確定時間間隔的方法及時間測量裝置的製作方法

2023-09-22 13:16:25

專利名稱：確定時間間隔的方法及時間測量裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及能夠確定經過的時間間隔的改進的方法和裝置，具體地說，涉及允許在不消耗功率的情況下高度準確地確定清晰顯示的經過時間間隔並可用於保修、維護以及其他目的的改進的方法和裝置。
背景技術：
保修驗證是現代商業中非常重要的一個方面。在此方面，檢測產品替換、篡改、盜竊以及檢測導致違反保修的其他問題的能力日趨重要。此外，對於設備(如電子設備)的一般維護，更容易地了解部件或產品何時接近定期的維護期是很重要的，由此可以對部件或產品進行評估和可能的調換。
有許多方法可以指示產品使用所經過的時間間隔。大量方法使用電子時間測量設備和/或經過時間的電子顯示。例如，在核領域中，放射量測定器與電子計時器結合使用來測量一定時期內可以指示危險輻射水平的輻射量。測量時間的其他嘗試包括利用變色材料。例如，存在會變色的公知材料，但是它們對溫度變化非常敏感。因此，它們的可靠性不能滿足各種商業和工業應用的要求。為此，在本領域中將繼續採取努力，特別是提高以不消耗功率的方式確定經過時間的準確性(清晰顯示經過時間的結果)，所述確定是低成本、安全、通用和可靠的。
如果不繼續改進允許以不消耗功率的方式精確地確定經過的時間間隔的方法和裝置(由此清晰地顯示經過時間的結果，並且其是低成本、安全、通用和可靠的)，則不能完全實現產品和部件的改進的保修驗證和維護管理的真正潛能。

發明內容
本發明在沒有負面效果的情況下並以克服現有技術缺點的方式提供了允許以不消耗功率的方式確定經過時間間隔的增強的方法和裝置，由此可以以低成本、安全、通用和可靠的方式清晰地顯示經過時間的結果。
所示實施例的一個方面是一種允許確定時間間隔的方法和裝置，包括提供至少具有從其發射輻射的第一表面的電離輻射源；將響應電離輻射的輻射敏感顯示材料的第一表面放置在與所述電離輻射源的所述第一表面非常接近的位置，以便所述源的所述發射輻射擊打所述輻射敏感顯示材料，由此開始時間間隔；以及測量所述輻射敏感顯示材料的特性變化，所述變化指示了在非常接近地放置後，所述源的所述發射輻射擊打所述輻射敏感顯示材料並引起所述輻射敏感顯示材料變化的經過時間。
所示實施例的另一個方面是一種確定時間間隔的方法和裝置，包括提供發射輻射的輻射源；在開始時間測量所述發射輻射的輻射水平的第一讀數；將輻射抑制元件疊加在所述輻射源之上，以便抑制所述發射輻射通過所述輻射抑制元件；從所述疊加位置移除所述輻射抑制元件；以及在稍後的時間測量所述輻射源的所述發射輻射的輻射水平的第二讀數，由此所述第一與第二讀數之間的測量輻射水平的差指示了所述第一與第二讀數之間的經過時間。
本實施例的另一個方面提供了一種在測量時間間隔方面具有高度特異性和高可靠性並可在不消耗電功率的情況下直接讀取的方法和裝置。
本實施例的另一個方面提供了一種確定可用於保修目的等的時間間隔並且是低成本、安全、通用以及可靠的方法和裝置。
從以下應結合附圖閱讀的對優選實施例的詳細說明，可以更全面地理解本實施例的這些和其他特性和方面。應當理解，上述的一般說明和下面的詳細說明都是示例性的，並非對本發明進行限制。


圖1是激活之前的根據本發明製造的雙層經過時間間隔指示器裝置的示意性截面圖；圖2是另一個示例性實施例的經過時間間隔指示器裝置的示意性截面圖；圖3是另一個示例性實施例的簡化的經過時間間隔指示器裝置的示意性截面圖；圖4是激活期間的經過時間間隔指示器裝置的示意性截面圖；圖5是可與本發明結合使用的灰度設備的示意性截面圖；圖6是本發明的一個示例性過程的流程圖；圖7是本發明的另一個示例性過程的流程圖；以及圖8是本發明的另一個示例性過程的流程圖。
具體實施例方式
圖1示出了根據本發明製造的一個多層結構的經過時間間隔指示器裝置100的示例性實施例。指示器裝置100適於為剝離結構。在此方面，其組件可以包括至少第一層組件105和第二層組件110。第一層組件105和第二層組件110處於彼此並置疊加的關係以形成雙層結構。如下面將描述的，第一層組件105和第二層組件110可被連接和解除連接以開始和終止經過時間間隔。儘管示出了雙層組件結構，但是也可以集成數層組件。
在示例性實施例中，指示器裝置100是標籤，所述標籤優選地包括薄輻射發射膜112，所述薄輻射發射膜112是實質上發射電離輻射的源。薄電離輻射發射膜112可以包括薄載體箔層114和輻射發射層116。在本實施例中，載體箔層114優選地由適合的金屬製成，如鎳箔層114。輻射發射層116可以是Ni-63放射性核素膜並且可以通過對輻射發射膜112的鎳箔層114的某一表面進行電鍍來施加。薄鎳箔層114的厚度約為0.0127毫米(0.5密耳)，輻射發射層116的厚度約為0.254毫米(10.0密耳)。可以使用其他厚度，具體取決於輻射發射層116的支持以及指示器裝置的用途。輻射發射層116適於從第一表面118優選地發射α和/或β粒子，儘管本發明並不限於這些特定的粒子範圍。本實施例中的輻射發射層116發射能量範圍約為5-75keV(優選地，約在17-66keV之間)的β輻射。應當理解，本發明的範圍包括其他放射強度，具體取決於構想的最終用途。發射的放射性粒子(如α和β粒子)具有可測量和可檢測的半衰期。利用α和/或β粒子的一個原因是它們通常具有較低的強度並可以相對容易地被屏蔽。此外，當以本發明構想的方式使用時，處於優選輻射水平的α和/或β粒子不會另外引起危及健康的輻射風險。所選擇的α和/或β粒子能夠擊打對電離輻射敏感的輻射敏感記錄介質(如放射量測定薄膜層130)並導致後者發生物理變化。由於構想了商業用途，因此輻射發射膜112包含足夠量的不會對健康造成危害的放射性材料(如美國政府機構規定的)。本實施例的輻射發射膜112可以從數個來源購得，所述來源包括加拿大安大略省多倫多市的Stuart Hunt and Associates或美國俄亥俄州克裡夫蘭的Victoreen公司。輻射發射層116是包括Ni-63放射性核素層(即，鎳63同位素)的配方物。構想了其他適合的電離輻射材料源，如氚、銫137、鍶90以及鋂291。雖然上述實施例披露了一種類型的輻射發射膜結構，但是本發明構想了各種輻射發射材料。例如，氚也是幾乎不會引起健康風險的低能β發射器，但是它主要以氚化水(T2O)的形式存在。在所述經過時間裝置中成功使用氚要求在任何適合的水攜帶壓敏粘合劑中使用氚化水的水分散液來替代Ni-63放射性核素層。
可以使用傳統的技術和處理將一對壓敏粘合劑層120、122層疊到電離輻射發射膜112的相對表面。壓敏粘合劑層120、122可以由任意一種基於丙烯酸、基於橡膠或基於矽氧烷的雙面粘合轉移配方物(如可從美國明尼蘇達州聖保羅市的3M或美國賓夕法尼亞Glen Rock市的AdhesivesResearch購買的那些配方物)製成。顯而易見地，可以利用其他適合的材料。壓敏粘合劑層120用於最大程度地減少或甚至消除放射性材料對其的穿透。根據輻射發射膜112發射的輻射強度，壓敏粘合劑層120可以具有範圍約0.0127-0.254毫米(0.5到10密耳)的厚度；優選地，約0.0254-0.0508毫米(1-2密耳)。壓敏粘合劑層122的厚度相對於壓敏粘合劑層120而言要薄一些。這是為了在測量輻射期間，當輻射敏感顯示設備或放射量測定薄膜層130以並置疊加關係接合時，允許β粒子穿透這兩者(參見圖1)。在本實施例中，壓敏粘合劑層122的厚度約為0.0127毫米(0.5密耳)或更薄。明顯地，壓敏粘合劑層的厚度範圍可以隨要減弱輻射的程度而變化。如果必要，壓敏粘合劑層122可被衝切(未示出)為相框幾何圖形或被穿孔以允許輻射發射層116直接照射輻射敏感顯示設備或放射量測定薄膜層130。壓敏粘合劑層120和122都可以由破壞型粘合劑材料製成，所述材料具有如此的強度以致它將撕開與之接觸的材料的面材。此類粘合劑的一個非限制性實例是由位於明尼蘇達州明尼阿波利斯的3M製造的350高強度丙烯酸粘合劑。還構想了其他破壞型粘合劑材料。當然，所述強度可以隨構想的用途而不同。通過使用破壞型的壓敏粘合劑層，可以顯著減少或甚至消除對指示器的篡改。
將具有適當厚度的釋放襯墊124層疊到壓敏粘合劑層122，以防止在裝運和存儲期間過早粘合第一層組件105。釋放襯墊124由諸如牛皮紙、聚酯薄膜或聚乙烯薄膜之類的任何適當材料製成。將具有適當厚度的釋放襯墊126層疊到壓敏粘合劑層120以防止裝運和存儲期間過早的粘合。釋放襯墊126也可以由諸如牛皮紙、聚酯薄膜、聚乙烯薄膜之類的任何適當材料製成。釋放層的厚度可以在約0.0254-0.254毫米(1-10密耳)之間；優選地約為0.0762毫米(3密耳)。所述厚度範圍是優選的，因為它們會最大程度上減少或消除任何不希望的輻射洩漏。還可考慮壓敏粘合劑層的厚度範圍用於屏蔽。這樣，形成了指示器裝置100的第一層組件105。
本實施例中的第二層組件110包括輻射敏感顯示設備或放射量測定薄膜層130。輻射敏感顯示設備或放射量測定薄膜層130可以是公知的放射量測定薄膜，其中會發生物理和化學特性變化以響應放射性材料(如β粒子)的入射劑量並與其成比例。放射量測定薄膜層130可為黑白型並可從例如Agfa或Kodak購得。在本實施例中，放射量測定薄膜層130可以具有層疊到其相對表面的壓敏粘合劑層132、134。壓敏粘合劑層132和134分別具有約0.0254到0.254毫米(1密耳到10密耳)的厚度。再次地，所述厚度用於控制放射性材料的衰減(不包括柔韌性和粘合特性)。放射量測定薄膜層130可以通過壓敏粘合劑層132層疊到釋放襯墊136。壓敏粘合劑層132可以由破壞型粘合材料製成，以便在將放射量測定薄膜從輻射發射薄膜取下時，所述粘合材料將破壞放射量測定薄膜。壓敏粘合劑層132可以由與壓敏粘合劑層120、122的材料類似的材料製成。根據所述的功能來適當地選擇壓敏粘合劑層132的粘合強度。輻射敏感放射量測定薄膜層130的厚度可以是優選地將在其中吸收所有發射的β粒子的厚度。β粒子擊打放射量測定薄膜層130的第一表面131。此外，還控制和限制了意外照射的風險。在本實施例中，放射量測定薄膜層130的厚度約為0.254毫米(10密耳)。可以根據所遇到的環境來應用其他適當種類的輻射敏感材料和厚度。實際上，從輻射發射膜112發射的β粒子擊打放射量測定薄膜層130，導致後者與β輻射的入射劑量成比例地變暗。隨著時間的流逝，更多的β粒子擊打放射量測定薄膜層130，由此導致其繼續變暗。在圖2中示出並將說明的實施例示出了指示器裝置200，其中使用了高度敏感的成色放射量測定薄膜。
保護元件或覆層138實質上包括光學透明薄膜，該薄膜通過壓敏粘合劑層134層疊到放射量測定薄膜層130(參見圖1)的頂部或第二表面。保護覆層138隨後層疊到遠離輻射發射薄膜112的放射量測定薄膜層130的表面。在使用之前(例如，從倉庫裝運包含所述指示器裝置的部件之前)，所述第一和第二組件是分離的，拆除所述釋放襯墊，然後將所述第一和第二層組件接合。以這種方式，「計時器」(即放射性測量薄膜的照射量)將儘可能接近部件裝運的時間來開始記錄經過時間。
保護元件或覆層138是光學透明的以允許用戶直接讀取結果或任何自動設備讀取結果。保護覆層138可以由任意一種聚合材料製成，包括但不限於聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚酯和聚丙烯。保護覆層138是透明的和/或半透明的，以便從視覺上觀察隨著β粒子的劑量改變的放射性測量薄膜層130的光學性質變化。放射量測定薄膜層130的逐漸變暗的亮度指示了經過時間。可以通過許多已知的手動和/或自動的方法來完成對所述逐漸變暗的測量。
一種示例性方法利用圖5中示出的單獨的灰度設備140。灰度設備140將薄膜的光密度變化與該類薄膜的特定輻射劑量的已知經過時間隔相關聯。具體地說，放射量測定薄膜層130的亮度越暗，經過時間就越長。灰度設備140可以具有多個不同的光密度帶142a-n(總稱為142)，其密度與吸收的劑量成比例。用戶可通過將任意時刻的放射量測定薄膜層130的光密度與灰度設備140相比較來確定經過的時間。還可以使用公知的光學設備來從視覺上比較不同的光密度帶142的光密度。按時段(例如，月)為示出的光密度帶142的時間間隔或時段創建索引。上述時段用於說明目的。當然，可以改變材料和劑量比率，由此光學性質的變化反映逐漸變化的時段。可將此類時間間隔與所感興趣的任何特定時段(例如產品的保修、時間管理等事宜)相關聯。因此，可在無需電力的情況下以高度可靠的方式查看經過的時間間隔的直接讀數。
低粘度壓敏粘合劑層150可以置於第一層組件105和第二層組件110中的一個或兩者上。低粘度壓敏粘合劑層150可以置於釋放襯墊124和126中的一個或兩者上。在本實施例中，壓敏粘合劑層150通過傳統技術層疊到第二層組件110的釋放襯墊上。這樣，形成了指示器裝置100的第二層組件110。為了達到此目的，低粘度壓敏粘合劑層150可以由基於丙烯酸、矽氧烷和/或橡膠的材料製成。低粘度壓敏粘合劑層150的厚度可以介於0.0254-0.127毫米(1-5密耳)之間並且應足以允許反覆剝離和層疊。低粘度壓敏粘合劑層150的材料的上述實例是非限制性的，因為多種材料可實現所需的選擇性重複剝離操作。第一和第二層組件105、110是可以結合在一起以便裝運和/或安裝的兩個部分。低粘度壓敏粘合劑層150用於輕易分離指示器裝置的所述兩個部分，而雙釋放襯墊如所述那樣提供了足夠的厚度來阻止β粒子照射發射量測定薄膜並且另外還阻止了不希望的輻射洩漏。
圖7示出了形成和使用圖1中示出的指示器裝置100的過程700。在步驟702中，使用傳統的技術和工藝將輻射發射層(如Ni-63放射性核素層)116電鍍在鎳箔層114上。應當理解，可以使用其他輻射發射層。此後，在步驟704中，可以使用傳統的技術和工藝將壓敏粘合劑層120、122層疊到電離輻射發射膜112的相對表面。在步驟706中，使用傳統的技術和工藝將釋放襯墊124、126層疊到壓敏粘合劑層122兩側並將低粘度壓敏粘合劑層層疊到釋放襯墊124的頂部。在步驟708中，所述過程包括將放射量測定薄膜層130和釋放襯墊136層疊到低粘度壓敏粘合劑層150。在步驟710中，通過壓敏粘合劑層134將保護覆層138層疊到放射量測定薄膜層130。這樣，構建了第二層組件110。在步驟712中，從倉庫中取出圖1中示出的指示器裝置100，將第一和第二組件105、110分離，取下釋放襯墊124、136以及低粘度壓敏粘合劑層150，然後將第一和第二層組件接合在一起。以這種方式，「計時器」(即，放射性測量薄膜的照射量)將開始記錄經過的時間(儘可能接近部件裝運的時間)。在步驟714中，取下釋放襯墊126並將指示器裝置100放置在要為其測量放置時間(例如，保修期的開始)的部件或產品上。應當理解，可以更改步驟712和714的順序以及每個步驟中的過程組。在步驟716中，將放射量測定薄膜的光學變化與灰度設備140相比較以便確定經過的時間。用戶可以通過保護覆層138查看光學性質的變化，並使用公知的方式將所述變化與灰度設備140進行比較以確定放射性測量薄膜層130暴露於β粒子的時間量。因此，用戶可出於各種目的(包括確定保修)確定暴露於輻射的時間量。有利地，多層結構可以避免放射量測定薄膜過早地變暗(如可能在存儲期間發生的)。
圖2示出了一種示例性結構的指示器裝置200。將使用相同的標號(但是用前綴2替代了前綴1)來指定與先前的實施例的結構相同的指示器裝置200的結構。此結構不同於先前的結構，因為它用成色圖像記錄介質230替代了黑白放射量測定薄膜層130。在一個優選實施例中，成色圖像記錄介質230可以是從美國新澤西州韋恩市的ISP公司購買的GAF Chromic成色膠片。在這樣的情況下選擇使用如以上所述類型的薄膜，其中可以使用高能電子來測量所有類型的源，所述源包括低至5keV(或者在某些情況下更低)的廣泛的放射性能量。薄膜中的活性組分(未示出)包括輻射敏感單體的亞微米大小的晶體。當薄膜暴露於電離輻射時，開始出現聚合反應，導致生成藍色染料-聚合物複合物。所生成的聚合物的數量和色度的變化與活性層吸收的劑量成比例。對於標準的滷化銀放射量測定薄膜，可以引起光學性質的變化。因此，藍色的「灰度」設備(未示出)將測量本實施例的結果光學性質的變化。所述藍色的灰度設備用於將色度與經過的暴露時間相關聯。還應指出，在所有示例性實施例中，可以在不偏離本發明的範圍的情況下，用成色圖像記錄介質替代黑白圖像記錄介質。
圖3示出了另一種示例性和簡化結構的指示器裝置300。將使用相同的標號(但是用前綴「3」替代了前綴「1」)來指定與先前的指示器裝置100的結構相同的指示器裝置300的結構。在本實施例中，沒有可選擇地重複層疊和取消層疊的兩個可接合部分。相反，輻射發射層312一側與釋放襯墊326接合，另一側通過壓敏粘合劑層322與放射量測定層330接合以形成單一結構。壓敏粘合劑層322允許β粒子通過，由此β粒子擊打薄膜以引起薄膜光學性質的變化。可通過透明的保護覆層338來查看光學性質的這些變化。可以取下釋放襯墊326並將指示器裝置附加到部件或產品。所述指示器裝置的細薄且柔韌的特性使得指示器裝置300可以多種方式放置到各種表面。
參考圖6，其中示出了製作和使用指示器裝置300的過程600。在步驟602中，使用傳統的技術和工藝將輻射發射膜312電鍍在鎳箔層上。之後，在步驟604，使用傳統的技術和工藝將壓敏粘合劑層320、322層疊到電離輻射發射膜312的相對面。在步驟606中，過程600包括將放射量測定薄膜330層疊到壓敏粘合劑層322。在步驟608中，將保護層338通過壓敏粘合劑層334層疊到放射量測定薄膜330。這樣，構建了指示器裝置300。在步驟610，取下如圖3所示的釋放襯墊326並將壓敏粘合劑層320放置在部件或產品(未示出)上。輻射發射薄膜312具有第一表面318，第一表面318將β輻射傳遞給放射量測定薄膜330的第一表面331以開始暴露時間間隔。在步驟612中，用戶可以在參考灰度設備140之後直接讀取放射量測定薄膜330的可視輸出中的變化。
圖4示出了另一種示例性和簡化結構的指示器裝置400。將使用相同的標號(但是用前綴「4」替代了前綴「1」)來指定與先前的指示器裝置100的結構相同的指示器裝置400的結構。指示器裝置400的示例性結構不同於其他的結構，因為它是不可剝離的並且可以沒有輻射敏感記錄介質。所述示例性實施例依賴於保護覆層，所述保護覆層可取下地連接到電離輻射發射薄膜層412並且選擇性地允許測量發射的輻射。通過測量輻射強度的差異，可以確定輻射測量事件之間的經過時間。這是因為輻射的衰變率是已知的並且可以以公知的方式來計算經過時間。因此，在測量時間間隔方面具有高度的特異性和高度的可靠性。這在用於測量保修期時非常有利並且是對用於同樣目的的其他公知過程的獨特改進。
圖8示出了裝配和使用指示器裝置400的一個示例性過程800。在步驟802中完成製造輻射發射薄膜412，其中將輻射發射層416電鍍在鎳箔層414上。在步驟804中，將壓敏粘合劑層層疊到輻射發射薄膜的兩側。在步驟806中，使用可輕鬆取下的壓敏層434將保護覆層438層疊到輻射發射薄膜412的β發射表面。在步驟806中，取下指示器裝置400底部的釋放襯墊426。將指示器裝置400例如放置在要裝運的部件上。為了獲得經過時間信息，取下保護覆層438並在步驟810中記錄β活動以進行第一次讀取。在此方面，使用輻射計數器，例如手持式蓋格計數器，如可從美國Eurami Group購買的GAMMA_SCOUT。當然，保護覆層438被重新層疊到輻射發射薄膜412。保護覆層438用作輻射抑制元件。相應地，將抑制或屏蔽β活動的輻射。此後，在步驟812中，在經過可變時間段後取下保護覆層438並且開始β活動的第二次讀取。將此記錄與先前的記錄或第一次讀數相比較以便於根據輻射讀數來確定經過時間。如所述的，由於詳細記錄了輻射發射層416(Ni-63)的半衰期，因此可以將在任意時間測量的剩餘放射性活動與經過的時間相關聯。
在此提出的實施例和實例是為了最佳地說明本發明及其實際應用並且由此使本領域的技術人員能夠實施和使用本發明。但是，本領域的技術人員將認識到，提供上述描述和實例僅為了說明和舉例。所述描述並非旨在是窮舉的或是將本發明限於所公開的精確形式。在不偏離以下權利要求的精神和範圍的情況下，根據上述教導可以做出許多修改和變化。
權利要求
1.一種確定時間間隔的方法，所述方法包括提供至少具有從其發射輻射的第一表面的電離輻射源；將響應電離輻射的輻射敏感顯示材料的第一表面放置在與所述電離輻射源的所述第一表面非常接近的位置，以便所述源的所述發射輻射擊打所述輻射敏感顯示材料，由此開始時間間隔；以及測量所述輻射敏感顯示材料的特性變化，所述變化指示了在非常接近地放置後，所述源的所述發射輻射擊打所述輻射敏感顯示材料並引起所述輻射敏感顯示材料發生變化的經過時間。
2.根據權利要求1的方法，其中所述測量步驟測量所述輻射敏感顯示材料的光學性質的變化。
3.根據權利要求1的方法，其中所述放置包括以疊加關係將所述輻射敏感顯示材料的所述第一表面可取下地粘合到所述電離輻射源的所述第一表面。
4.根據權利要求1的方法，還包括以疊加關係將保護元件放置到所述輻射敏感顯示材料的第二表面，所述輻射敏感顯示材料的所述第二表面與所述輻射敏感顯示材料的所述第一表面相對，以便所述保護元件保護所述輻射敏感顯示材料並抑制所述輻射發射。
5.根據權利要求2的方法，其中所述提供所述輻射敏感顯示材料包括提供對所述輻射發射敏感的放射量測定薄膜。
6.根據權利要求1的方法，其中所述提供所述電離輻射源包括提供發射適於擊打所述輻射敏感顯示材料的α和/或β粒子的源。
7.根據權利要求6的方法，還包括在與所述電離輻射源的所述第一表面相對的所述電離輻射源的第二表面上提供粘合劑層，以允許將所述電離輻射源附加到物體的表面。
8.根據權利要求7的方法，還包括將釋放襯墊放置在所述電離輻射源的所述第二表面上。
9.根據權利要求1的方法，其中所述放置包括以疊加關係將所述輻射敏感顯示材料的所述第一表面粘合到所述電離輻射源的所述第一表面，其中所述粘合包括具有可以破壞所述輻射敏感顯示材料和/或所述電離輻射源中的一個或兩者的強度的粘合劑。
10.一種確定時間間隔的方法，所述方法包括提供發射輻射的輻射源；在開始時間測量所述輻射源的所述發射輻射的輻射水平的第一讀數；將輻射抑制元件疊加到所述輻射源之上，以便抑制所述發射輻射通過所述輻射抑制元件；從所述疊加位置移除所述輻射抑制元件；以及在稍後的時間測量所述輻射源的所述發射輻射的輻射水平的第二讀數，由此所述第一與第二讀數之間的測量輻射水平的差指示了所述第一與第二讀數之間的經過時間。
11.根據權利要求10的方法，其中所述放置包括以疊加關係將所述輻射抑制元件的第一表面可取下地粘合到所述輻射源的第一表面。
12.根據權利要求10的方法，其中所述提供所述輻射源包括提供發射α和/或β粒子的源。
13.根據權利要求12的方法，還包括在與所述輻射源的所述第一表面相對的所述輻射源的第二表面上提供粘合劑層，以允許將所述輻射源附加到物體的表面。
14.一種時間測量裝置，所述裝置包括具有第一表面以及發射電離輻射的輻射源的第一組件；以及，具有第一表面並且包括響應電離輻射的輻射敏感顯示材料的第二組件，可將所述第一組件的所述第一表面以疊加並置關係放置到所述第二組件的所述第一表面，以便所述源的所述輻射發射擊打所述輻射敏感顯示材料並在其中引起電離變化，所述變化指示了所述輻射源的所述發射輻射擊打所述輻射敏感顯示材料並在其中引起變化的經過時間。
15.根據權利要求14的時間測量裝置，其中所述輻射源是放射性核素薄膜。
16.根據權利要求14的時間測量裝置，其中所述輻射敏感顯示材料是放射量測定薄膜。
17.根據權利要求14的時間測量裝置，其中所述輻射源發射α和/或β粒子。
18.根據權利要求14的時間測量裝置，還包括與響應電離輻射的所述輻射敏感顯示材料的第二表面處於疊加關係的保護元件，所述保護元件保護所述輻射敏感顯示材料並抑制所述發射輻射。
19.根據權利要求14的時間測量裝置，其中將釋放襯墊附加到所述第一組件的所述第一表面，並且將釋放襯墊附加到所述第二組件的所述第一表面。
20.根據權利要求19的時間測量裝置，其中所述第一和第二釋放襯墊中的至少一個釋放襯墊包括使得所述第一和第二釋放襯墊能夠被可取下地結合在一起的粘合劑層。
21.根據權利要求20的時間測量裝置，其中所述粘合劑層是低粘度壓敏粘合劑層。
22.一種時間測量裝置，所述裝置包括發射輻射的輻射源，其中所述輻射源是輻射發射薄膜；以及，輻射抑制元件，其中所述輻射抑制元件是以疊加關係可取下地粘合到所述輻射源的柔性材料，以便抑制所述發射輻射通過所述輻射抑制元件。
23.根據權利要求22的時間測量裝置，還包括在與所述輻射源相對的所述輻射抑制元件的表面上的釋放襯墊，其中可以取下所述釋放襯墊以允許將所述輻射源和所述抑制元件放置在部件上。
24.根據權利要求22的時間測量裝置，其中所述輻射源是放射性核素薄膜。
全文摘要
一種確定時間間隔的方法和裝置，包括提供從其發射輻射的電離輻射源；將響應電離輻射的輻射敏感顯示材料放置在與所述電離輻射源非常接近的位置，由此所述源的所述發射輻射擊打所述輻射敏感顯示材料，由此開始時間間隔；以及測量指示經過時間的所述輻射敏感顯示材料的特性變化。
文檔編號G04F13/00GK1932697SQ200610115929
公開日2007年3月21日 申請日期2006年8月18日 優先權日2005年9月13日
發明者J·庫茨辛斯基, D·O·劉易斯 申請人:國際商業機器公司