一種陶瓷生產用均勻噴塗裝置的製作方法

2023-12-12 20:22:02

本發明涉及噴塗裝置技術領域，尤其涉及一種陶瓷生產用均勻噴塗裝置。

背景技術：

噴塗通過噴嘴或碟式霧化器，藉助於壓力或離心力，分散成均勻而微細的霧滴，施塗於被塗物表面的塗裝方法。可分為空氣噴塗、無空氣噴塗、靜電噴塗以及上述基本噴塗形式的各種派生的方式，如大流量低壓力霧化噴塗、熱噴塗、自動噴塗、多組噴塗等。而陶瓷噴塗是指在陶瓷的表面噴塗一層陶瓷薄膜，以改善原材料的性能，傳統的我陶瓷噴塗方法是直接用噴嘴將塗層噴塗到工件上，利用這種方法對陶瓷進行陶瓷塗層時，其精度、塗層厚度等誤差大。而現有的沒有通過旋轉進行噴塗，然後在通過毛刷對旋轉噴塗再次進行粉刷的功能，為此，針對現有的不足之處，本發明提供一種陶瓷生產用均勻噴塗裝置。

技術實現要素：

本發明的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種陶瓷生產用均勻噴塗裝置。

為了實現上述目的，本發明採用了如下技術方案：

一種陶瓷生產用均勻噴塗裝置，包括操作臺，所述操作臺的下端四角均設有支撐腿，所述操作臺的上端中部設有圓柱，所述圓柱的兩側均設有滑軌，所述滑軌相對的一端均安裝有限位塊，所述滑軌上設有滑塊，所述滑塊的上端設有旋轉裝置，所述旋轉裝置上放置有固定吸盤，所述圓柱的側壁上固定安裝有兩個固定盤，兩個所述固定盤上分別連接有伸縮機構，所述伸縮機構遠離固定盤的一端連接有固定刷頭，所述固定刷頭上設有刷毛，所述圓柱的上端設有支撐柱，所述支撐柱的上端設有儲液箱，儲液箱的兩側均安裝有橫板，所述支撐柱的兩側壁上均連接有支撐杆，所述支撐杆遠離固定板的一端固定連接在橫板上，所述橫板的末端設有凹槽，所述凹槽內通過轉軸連接有豎杆，所述豎杆的一側設有空心管，所述空心管遠離豎杆的一側安裝有噴嘴，所述儲液箱的兩端設有輸送管，所述輸送管遠離儲液箱的一端貫穿空心管並連接在噴嘴上。

優選地，所述噴嘴的表面上均勻分布有噴孔，所述噴孔均設有過濾網。

優選地，所述輸送管為伸縮軟管。

優選地，所述伸縮機構為伸縮杆。

優選地，所述旋轉裝置為伺服電機。

本發明中，通過滑塊和滑軌移動靠近限位塊，然後通過固定吸盤將陶瓷固定在上面進行旋轉，在操作臺的兩端安裝有刷毛，通過圓柱上端的儲液箱，分別在儲液箱的兩側壁上通過輸送管連接到噴嘴，且刷毛和噴嘴均相對應在固定吸盤的上方兩側。本發明結構簡單，通過陶瓷旋轉進行噴塗，刷毛將旋轉的陶瓷進行均勻粉刷，操作簡單，實用方便。

附圖說明

圖1為本發明提出的一種陶瓷生產用均勻噴塗裝置的結構示意圖；

圖2為本發明提出的一種陶瓷生產用均勻噴塗裝置的噴嘴的表面結構。

圖中：1支撐腿、2旋轉裝置、3操作臺、4滑軌、5豎杆、6轉軸、7凹槽、8橫板、9支撐杆、10輸送管、11儲液箱、12固定盤、13伸縮機構、14毛刷、15空心管、16噴嘴、17固定吸盤、18滑塊。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。

參照圖1-2，一種陶瓷生產用均勻噴塗裝置，包括操作臺3，操作臺3的下端四角均設有支撐腿1，對整個機體起到支撐作用，操作臺3的上端中部設有圓柱，圓柱的兩側均設有滑軌4，滑軌4相對的一端均安裝有限位塊，限制滑塊18的範圍，防止滑塊18超出限位塊所在的位置，滑軌4上設有滑塊18，滑塊18的上端設有旋轉裝置2，旋轉裝置2上放置有固定吸盤17，圓柱的側壁上固定安裝有兩個固定盤12，兩個固定盤12上分別連接有伸縮機構13，伸縮機構13遠離固定盤的一端連接有固定刷頭，固定刷頭上設有刷毛14，刷毛14的數量為若干個，且刷毛14為軟毛，更具有抗腐蝕性，耐磨，圓柱的上端設有支撐柱，支撐柱的上端設有儲液箱11，儲液箱11的兩側均安裝有橫板8，支撐柱的兩側壁上均連接有支撐杆9，支撐杆9對橫板8起到穩固支撐作用，支撐杆9遠離固定板的一端固定連接在橫板8上，橫板8的末端設有凹槽7，凹槽7內通過轉軸6連接有豎杆5，豎杆5的一側設有空心管15，空心管15遠離豎杆5的一側安裝有噴嘴16，儲液箱11的兩端設有輸送管10，輸送管10遠離儲液箱11的一端貫穿空心管15並連接在噴嘴16上。

本發明中，噴嘴16的表面上均勻分布有噴孔，噴孔處均設有過濾網，可過濾噴塗效果的有害大顆粒，從而減少噴孔堵塞並大幅提升表面梳理質量，輸送管10為伸縮軟管，伸縮機構13為伸縮杆，旋轉裝置2為伺服電機，通過伺服電機上絲杆和螺母帶動固定吸盤17旋轉。

本發明中，通過滑塊18和滑軌4移動靠近限位塊，然後通過固定吸盤17將陶瓷固定在上面進行旋轉，在操作臺3的兩端安裝有刷毛14，通過圓柱上端的儲液箱11，分別在儲液箱11的兩側壁上通過輸送管10連接有噴嘴16，且刷毛14和噴嘴16均相對應在固定吸盤17的上方兩側。

以上所述，僅為本發明較佳的具體實施方式，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，根據本發明的技術方案及其發明構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。