加熱裝置、玻璃製造裝置及玻璃製造方法
2023-09-22 10:26:25
專利名稱：加熱裝置、玻璃製造裝置及玻璃製造方法
技術領域：
本發明涉及一種用於對流出熔融玻璃的流^各進行加熱的加熱裝置、玻 璃製造裝置及玻璃製造方法。
背景技術：
普通的熔融玻璃供給裝置中，具備收納熔融玻璃的保持容器，且在該 保持容器上設有流路。由此，使保持容器內的熔融玻璃從流路向外部流出。
在此，當流路的溫度較^氐時，位於流路的內壁附近的熔融玻璃受到重 度冷卻，另一方面，位於遠離內壁的中心部的熔融玻璃的冷卻程度卻為輕 微。因此，從流i 各流出的熔融玻璃內的溫度分布變得不均勻，所以會導致 條紋的產生。另外，玻璃產生結晶，這樣一來，還會導致所製造的玻璃制 品的光學特性下降。
因此，採用以下對策在流路的周圍配置加熱器，利用此加熱器來對 流路進行加熱(例如專利文獻1 ~ 3 )。日本專利特開平8-109028號公才艮 [專利文獻2]日本專利特開平8-133751號公報 [專利文獻3]日本專利特開2002-348124號公報
發明內容
然而，專利文獻1 3所示的構成中，無法充分地抑制條紋的產生以及 光學特性的下降。本發明者們發現了其主要原因在於流路前端的溫度急劇 下降。
為了進一步對流路的前端進行加熱，也考慮了使加熱器物理性地接觸 流路的對策。然而，此對策有可能會導致熔融玻璃不從流3各的前端落下而 是流向加熱器。 一旦開始流向加熱器，熔融玻璃就會因其高粘性而難以重 新自然地落下。因此，可預想到的是，必須頻繁地進行用於使熔融玻璃重 新落下的維護。
本發明是鑑於以上情況而完成的，本發明的目的在於提供一種能夠充 分地抑制條紋的產生及光學特性的下降、且能夠4^維護負擔的加熱裝置、玻 璃製造裝置及玻璃製造方法。
本發明者們發現將高溫的被加熱面配置成朝向流路的前端及其下方且 與其相隔，使得流路前端的溫度下降得到大幅緩和，從而完成本發明。具體而言，本發明是提供以下內容。
本發明的目的及解決其技術問題是採用以下技術方案來實現的。依據 本發明提出的一種用於對流出熔融玻璃的流路進行加熱的加熱裝置，其包
括內壁，形成著可供上述流路的前端插入的插入孔；加熱機構，對該內
壁進行加熱；高輻射部，由高放射率材料構成，且上述高輻射部配置成朝
向上述流路的前端及其下方且與其相隔。
本發明的目的及解決其技術問題還可採用以下技術措施進一步實現。 前述的加熱裝置，上述高輻射部設於上述內壁的表面。 前述的加熱裝置，上述高輻射部與上述內壁相隔而設置，且配置成位
於上述內壁與上述流路的前端及其下方之間。
前述的加熱裝置，上述高輻射部設置成遍及上述內壁的整個周向。 前述的加熱裝置，上述高輻射部在上述內壁的延伸方向上具有大致固
定的尺寸。
前述的加熱裝置，上述高輻射部設置在上述內壁的延伸方向上的大致 固定的範圍內。
前述的加熱裝置，其中上述高輻射部具有朝內側突出的突出部。 前述的加熱裝置，還包括由高傳導性材津+構成且受到加熱的高傳導，上 述高傳導部可導熱地連接於上述流路的基端側。
前述的加熱裝置，上述高傳導部是上述內壁的一部分、或者是可導熱 地連接於上述內壁的部分。
前述的加熱裝置，上述高傳導部是與上述內壁可導熱地連接的非內壁 部分。
前述的加熱裝置，上述高放射率材料具有0. 4以上的放射率。 本發明的目的及解決其技術問題還採用以下技術方案來實現。依據本 發明提出的一種玻璃製造裝置，其包括流出熔融玻璃的流路、根據本發明 記載的加熱裝置、及成形模，上述高輻射部配置成朝向上述流路的前端及 其下方且與其相隔，上述成形才莫對乂人上述流^各流出的熔融3皮璃進4亍成形。
本發明的目的及解決其技術問題另外再採用以下技術方案來實現。依 據本發明提出的一種光學元件的製造裝置，包括所述的玻璃製造裝置；及 對以該玻璃製造裝置製造的玻璃進行精密擠壓的精密擠壓裝置。
本發明的目的及解決其技術問題另外還採用以下技術方案來實現。依 4居本發明提出的一種玻璃製造方法，是/人流^各的前端流出熔融3皮璃並製造 玻璃的玻璃製造方法，將受到加熱的被加熱面配置成朝向上述流路的前端 及其下方且與其相隔，且具有對上述被加熱面進行加熱的步驟。
本發明的目的及解決其技術問題還可採用以下技術措施進一 步實現。 前述的玻璃製造方法，在上述被加熱面上設置由高放射率材料構成的高輻射部，將此高輻射部配置成朝向上述流路的前端及其下方，且具有對 上述高輻射部進行加熱的步驟。
前述的玻璃製造方法，作為上述高放射率材料，使用具有0.4以上的 放射率的材料。
前述的玻璃製造方法，將上述高輻射部配置成遍及上述流路的整個周向。
前述的玻璃製造方法，將上述高輻射部以大致固定的尺寸配置在上述 流3各的延伸方向上。
前述的玻璃製造方法，將上述高輻射部配置在上述流路的延伸方向上 的大致固定的範圍內。
前述的玻璃製造方法，上述被加熱面配置成朝上述流路的前端及其下 方突出。
前述的玻璃製造方法，將由高傳導性材料構成的高傳導部可導熱地連 接於上述流路的基端側，且還具有對上述高傳導部直接地或間接地進行加 熱的步驟。
前述的玻璃製造方法，將上述高傳導部配置在上述被加熱面的一部分 上、或者是可導熱地連接於上述被加熱面的部分上。
前述的玻璃製造方法，將位於不朝向上述流路的非對面部位上的上述 高傳導部可導熱地連接於上述流路的基端側。
本發明的目的及解決其技術問題更還可採用以下技術措施進一步實現。
一種光學元件製造方法，具有對上述所述的玻璃製造方法所製造的玻 璃進行精密擠壓成形的步驟。 [發明妁效果-]
衝艮據本發明，高輻射部與流路相隔而配置，因此假定熔融玻璃不會流向 加熱裝置。另外，當由加熱機構進行加熱時，從高輻射部輻射出大量的熱能。 此處，高輻射部配置成朝向流路的前端及其下方，因此大量的熱能從側方 及下方的各方向到達流路的前端。由此，即便加熱裝置與流路相隔，亦可
有效地對流3各的前端進行加熱，從而溫度下降得到大幅i爰和。
由此，能夠充分地抑制條紋的產生及光學特性的下降、且能夠減輕維 護的負擔。
上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發明的 技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，並且為了讓本發明的上述和 其他目的、特徵和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，並配合附 圖，詳細i兌明如下。
圖1是本發明的第1實施結構中的加熱裝置的簡要結構圖。 圖2是圖1的I I - I I線上的剖面圖。 圖3是圖1的局部截面立體圖。
圖4是本發明的第2實施結構中的加熱裝置的簡要結構圖。 圖5是本發明的第3實施結構中的加熱裝置的簡要結構圖。 圖6是本發明的一變形例中的加熱裝置的簡要結構圖。 圖7是圖6的局部截面立體圖。
圖8是本發明的其他變形例中的加熱裝置的局部截面立體圖。 [符號的說明]
10、IOA、 IOB、 10C、 10D:加熱裝置
20:框體21:內壁
23:上壁25:下壁
29:插入孔30:力D熱部(力口熱才幾構)
31:燃燒器40、40A、 40B、 40C、 40D:高輻射部
41、41C、 41D:本體部43:間隔部
45:突出部90:流路
50、50C:高傳導部60:遮蔽部
61:出口孔91:前端
93:基端
具體實施例方式
為更進一步闡述本發明為達成預定發明目的所採取的技術手段及功 效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本發明提出的加熱裝置、玻璃製造 裝置及玻璃製造方法其具體實施方式
、方法、步驟、結構、特徵及其功效，詳
細"i兌明3口後。
以下，參照附圖，對本發明的實施結構進行-說明。另外，在第1實施 結構以外的各實施結構的說明中，對與第1實施結構相同的部分，使用同 一符號並省略相關i兌明。
圖1是本發明的第1實施結構中的加熱裝置10的概略構成圖。另夕卜，圖 2是圖1的I I - I I線上的截面圖，圖3是圖1的局部透視圖。
加熱裝置10包括的框體20、作為加熱機構的加熱部30、以及高輻射 部4 0 。以下，針對各構成要素作詳細說明。
框體20具有形成著插入孔29的內壁21，流路90的前端91可插入到
7插入孔29內。本實施結構中，如圖2所示，插入孔29形成為圓柱狀，但並 未作特別限定，可根據所使用的流路90的前端91的形狀來適當地設計。其 中，插入孔29的直徑必須大於前端91的直徑，以便使高輻射部40朝向前 端91且又與前端91相隔。
本實施結構中，整個插入孔29由內壁21形成(也就是說，在俯視圖 中為全圓弧狀)。由此，經過後述的高輻射部40或高傳導部50對流路90 所進行的加熱，將會遍及流路90的全周而大致均等地進行。但是，也可為 內壁21僅形成插入孔29的一部分(也就是說，在俯視圖中為局部圓弧狀) 的構成。
內壁21的上端連接著上壁23，且在下端連接著下壁25,這些上壁23 與下壁25是相向的。後述的加熱部30配置在由內壁21、上壁23、及下壁 25包圍的位置上，以此來抑制加熱部30所產生的熱能向外部散發，從而可 高效地對內壁21進4亍加熱。
內壁21以及上壁23,只要不容易因與高傳導部50的反應而出現劣化，就 不作特別限定，但從能夠提高流路90的加熱效率的方面考慮，優選由鉑、銠、 金、銀、銅、以及鈦等高導熱性材料來連接。由此，熱能容易從受到加熱 的內壁21傳導到上壁23,因此，大量的熱能經過後述的高傳導部50而傳 導到基端93。另外，本實施結構中，整個框體20由高導熱性材料形成。另 外，框體20因持續暴露在高溫加熱的環境中，所以優選由耐熱性優異的材 料形成。
加熱部30具有燃燒器31，此燃燒器31中設有未圖示的氣體供給部和點 火部。由此,從氣體供給部供給到燃燒器31的燃料氣體，由點火部點火。而 且，燃燒器31設置成其開口部與內壁21側相向，因此被點火部點著的火 焰到達內壁21,而使內壁21被加熱。另外，以上的構成能夠使用先前眾所 周知的裝置來實現。
如圖2所示，燃燒器31以大致相等的間隔排列，而配置成開口部以插 入孔29為中心的同心圓狀。由此，整個內壁21大致均等地受到加熱，因 此，使前端91的全周大致均等地受到加熱，從而能夠更充分地抑制條紋的 產生及光學特性的下降。就開口部之間的間隔而言，可根據燃燒器31的加 熱性能等來適當地設定。
另外，燃燒器31的配置並無特別限定。例如，本實施結構中是隔開間 隔來配置開口部的，但也可不隔開間隔而配置在整個面上，優選大致均等 的間隔，但並不限於此。另外，開口部的設置個數也並無特別限定。例如 本實施結構中，在內壁21的延伸方向上，在內壁21的大致中央處配置著 一個開口部，但也可配置在非中央處，也可為以複數個為單位來配置。[高輻射部]
高輻射部40在本實施結構中設置在內壁21的表面處。由此，來自被 加熱的內壁21的熱能會被直接傳導到高輻射部40,因此，高輻射部40得 以高效地受到加熱。
另外，高輻射部40由高輻射率材料構成。高輻射率材料是指放射率為 0. 40以上、優選0. 50以上、更優選O. 60以上的材料。具體而言，可列舉鋁、 鎳、鈥、不鏽鋼、以及鎳鉻合金等金屬及合金的氧化物；氮化物、及碳化 物、二氧化矽、矽酸鹽、硼矽酸鹽等的多成份玻璃、以及耐火粘土等，或日 本專利特開平11-201649號公報所揭示的含顏料玻璃膜等。可通過以下處理 來形成高輻射部40，所述處理為將這些高輻射率材料成形為特定形狀後與 內壁21粘合；在內壁21上利用濺鍍法或真空蒸鍍法等成膜法來成膜；使 由高傳導性材料構成的內壁21的表面氧化；對內壁21表面進行加熱後塗覆 軟化狀態的玻璃等；或者，在內壁21J^餘覆粘土狀的耐火物等。由這些高輻 射率材料形成的高輻射部40,會大量輻射出來自內壁21的熱能。另外，高輻 射部40的表面可為光滑面或粗糙面中的任一者。另外，高輻射部40也可 為多孔質體，也可在多孔質體的微細空隙內含有用來提高放射率的氣體或 液體。
此種高輻射部40，在使用加熱裝置10時，配置成以相隔方式朝向前端 91及其下方。由此，從高輻射部40輻射的熱能會高效地到達前端91,從 而前端91的溫度下降得到大幅緩和。
此處，本實施結構中的高輻射部40,僅由形狀與內壁21表面的形狀大 致相同的本體部41構成，此本體部41如圖2所示，遍及內壁21的整個周 向而設置。由此，前端91及其下方淨皮高輻射部40包圍，因此，前端91內 的熔融玻璃的局所加熱受到抑制。尤其在本實施結構中，如上所述，整個 插入孔29由內壁21形成，因此，前端91及其下方全部淨皮高輻射部40包 圍，因此，前端91內的熔融玻璃極均等地受到加熱。
具體地說，本實施結構的高輻射部40,如圖3所示，在內壁21的延伸 方向(圖3中的上下方向)上具有大致固定的尺寸W。由此，前端91及其 下方被寬度W大致固定的高輻射部40包圍，從而，對前端91大致均等地 輻射熱能。因此，前端91內的熔融玻璃得以更均勻地受到加熱。
而且，本實施結構的高輻射部40, i殳置在內壁21的延伸方向上的大致 固定的範圍內，具體而言是設置在整個範圍內。由此，流路90內的熔融玻 璃，會以與/人流;洛9 0流出之前的過程大致相同的時序而均勻地受到加熱。
本實施結構中的加熱裝置10,還包括將熱能傳導到基端93的高傳導部 5 0、以及減輕前端91在外部環境中的暴露程度的遮蔽部60。高傳導部50由鉑、銠、金、銀、銅、以及鈦等高傳導性材料構成。
高傳導部50密接設置在上壁23上(也，Mi兌，為非內壁告盼)。因此，如 果如上所述由高傳導性材料連接內壁21及上壁23,則來自內壁21的熱能 將會被傳導到高傳導部50，從而使得高傳導部50受到加熱。但是，並不限 於此，也可設置與加熱部30不同的加熱裝置，來輔助性地或獨立地對高傳 導部5Q進行加熱。
此處，在高傳導部50上形成著可供基端93插通的插通孔。當基端93 插通在該插通孔內時，高傳導部5(U姿觸於流3各90的基端93側，而成為可 導熱的連接狀態。由此，來自4皮加熱的高傳導部50的熱能將會^皮傳導到基 端93側，從而使得基端93側也受到加熱。
另外，本實施結構中，高傳導部50為圓環狀，其可導熱地連接於基端 93的全周，但並不限於此，也可為能導熱地僅連接於基端93的圓周的一部 分。其中，從基端93全周大致均等地受到加熱的方面考慮，優選高傳導部50 可導熱地連接於基端93的全周的結構。另夕卜，本實施結構中如圖3所示，插 通孔構成為圓柱狀，但並不限於此，也可根據所使用的流路90的基端93 的形狀來適當地設計。
另外，高傳導部50整體上可為一體、也可為獨立體。由獨立體構成的 高傳導部50,即便如圖1所示成為前端91的直徑大於基端93的直徑的形 狀，也可以容易地連接於基端93、及從基端93卸除，從這方面考慮，優選 獨立體結構。另外，由一體構成的高傳導部50, —旦連接於基端93就難以 從基端93脫離，從此方面考慮，優選一體結構。
遮蔽部60為從下壁25向插入孔29側延伸的圓環狀的部件。由此，可 減輕前端91在外部環境中的暴露程度，前端91的散熱得到抑制，因此，能 夠更充分地抑制條紋的產生以及光學特性的下降。
形成在遮蔽部60處的出口孔61,越窄就越能夠高效地減輕前端91的 散熱。但是，就出口孔61的尺寸而言，如果出口孔61過窄，那麼有時會 使從前端91流出的熔融玻璃附著在遮蔽部60上，考慮到這一情況，最好 將出口孔61的尺寸設定為比前端91的直徑大。
遮蔽部60可由高放射率桐料構成，而且伊逃密接設置於下壁25。由此，從 下壁25傳導到遮蔽部60的熱能會大量地被輻射，且一部分到達前端91,這 樣一來，前端91將更有效地受到加熱。此時，從充分確保傳導到下壁25 的熱能的方面考慮，優選內壁21與下壁25由高傳導性部件連接。
另外，本實施結構中，如圖l所示，遮蔽部60在水平方向上延伸，但 並不限於此，可以在任意方向上延伸以使前端91周圍的環境溫度達到適當
溫度o
10[玻璃的製造方法]
其次，對本發明的一實施結構中的玻璃製造方法中使用加熱裝置10的 情形進行說明。
首先，將作為^^。熱面的內壁21配置成以相隔的方式朝向前端91及
其下方。基此，形成可利用來自#:加熱的內壁21的輻射熱，來對流路90 的前端91進行加熱的狀態。而且，本實施結構中，將設在內壁21上的高 輻射部40配置在流路90的整個周向上，且以大致固定的尺寸配置在流路 的延伸方向上的大致固定的範圍內。
另外，使高傳導部50與基端93接觸並可導熱地連接。此時，高傳導 部50位於可導熱地與內壁21連接的部分，具體而言位於並不朝向流路90 的非對面部位、即上壁23。此外，在高傳導部50為一體型的情況下，可從 流路90的基部側插入高傳導部50，而在高傳導部50為獨立體的情況下，可 在將各個高傳導部安裝到基端93上之後再進行接合。
另夕卜，將遮蔽部60配置在前端91的側下方。此時，遮蔽部60應配置 在避免與,人前端91流出的熔融玻璃接觸的位置上。
其次，使加熱部30運行，來進4亍點火。由此，內壁21受到加熱，其 熱能傳導到高輻射部40,因此高輻射部40受到加熱。這樣一來，大量的熱 能從高輻射部40輻射出且到達前端91，前端91有效地受到加熱。另外，熱 能也從內壁21經過上壁23而傳導到高傳導部50,因此，熱能從高傳導部 50傳導到基端93側，基端93側也受到加熱。
在此狀態下，從基端93側開始供給熔融玻璃，熔融玻璃從前端91向 下方流出。如上所述，前端91有效地受到加熱，因此，位於前端91的熔 融玻璃的溫度下降得到大幅緩和。另外，基端93側也受到加熱，因此，能 進一步抑制流出前的熔融玻璃產生結晶。
使用未圖示的成形才莫，來4吏如上所述從前端91流出的熔融玻璃成形而 製造玻璃。而且，流路90、加熱裝置10以及成形模構成玻璃製造裝置。
熔融玻璃由於是在結晶產生以及溫度下降得到抑制的狀態下從前端91 流出的，因此，就本實施結構中所製造的玻璃而言，條紋的產生以及光學 特性的下降得到充分抑制。因此，本實施結構中所製造的玻璃，能適宜地 用於光學元件中，具體而言，能夠通過對玻璃進行精密擠壓成形而製造光 學元件。而且，上述的玻璃製造裝置、以及精密擠壓成形中所使用的精密 擠壓裝置構成光學元件的製造裝置。
根據本實施結構，可獲得以下作用效果。
高輻射部40配置成與流路90相隔，因此，假定熔融玻璃不會流向加 熱裝置IO。另外，當由加熱部30進行加熱時，從高輻射部40輻射出大量
11的熱能。此處，高輻射部40配置成朝向流路90的前端91及其下方，所以 大量的熱能從側方和下方的各方向到達前端91。由此，即便加熱裝置10與 流路90相隔，流路90的前端91也會有效地受到加熱，從而溫度下降得到 大幅糹爰和。
由此，能夠充分地抑制條紋的產生以及光學特性的下降，而且能減輕 維護的負擔。
將高輻射部40設置在內壁21的表面上因此，來自受到加熱的內壁21的 熱能會直接傳導到高輻射部40，使得高輻射部40高效地受到加熱。因此，能 輻射出足量的熱能，所以能夠更充分地抑制條紋痕的產生以及光學特性的 下降。
高輻射部40設置成遍及內壁21的整個周向，因此，流路90的前端91 及其下方被高輻射部40包圍。由此，熔融玻璃的局所加熱得到抑制，所以 能夠更充分地抑制條紋的產生以及光學特性的下降。
高輻射部40構成為在內壁21的延伸方向上具有大致固定的尺寸W，因 此，流路90的前端91及其下方被寬度W大致固定的高輻射部40包圍。由 此，對流路90的前端91輻射大致均等的熱能，所以熔融玻璃更均勻地受 到加熱，從而能夠更充分地抑制條紋的產生以及光學特性的下降。
高輻射部40設置在內壁21的延伸方向上的大致固定的範圍內，因此 熔融玻璃以與在流;洛90內移動並/人流路90流出的過程大致相同的時序而 均勻地受到加熱。由此，能更充分地抑制條紋的產生以及光學特性的下降。
高傳導部50可導熱地連接於流路90的基端93側，因此，來自受到加 熱的高傳導部50的熱能被傳導到流路90的基端93側。由此，流路90的 基端93側也受到加熱，使得流出前的熔融玻璃的結晶的產生進一步受到抑 制。由此，能夠更充分地抑制光學特性的下降。
當加熱部30對內壁21進4亍加熱時，可導熱地連4妾於內壁21的高傳導部 50也隨之受到加熱。因此，單獨對高傳導部50進行加熱的必要性降低，從而 能夠提高加熱裝置IO整體的能量效率。另外，如果不設置單獨對高傳導部 5 0進行加熱的裝置，那麼還能削減初期費用。
另外，若過度對內壁21進行加熱，那麼從高傳導部50傳導到基端93 側的傳導熱能會過多，反而有可能誘發條紋產生。然而，本實施結構中，高 輻射部40高效地對流J各9Q的前端91進行加熱，因此能夠抑制內壁21所 需的加熱程度。由此，不會產生條紋，而可獲得上述效果。
未將高傳導部50設置於內壁21上，因此，使更大面積的內壁21朝向 流路90。由此，大量的熱能從整個內壁21輻射出併到達流路90,因此能 夠更充分地抑制條紋的產生。
<第2實施結構〉圖4是本發明的第2實施結構中的加熱裝置10A的簡要結構圖。本實 施結構與第1實施結構不同之處在於，設有間隔部43。
也就是說，在內壁21上突設著間隔部4 3 ，且在此間隔部43上設有高輻 射部40A的本體部41。由此，高輻射部40A與內壁21相隔。而且，在使用 該加熱裝置10A時，高輻射部40A配置成位於內壁21和前端91及其下方之 間。此時，高輻射部4OA僅以與內壁21相隔的距離量而接近前端91 。
間隔部43在本實施結構中與本體部41形成為一體，《旦並不限於此，也 可形成為獨立體，也可不設置間隔部43自體。另外，為了促進熱能從內壁 21向本體部41的傳導，間隔部43優選由柏、銠、金、4艮、銅、以及鈥等 高傳導性材料構成。
關於間隔鄒43的尺寸、也就是說高輻射部40A與內壁21的相隔距離，可 考慮到從內壁21向本體部41的導熱效率、和從本體部41向前端91的熱 輻射效率來適當地設定。也就是說，如果間隔部43的尺寸過大，那麼/人內 壁21傳導到本體部41的熱能容易下降，另一方面，如果過小，那麼從本 體部41到達前端91的熱能容易下降。
根據本實施結構，除了可獲得上述的第1實施結構的作用效果外，還 可獲得以下作用效果。
在4吏用加熱裝置10B時突出部45配置在前端91的近近旁。由此，可 使更多量的熱能到達前端91,從而，前端91更有效的受到加熱。由此，能夠更充分地抑制條紋的產生以及光學特性的下降。 [變形例]
本發明並不限於上述實施結構，在能夠實現本發明的目的的範圍內所 作的變形、改良等也包含在本發明中。例如，可列舉以下變形例。 (變形例1 )
圖6是本發明的一變形例中的加熱裝置10C的筒要結構圖。圖7是圖6 的截面立體圖。本變形例在高輻射部40C以及高傳導部50C的結構上與上 述實施結構不同。
即，高輻射部40C的本體部41C僅設在內壁21的表面的一部分，本變 形例中是僅設在內壁21的下部表面(下壁"側)。另外，高傳導部S0C中 途彎折，其一部^S殳在內壁21的表面的一部分，本變形例中是設在內壁21 的上部表面(上壁23側)。由此，因內壁21的加熱所產生的熱能會直接被 傳導到本體部41C或高傳導部50C。
更具體地說，高傳導部50C設置在未設置本體部41C的部分的大致整個 面上。由此，內壁21的熱能會全部傳導到本體部41C或高傳導部50C。但 是，對於高輻射部40C及高傳導部50C與內壁21的接觸關係，也可考慮到 對前端91的熱輻射和對基端93的導熱來適當地設定。
另外，本變形例中，上壁23暴露在外部環境中，但也可由隔熱性部件 ;菱蓋上壁23。這樣，可抑制經過上壁23而使內壁21冷卻。
(變形例2)
圖8是其他變形例中的加熱裝置10D的截面立體圖。本變形例與上述 實施結構不同之處在於，高輻射部40D的結構。
也就是說，高輻射部40D的本體部41D在內壁21的延伸方向上具有大 致固定的尺寸W，本體部41D的上端(上壁23側)及下端(下壁25側)分 別具有凹凸。由此，高輻射部40D設置在內壁21的延伸方向上的不同範圍 內。
(其他)
另外，上述實施結構中，在玻璃製造方法上，配置成以相隔的方式朝 向前端91及其下方的是高輻射部40,但也可為內壁21。此情況下，正因 為熱能的輻射效率降低，即通過使加熱部30的加熱程度增強，又使內壁21 及前端91的間隔變窄，這樣得以確保對前端91進行充分地加熱。由此，不 必設置高輻射部40，可削減零件件數。
以上所述，僅是本發明的較佳實施例而已，並非對本發明作任何形式 上的限制，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本發 明，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本發明技術方案範圍內，當可利 用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，4旦
14凡是未脫離本發明技術方案內容，依據本發明的技術實質對以上實施例所 作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本發明技術方案的範圍內。
權利要求
1、一種加熱裝置，其特徵在於是用於對流出熔融玻璃的流路進行加熱的加熱裝置，其包括內壁，形成著可供上述流路的前端插入的插入孔；加熱機構，對此內壁進行加熱；及高輻射部，由高放射率材料構成，且上述高輻射部配置成朝向上述流路的前端及其下方且與其相隔。
2、 根據權利要求1所述的加熱裝置，其特徵在於上述高輻射部設置在 上述內壁的表面上。
3、 根據權利要求1所述的加熱裝置，其特徵在於上述高輻射部與上述 內壁相隔而設置，且配置成位於上述內壁與上述流路的前端及其下方之間。
4、 根據權利要求1至3中任一項所述的加熱裝置，其特徵在於上述高 輻射部設置成遍及上述內壁的整個周向。
5、 根據權利要求4所述的加熱裝置，其特徵在於上述高輻射部在上述 內壁的延伸方向上具有大致固定的尺寸。
6、 根據權利要求4所述的加熱裝置，其特徵在於上述高輻射部設置在 上述內壁的延伸方向上的大致固定的範圍內。
7、 根據權利要求1所述的加熱裝置，其特徵在於上述高輻射部具有向 內側突出的突出部。
8、 根據權利要求l所述的加熱裝置，其特徵在於更包括由高傳導性材 料構成且受到加熱的高傳導部，上述高傳導部可導熱地連接於上述流路的基端側。
9、 根據權利要求8所述的加熱裝置，其特徵在於上述高傳導部是上述 內壁的一部分、或者是可導熱地連接於上述內壁的部分。
10、 根據權利要求9所述的加熱裝置，其特徵在於上述高傳導部是與 上述內壁可導熱地連_|妄的非內壁部分。
11、 根據權利要求1所述的加熱裝置，其特徵在於上述高放射率材料 具有0. 4以上的》文射率。
12、 一種玻璃製造裝置，其特徵在於包括流出熔融玻璃的流i 各；權 利要求1至11中任一項所述的加熱裝置；及成形模，且上述高輻射部配置成朝向上述流路的前端及其下方且與其相隔， 上述成形模使從上述流路流出的熔融玻璃成形。
13、 一種光學元件的製造裝置，其特徵在於包括權利要求12所述的玻 璃製造裝置；對由這個玻璃製造裝置所製造的玻璃進行精密擠壓的精密擠 壓裝置。
14、 一種玻璃製造方法，其特徵在於是從流路的前端流出熔融玻璃來製造玻璃的玻璃製造方法，將受到加熱的^皮加熱面配置成朝向上述流路的前端及其下方且與其相 隔，且包括對上述被加熱面進行加熱的步驟。
15、 根據權利要求14所述的玻璃製造方法，其特徵在於在上述被加熱 面上設置由高放射率材料構成的高輻射部，且將此高輻射部配置成朝向上 述流;洛的前端及其下方，且包括對上述高輻射部進行加熱的步驟。
16、 根據權利要求15所述的玻璃製造方法，其特徵在於作為上述高放 射率材料，使用具有0. 4以上的放射率的材料。
17、 根據權利要求15或16所述的玻璃製造方法，其特徵在於將上述 高輻射部遍及上述流路的整個周向而配置。
18、 根據權利要求17所述的玻璃製造方法，其特徵在於將上述高輻射 部以大致固定的尺寸配置在上述流路的延伸方向上。
19、 根據權利要求18所述的玻璃製造方法，其特徵在於將上述高輻射 部配置在上述流^各的延伸方向上的大致固定的範圍內。
20、 根據權利要求14所述的玻璃製造方法，其特徵在於將上述被加熱 面配置成向上述流路的前端及其下方突出。
21、 根據權利要求14所述的玻璃製造方法，其特徵在於將由高傳導性 材料構成的高傳導部可導熱地連接於上述流路的基端側，且更包括對上述高傳導部直接或間接地進行加熱的步驟。
22、 根據權利要求21所述的玻璃製造方法，其特徵在於 將上述高傳導部配置在上述被加熱面的一部分上、或者是可導熱地連接於上述被加熱面的部分上。
23、 根據權利要求22所述的玻璃製造方法，其特徵在於將位於不朝向 上述流路的非對面部位上的上述高傳導部，可導熱地連接於上述流路的基 端側。
24、 一種光學元件製造方法，其特徵在於包括以下步驟，即，對由權 利要求14至23中任一項所述的玻璃製造方法所製造的玻璃進行精密擠壓 成形。
全文摘要
本發明是有關於一種加熱裝置、玻璃製造裝置及玻璃製造方法。本發明提供一種能夠充分地抑制條痕的產生及光學特性的下降、且能減輕維護負擔的加熱裝置等。用於對流出熔融玻璃的流路90進行加熱的加熱裝置10，其包括內壁21，形成著可供流路90的前端91插入的插入孔29；加熱部30，對該內壁21進行加熱；以及高輻射部40，由高放射率材料構成。在使用加熱裝置10時，該高輻射部40配置成朝向流路90的前端91及其下方且與該流路90相隔。
文檔編號C03B11/06GK101497490SQ20091000529
公開日2009年8月5日 申請日期2009年1月24日 優先權日2008年1月31日
發明者坂井亮介 申請人:株式會社小原