擦拭機構的製作方法
2023-10-04 09:42:09 3
專利名稱：擦拭機構的製作方法
技術領域：
本實用新型是有關於一種擦拭機構，且特別是有關於一種較節省能源及可同時擦拭多個工件的擦拭機構。
背景技術：
隨著電子資訊產品快速的發展，電路板的需求亦大幅地成長。在回焊製程中，為了增強電子元件與電路板上的焊墊的焊接效果，通常會在電路板的焊墊與電子元件之間加入助焊劑(flux)，例如:松香或活化松香等。但由於加熱揮發後，助焊劑內的物質可能會殘留而影響焊接效果，例如造成空焊等狀況。為解決上述所指助焊劑內的物質殘留而影響焊接品質的問題，目前有採用人工擦拭的方式來進行清潔，然而這種方法長期下來不但浪費了許多人力、時間的成本，並且容易因為不同擦拭方式、不同人員操作模式等人為因素的不確定性，而無法維持穩定且優良的焊接品質。為了避免上述狀況，亦有部分產線是通過機械的方式進行清潔，將沾有溶劑的擦拭機構整個下移至與電路板接觸之後在電路板上反覆移動以進行電路板的清潔。然而，在電路板的清潔製程中，需要移動整個擦拭機構，相當耗費電力與空間。
實用新型內容本實用新型提供一種擦拭機構，其較為節省能源及空間。本實用新型提出一種擦拭機構，用以擦拭位於一擦拭區的一工件。擦拭機構包括一本體及一擦拭頭。本體包括一輸送裝置，輸送裝置包括一放卷單元、一收卷單元及一擦拭巾，擦拭巾自放卷單元放出經過擦拭區且捲入收卷單元。擦拭頭沿相互垂直的一第一軸線與一第二軸線可移動地配置於本體。擦拭頭相對於本體沿第一軸線下移以使擦拭巾抵至工件並沿第二軸線進行往復運動以擦拭工件。在本實用新型的一實施例中，上述的本體包括一對移動件,這對移動件位於該擦拭巾於擦拭區的路徑上且可沿第二軸線移動，以撐開擦拭巾或使擦拭巾垂下。在本實用新型的一實施例中，擦拭機構更包括位於同一水平面且相互垂直的一第一軌道及一第二軌道，本體適於沿第一軌道及第二軌道移動以使擦拭頭移至擦拭區的上方。在本實用新型的一實施例中，第一軌道平行於第二軸線方向，第二軌道平行於第三軸線方向，第三軸線垂直於第一軸線與第二軸線。在本實用新型的一實施例中，擦拭機構更包括一第一驅動單元，用以驅動本體沿第一軌道與第二軌道移動。在本實用新型的一實施例中，擦拭機構更包括一第二驅動單元，用以驅動擦拭頭相對於本體沿第一軸線與第二軸線移動。在本實用新型的一實施例中，上述的工件設置於一承載單元上，承載單元適於移動且頂升工件至擦拭區。在本實用新型的一實施例中，上述的承載單元受一第三驅動單元驅動而移動或頂升工件。在本實用新型的一實施例中，上述的擦拭頭適於相對於本體轉動，以改變第二軸線的方向。在本實用新型的一實施例中，擦拭機構更包括一液體供應單元，適於噴灑一液體至擦拭巾。在本實用新型的一實施例中，上述的工件為一電路板。基於上述，本實用新型的擦拭機構不需將整個本體全部下移來對工件進行擦拭，由於擦拭頭可相對於本體沿第一軸線與第二軸線移動，操作時只要將擦拭頭相對於本體沿第一軸線下移，並沿第二軸線進行往復運動以擦拭工件即可，相較於傳統，本實用新型的擦拭機構除了較為節省操作的能源以及運作空間之外，本體上亦可設置多個擦拭頭，以同時對多個工件進行清潔。此外，本實用新型的擦拭機構的擦拭頭可相對於本體轉動，以改變第二軸線的方向，若承載單元上的工件發生偏移的狀況，擦拭頭可對應地調整方向以進行擦拭。為讓本實用新型的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1是依照本實用新型的一實施例的一種擦拭機構的示意圖。
圖2至圖4是圖1的擦拭機構作動的示意圖。主要元件符號說明W:擦拭區Al:第一軸線A2:第二軸線A3:第二軸線10:工件20:承載單元30:第三驅動單元100:擦拭機構110:本體111:輸送裝置112:放卷單元114:收卷單元116:擦拭巾118:移動件120:擦拭頭130:第一軌道140:第二軌道[0039]150:第一驅動單元160:第二驅動單元170:液體供應單元
具體實施方式
圖1是依照本實用新型的一實施例的一種擦拭機構的示意圖。請參閱圖1，本實施例的擦拭機構100用以擦拭位於一擦拭區W的一工件10。在本實施例中，工件10為一電路板，但工件10的種類不以此為限制。本實施例的擦拭機構100包括一本體110、一擦拭頭120、一第一軌道130、一第二軌道140、一第一驅動單元150、一第二驅動單元160及一液體供應單元170。本體110包括一輸送裝置111，輸送裝置111包括一放卷單元112、一收卷單元114及一擦拭巾116。擦拭巾116自放卷單元112放出經過擦拭區W且捲入收卷單元114。擦拭頭120沿相互垂直的一第一軸線Al與一第二軸線A2可移動地配置於本體110。如圖1所示，本實施例的第一軸線Al的方向為垂直方向，第二軸線A2的方向為往左右水平移動的方向，但在其他實施例中第一軸線Al與第二軸線A2的方向不以此為限制。第一驅動單元150用以驅動本體110沿第一軌道130與第二軌道140移動，如圖1所示，第一軌道130與第二軌道140位於同一水平面且相互垂直地設置，在本實施例中，第一軌道130平行於第二軸線A2方向，第二軌道140平行於一第三軸線A3方向，其中第三軸線A3垂直於第一軸線Al與第二軸線A2，也就是圖面上的前後方向。第一驅動單元150驅動本體110沿第一軌道130與第二軌道140移動以使擦拭頭120移至擦拭區W的上方。第二驅動單元160用以驅動擦拭頭120相對於本體110沿第一軸線Al(垂直方向)與第二軸線A2 (左右水平方向)移動。在本實施例中，第一驅動單元150與第二驅動單元160可分別為汽缸，但第一驅動單元150與第二驅動單元160的種類並不以此為限制。液體供應單元170用來噴灑一液體(例如是清潔劑)至擦拭巾116，以使擦拭巾116接觸工件10時可去除工件上雜質。此外，如圖1所示,工件10設置於一承載單元20上,在本實施例中，承載單元20受一第三驅動單元30驅動以移動工件10至本體110的下方後再將工件10頂升至擦拭區W。在本實施例中，第三驅動單元30可為汽缸，但第三驅動單元30的種類並不以此為限制。圖2至圖4是圖1的擦拭機構作動的示意圖。請先參閱圖2，擦拭頭120與工件10分別為在擦拭巾116的上下兩側。在本實施例中，本體110包括一對移動件118，這對移動件118位於該擦拭巾116於擦拭區W的路徑上，如圖2所示，一開始這對移動件118之間的距離較遠以將擦拭巾116撐開拉平，以避免擦拭巾116被其他機構捲入或脫落。當要進行工件10的擦拭作業時，如圖3所示，這對移動件118可沿第二軸線A2相互靠近，此時擦拭巾116不接觸到這對移動件118而呈現放鬆下垂的狀態。再來，如圖4所示，擦拭頭120相對於本體110沿第一軸線Al向下移動以隔著擦拭巾116對工件10沿著第二軸線A2進行往復運動，以擦拭工件10。擦拭完畢之後，擦拭頭120沿第一軸線Al向上移動復位，使這對移動件118往遠離彼此的方向移動以回到一開始的位置，此時，擦拭巾116再度被撐開拉平，被使用過的擦拭巾116往收卷單元114的方向轉動而捲入收卷單元114中,連帶地使未使用的擦拭巾116放出於放卷單元112且移動至擦拭區W的位置以等待其後的擦拭動作。第三驅動單元30再度移動承載單元20而使得工件10移出於擦拭區W。本實施例的擦拭機構100不需將整個本體110全部下移來對工件10進行擦拭，由於擦拭頭120可相對於本體110沿第一軸線Al與第二軸線A2移動，操作時只要將擦拭頭120相對於本體110沿第一軸線Al下移，並沿第二軸線A2進行往復運動以擦拭工件10即可。相較於傳統將整個本體110全部下移需要提供較高的能源以及運作空間，本實施例的擦拭機構100除了較為節省操作的能源及空間之外，在本實施例中，雖本體110上僅配置一個擦拭頭120，但在其他實施例中，本體110上亦可設置多個擦拭頭120，以同時對多個工件10進行清潔。並且，這些擦拭頭120之間的相對位置可配合工件10擺放的位置來配置，擦拭頭120的數量並不以此為限制。此外，由於承載單元20上的工件10若在輸送的過程中發生偏移的狀況，也就是工件10雖仍維持水平但工件10的邊緣並非與第二軸線A2與第三軸線A3平行。為了避免工件10偏移時，擦拭頭120進行往復運動不能準確地對應到工件10上需要被擦拭的位置。在本實施例中，擦拭頭120可相對於本體110略微轉動至符合工件10上需要被擦拭位置的方向，也就是說，轉動後擦拭頭120仍然呈水平，但擦拭頭120所沿第二軸線A2的運動方向可對應地被改變，例如第二軸線A2的方向由原本的左右方向變為左上右下的方向等。因此，若本體110上配置有多個擦拭頭120，這些擦拭頭120可分別相對於本體110轉動，而在運作時分別依據所需沿著不同方向移動。綜上所述，本實用新型的擦拭機構不需將整個本體全部下移來對工件進行擦拭，由於擦拭頭可相對於本體沿第一軸線與第二軸線移動，操作時只要將擦拭頭相對於本體沿第一軸線下移，並沿第二軸線進行往復運動以擦拭工件即可，相較於傳統，本實用新型的擦拭機構除了較為節省操作的能源以及運作空間之外，本體上亦可設置多個擦拭頭，以同時對多個工件進行清潔。此外，本實用新型的擦拭機構的擦拭頭可相對於本體轉動，以改變第二軸線的方向，若承載單元上的工件發生偏移的狀況，擦拭頭可對應地調整方向以進行擦拭。雖然本實用新型已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本實用新型，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本實用新型的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本實用新型的保護範圍當視後附的權利要求所界定者為準。
權利要求1.一種擦拭機構，用以擦拭位於一擦拭區的一工件，其特徵在於，該擦拭機構包括: 一本體，包括一輸送裝置，該輸送裝置包括一放卷單元、一收卷單元及一擦拭巾，該擦拭巾自該放卷單元放出經過該擦拭區且捲入該收卷單元；以及 一擦拭頭，沿相互垂直的一第一軸線與一第二軸線可移動地配置於該本體，其中: 該擦拭頭相對於該本體沿該第一軸線下移以使該擦拭巾抵至該工件並沿該第二軸線進行往復運動以擦拭該工件。
2.如權利要求1所述的擦拭機構，其特徵在於，該本體包括一對移動件，該對移動件位於該擦拭巾於該擦拭區的路徑上且可沿該第二軸線移動，以撐開該擦拭巾或使該擦拭巾垂下。
3.如權利要求1所述的擦拭機構，其特徵在於，更包括位於同一水平面且相互垂直的一第一軌道及一第二軌道，該本體適於沿該第一軌道及該第二軌道移動以使該擦拭頭移至該擦拭區的上方。
4.如權利要求3所述的擦拭機構，其特徵在於，該第一軌道平行於該第二軸線方向，該第二軌道平行於一第三軸線方向，該第三軸線垂直於該第一軸線與該第二軸線。
5.如權利要求3所述的擦拭機構，其特徵在於，更包括一第一驅動單元，用以驅動該本體沿該第一軌道與該第二軌道移動。
6.如權利要求1所述的擦拭機構，其特徵在於，更包括一第二驅動單元，用以驅動該擦拭頭相對於該本體沿該第一軸線與該第二軸線移動。
7.如權利要求1所述的擦拭機構，其特徵在於，該工件設置於一承載單元上，該承載單元適於移動且頂升該工件至該擦拭區。
8.如權利要求7所述的擦拭機構，其特徵在於，該承載單元受一第三驅動單元驅動而移動或頂升該工件。
9.如權利要求1所述的擦拭機構，其特徵在於，該擦拭頭適於相對於該本體轉動，以改變該第二軸線的方向。
10.如權利要求1所述的擦拭機構，其特徵在於，更包括一液體供應單元，適於噴灑一液體至該擦拭巾。
11.如權利要求1所述的擦拭機構，其特徵在於，其特徵在於，該工件為一電路板。
專利摘要一種擦拭機構，用以擦拭位於一擦拭區的一工件。擦拭機構包括一本體及一擦拭頭。本體包括一輸送裝置，輸送裝置包括一放卷單元、一收卷單元及一擦拭巾，擦拭巾自放卷單元放出經過擦拭區且捲入收卷單元。擦拭頭沿相互垂直的一第一軸線與一第二軸線可移動地配置於本體。擦拭頭相對於本體沿第一軸線下移以使擦拭巾抵至工件並沿第二軸線進行往復運動以擦拭工件。相較於傳統，本實用新型的擦拭機構除了較為節省操作的能源以及運作空間之外，本體上亦可設置多個擦拭頭，以同時對多個電路板進行清潔。此外，本實用新型的擦拭機構的擦拭頭可相對於本體轉動。
文檔編號B08B1/00GK203061457SQ20122070798
公開日2013年7月17日 申請日期2012年12月19日 優先權日2012年12月19日
發明者陳忠賢 申請人:金寶電子(中國)有限公司, 金寶電子工業股份有限公司