深得消費者的喜愛。現有技術製作的凹凸面陶瓷產品以通過凹凸模具壓製出來的凹凸面，紋理過於生硬，缺乏自然的質感；而現有淋漿工藝技術製作的陶瓷產品缺乏變化，只能做到平面式的淋漿效果。
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CN1274633C公開一種鍍金屬拋釉陶瓷製品及其製作工藝，通過先在矽坯上面製作圖案層，而後在圖案上鋪撒熔塊粉、並便熔塊粉之間留空形成凹槽、在凹槽內鍍上金屬層，以此製備立體感強的陶瓷製品。但其仍然是通過機械方式形成凹槽，紋理生硬、缺乏自然質感。
發明內容
本發明的目的在於克服現有技術的不足，提供一種既有凹凸面效果的，又有淋漿細膩質感的仿天然紋理陶瓷產品及其製備方法。本發明提供的凹凸面陶瓷的製備方法，包含將具有疏水性的有機物與陶瓷釉料按重量比I : 0. 3 3製備成憎水花釉，並將其按所需圖案通過印刷工序印刷到預先製備的坯體表面形成花釉層，再以淋漿布料方式施加麵漿製得半成品，半成品經乾燥後進窯高溫燒成製得具有凹凸表面的陶瓷製品。需要說明的是，在本發明中，無論是權利要求還是說明書中述及的原料百分比，如無特別說明，均指質量百分比。本發明的方法通過利用疏水劑的憎水功能及淋漿布料方式在磚坯表面形成具有凹凸面的特殊裝飾效果。包括疏水性有機物的憎水花釉形成的花釉層起到阻隔麵漿漿料的作用。而淋漿方式形成的麵漿層具有質感細膩，圖案流動自然、防汙好的特點，從而製得具有凹凸的手感，更能完美體現天然石材的質感，形成具有一定深度、圖案紋理可控、拐角圓潤的凹凸效果產品，是一種全新的建築陶瓷裝飾工藝方法。本發明優選地選用接觸角大於90度的疏水性有機物作為製備憎水花釉的原料。優選地以有機矽醇、石蠟、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、過氯乙烯樹月旨、含氟樹脂等具有防水功能的有機物作為本發明的疏水性有機物。在將憎水花釉按所需圖案通過印刷工序印刷到預先製備的坯體表面形成花釉層，較佳地，所述花釉層的厚度為0. 2 I. 0mm。該厚度依疏水劑、印刷的圖案等會有不同的選擇。並選擇合適的厚度有助於實現好的凹凸效果。此外，憎水花釉的釉漿比重優選為I. I I. 5g/cm3。選擇合適的釉漿比重有助於控制磚坯上釉面的厚度。且依疏水劑、印刷的圖案等也會有所不同。此外，優選地，本發明中憎水花釉的釉漿中還可包括用於調節釉漿流動性的稀釋劑，例如乙二醇，丙三醇，丁二醇，丙醇等。優選地稀釋劑用量質量百分比為5 15%。 本發明選擇以淋漿布料方式在帶有花釉層的磚坯表面施加麵漿層。該麵漿層的厚度優選為I. 0 4. 0_。應理解，本發明述及的麵漿層的厚度是始於坯體層，即不包括在坯體上印刷的釉面層的厚度。並應理解，這裡的高度是指燒制前的高度。此外麵漿比重優選為I. 75 I. 85g/cm3。選擇該濃度可容易地製得表面具有明顯凹凸效果的陶瓷產品。優選地，在印刷工序中，通過絲網或輥筒印刷將拒水花釉印刷到磚坯表面，再以淋漿方式施加麵漿層。當漿料淋到磚坯上後，由於磚坯表面防水層的存在以及漿面自流平的共同作用下，漿料將會避開具有憎水功能的花釉層。經二次乾燥後再高溫燒成，憎水花釉層中包括的有機物將會燒失，不會對磚面造成影響。將經過所述印刷工序、淋漿工序以及乾燥工序後製得的具有花釉層、麵漿層的半·成品，優選在1150 1250°C進窯高溫煅燒60 90min，從而製得具有凹凸表面的陶瓷成品。憎水花釉可以根據需要選擇使用啞光釉、光亮釉、閃光釉、珠光釉、金屬釉等釉料。且應理解，麵漿層使用的漿料可選擇使用釉料，可選擇與花釉層同一類型的釉料，也可選擇不同類型的釉料，這些根據要求的圖案、紋理等不同來確定。本發明製得凹凸面陶瓷產品具有仿天然凹凸紋理的特點。產品表面的凹凸變化可依據印刷圖案、釉層厚度、濃度等不同而不同。較佳地，經高溫燒制後的本發明陶瓷產品其凹面與凸面的最大高度差可達3. 3mm，且所述凹面與凸面無縫平滑過渡。本發明的有益效果是通過該生產方法製備的產品除了擁有淋漿面質感細膩，圖案流動自然、防汙好的特點，還擁有凹凸的手感，更能完美體現天然石材的質感，極大地提聞了廣品檔次。
圖I為本發明凹凸面陶瓷產品的效果示意 其中
I為憎水花釉層；
2為面眾層；
3為磚還層。
具體實施例方式參照說明書附圖，並結合下述實施方式進一步說明本發明，應理解，說明書附圖及下述實施方式僅用於說明本發明，而非限制本發明。陶瓷製品包括釉面磚和無釉磚,本發明主要涉及釉面磚。釉面磚表面可以做各種圖案和花紋，相比無釉拋光磚，釉面磚色彩和圖案更加豐富。根據原材料的不同，釉面磚可以分為陶製釉面磚和瓷製釉面磚兩大類。陶製釉面磚，由陶土燒制而成，吸水率較高，強度相對較低。瓷製釉面磚，由瓷土燒制而成，吸水率較低，強度相對較高。要注意的是，上面所說的吸水率和強度的比較都是相對的，也有一些陶製釉面磚的吸水率和強度比瓷製釉面磚高。坯料和釉料的原材料選擇通常依需要的製品而定。釉面陶瓷磚生產過程，公知的通常包括料製備工序、素坯成型工序、上面釉工序、印花工序以及燒成工序。成型製得的素坯在施釉之前通常還需要進行乾燥使之含水率小於1.5%。一般通過淋、撒、噴等方式布上面釉。上面釉後進行印花工序，印花可以是多道印花，可以是絲網或滾筒印花，以此在磚坯上形成花釉層。印花後通常還需要經過二道乾燥工序再入窯燒成。燒成溫度和燒成時間根據坯、釉料的原料及其配比確定。燒成制度對釉面發生的缺陷也有較大的影響。冷卻帶冷、熱配比要適當，正確掌握不同階段的溫度與氣氛要求。防止因氧化不足，還原氣氛過強，還原時間過長等而使製品煙燻。溫度也要控制在釉料所允許的溫度範圍內或提高溶劑的熔融溫度。在上釉時要適當選擇釉漿的濃度。釉漿的濃度過小，則在坯體上容易形成釉層的過薄，造成燒成製品釉面上的痕跡粗糙，而且燒後的釉面光澤不良。但如釉漿的濃度太大，不但施釉操作不易掌握，且坯體內部有稜角的地方往往上不到釉。施釉後釉面較易開裂，燒後在制品表面上可能產生堆釉等現象。釉料的細度也應適當控制，釉料的粉碎過細，則釉漿粘力過大，含水量過多，在乾燥的坯體施釉後，釉面容易發生龜裂，釉層翹起與坯體脫離等現象。如果施釉較厚，這種缺陷更明顯。但如釉料的粉碎不足，則釉漿粘附力過小，釉中的組分容易沉降。而且釉層與坯體的附著不牢固。本發明涉及一種凹凸面陶瓷產品及其製備方法。現有技術製作的凹凸面陶瓷產品以通過凹凸模具壓製出來的凹凸面，紋理過於生硬，缺乏自然的質感。而現有淋漿工藝技術製作的陶瓷產品缺乏變化，只能做到平面式的淋漿效果。本發明提供的凹凸面陶瓷的製備方法，利用疏水劑疏水功能及淋漿布料方式在磚坯表面形成凹凸面特殊裝飾效果。其具體步驟為將疏水劑與具有特殊效果的釉料一起製成憎水花釉，按所需的圖案通過絲網或輥筒印刷到磚坯表面，固化形成防水層後再淋麵漿，經乾燥後進窯燒成。示例地，本發明的製備方法可以包括以下步驟1、按所需配比製備釉料、麵漿料，
2、在釉料中添加疏水劑製備憎水花釉，3、按所需圖案通過印刷工序將憎水花釉印刷到預先製備的坯體表面形成帶花釉的磚坯，4、使所述磚坯乾燥後以淋漿布料方式在施加麵漿層製得半成品，5、半成品經乾燥後進窯高溫燒成製得具有凹凸表面的陶瓷製品。本發明疏水劑可以是有機矽醇、液體石蠟、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚氨酯樹月旨、過氯乙烯樹脂、含氟樹脂等具有疏水功能的有機物。疏水劑與釉料的重量比I : 0.3
3。當漿料淋到磚坯上後，由於磚坯表面防水層的存在以及漿面自流平的共同作用下，漿料將會避開具有憎水功能的花釉層，拐角在少量的液相作用下變得圓潤，形成自然凹凸效果。且經高溫燒成，憎水花釉層中包括的有機物將會燒失，不會對磚面造成影響。本發明在坯體表面的印花工序優選使用絲網或輥筒印花，這樣製成的釉層圖案豐富多樣。以此依本發明的方法形成的具有凹凸面的陶瓷產品其凹凸圖案也可以豐富多樣。憎水花釉的釉眾比重可以為I. I I. 5g/cm3。花釉層厚度可以為0. 2 I. 0mm。面眾比重可以為I. 75 I. 85g/cm3。面眾層的厚度可以為I. 0 4. 0mm。選擇合適的厚度 和/或濃度有助於實現好的凹凸效果。本發明製得凹凸面陶瓷產品具有仿天然凹凸紋理的特點。產品表面的凹凸變化可依據印刷圖案、釉層厚度、濃度等不同而不同。較佳地，經高溫燒制後的本發明陶瓷產品其凹面與凸面的最大高度差可達3. 3mm,且所述凹面與凸面無縫平滑過渡。以下以有機矽醇為例進一步說明本發明的凹凸面陶瓷產品的製備方法。有機矽醇的主要成份是甲基矽醇鈉，在水和二氧化碳作用下，生成甲基矽醇。上述反應生成的矽醇基(一Si-OH)很活潑，一方面能進一步反應，縮合成高分子化合物-網狀有機娃樹酯膜(體型結構具有憎水性)。另一方面由於娃酸鹽建築材料表面含有很多娃醇基，這些矽醇基能與防水劑的矽醇基反應脫水交聯，而使其表面鍵合上烴基，從而使其結構完全同於有機矽樹脂，降低表面張力，使水的接觸角增大，實現「反毛細管效應」，即形成所謂憎水層。按以下製作陶瓷生坯體周山砂22%，中溫白砂20%，低溫鈉砂18%，風化鉀砂18%，水洗純泥12%，白球土 10%。控制250目篩餘0. 8%，噴霧制粉，再經常規壓機壓製成型。按以下製作憎水花釉有機矽醇疏水劑50%，325目高光熔塊粉(製造商佛山市遠·泰陶瓷化工有限公司，產品型號YT2508) 40%，稀釋劑乙二醇10%混合均勻。按以下製作麵漿鉀長石20 35%，鈉長石15 25%，中溫砂10 20%，黑泥8 10 %，方解石0 5 %，燒滑石5 10 %，煅燒高嶺土 10 15 %。控制麵漿濃度比重I. 8g/cm3, 250 目篩餘 0.8%。將上述成型的坯體經過乾燥窯第一次乾燥後，把憎水花釉按照選定的圖案設計通過絲網印刷到乾燥坯體上，形成的花釉層厚度為0. 2 I. 0mm，用淋釉器進行淋漿，麵漿堆積厚度為I. 0 4. 0mm，然後進行第二次乾燥，再經過1220°C高溫燒成約70min，製得具有凹凸面效果的陶瓷產品。測試其表面凹凸效果，凹面與凸面的最大高度差約為3. 3mm。以上以有機矽醇為例說明了本發明的製備方法，但應理解採用具有疏水功能的有機物，例如石蠟、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、過氯乙烯樹脂、含氟樹脂等，依據本發明的方法同樣能夠製得本發明具有凹凸效果的陶瓷產品。本發明的方法克服了現有技術中通過凹凸模具壓製出來的凹凸面，紋理過於生硬，缺乏自然的質感的缺點。通過本發明的方法製備的產品除了擁有淋漿面質感細膩，圖案流動自然、防汙好的特點，還擁有凹凸的手感，更能完美體現天然石材的質感，極大地提高了產品檔次。
權利要求
1.一種凹凸面陶瓷的製備方法，其特徵在於，包含將具有疏水性的有機物與陶瓷釉料按重量比I : O. 3 3製備成憎水花釉，並將其按所需圖案通過印刷工序印刷到預先製備的坯體表面形成花釉層，再以淋漿布料方式施加麵漿製得半成品，半成品經乾燥後進窯高溫燒成製得具有凹凸表面的陶瓷製品。
2.根據權利要求I所述的製備方法，其特徵在於，所述具有疏水性的有機物其接觸角大於90度。
3.根據權利要求I或2所述的製備方法，其特徵在於，所述有機物為有機矽醇、石蠟、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、過氯乙烯樹脂和/或含氟樹脂。
4.根據權利要求I至3中任一項所述的製備方法，其特徵在於，所述磚坯憎水花釉層厚度為O. 2 I. 0mm。
5.根據權利要求I至4中任一項所述的製備方法，其特徵在於，所述憎水花釉的釉漿比重為 I. I I. 5g/cm3。
6.根據權利要求I至5中任一項所述的製備方法，其特徵在於，所述印刷工序為絲網印刷或輥筒印刷。
7.根據權利要求I至6中任一項所述的製備方法，其特徵在於，以淋漿布料方式形成的所述面眾層的厚度為I. O 4. 0mm。
8.根據權利要求I至7中任一項所述的製備方法，其特徵在於，麵漿比重為I.75 I.85g/cm3。
9.根據權利要求I至8中任一項所述的製備方法，其特徵在於，所述憎水花釉的釉漿中還包括可用於調節流動性的稀釋劑。
10.一種凹凸面陶瓷產品，其特徵在於，根據權利要求I至9中任一項所述的製備方法製備而成。
11.根據權利要求10所述的凹凸面陶瓷產品，其特徵在，於凹面與凸面的最大高度差為3. 3mm，且所述凹面與凸面無縫平滑過渡。
全文摘要
本發明涉及一種凹凸面陶瓷產品及其製備方法，包含將具有疏水性的有機物與陶瓷釉料按重量比1∶0.3～3製備成憎水花釉，並將其按所需圖案通過印刷工序印刷到預先製備的坯體表面形成花釉層，再以淋漿布料方式施加麵漿製得半成品，半成品經乾燥後進窯高溫燒成製得具有凹凸表面的陶瓷製品。本發明的方法可製得具有凹凸的手感，更能完美體現天然石材的質感，形成具有一定深度、圖案紋理可控、拐角圓潤的凹凸效果產品。
文檔編號C04B41/89GK102786325SQ201210293219
公開日2012年11月21日 申請日期2012年8月17日 優先權日2012年8月17日
發明者劉一軍, 汪慶剛, 潘利敏, 潘炳宇, 趙勇 申請人:廣東蒙娜麗莎新型材料集團有限公司