用於金屬基片的電化學拋光裝置製造方法
2023-09-15 03:55:25 1
專利名稱:用於金屬基片的電化學拋光裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種用於金屬基片的電化學拋光裝置，包括基座組件、電解槽組件和活動組件；所述電解槽組件以及活動組件均設置在所述基座組件上；所述電解槽組件包括用於盛放電解液的玻璃容器，以及設置在玻璃容器內電解液中的陰極棒和陽極組件，所述陰極棒和陽極組件之間設置有直流電源；所述活動組件包括頂梁，以及設置在所述頂梁上端並能繞所述頂梁旋轉的旋轉臂；所述旋轉臂的末端設置有豎直連接件；以及驅動所述豎直連接件升降的驅動器；所述豎直連接件的下端懸掛所述陽極組件。本實用新型的電化學拋光裝置不僅操作簡便，而且能夠批量進行拋光操作，具有拋光速率快，及時去除汙垢以及毛邊，能夠使得金屬基片呈現高光潔度和光澤的效果。
【專利說明】用於金屬基片的電化學拋光裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及化學拋光的【技術領域】，更具體地說，本實用新型涉及一種用於金屬基片的電化學拋光裝置。
【背景技術】
[0002]為了提供高金屬物件表面的平整度，就需要去除金屬物件表面的毛邊、刮痕、焊縫以及氧化等缺陷，而這通常通過磨光或拋光的工序來完成。磨光一般要分多次進行，以逐漸降低物件表面的粗糙度，磨光後的金屬表面可以達到0.1微米級別的粗糙度，但是對於磨光工藝而言，耗費工時長，效率較為低下。因此，在現有技術中通常採用拋光工藝來提高金屬物件表面的平整度。拋光通常是採用機械和/或化學(包括電化學)的方式進行，經過拋光後的金屬物件表面光滑、光澤度較高，而且還利於改善和提高金屬物件的各種物理化學性能，例如有利於改善耐蝕性、清潔度以及熱傳導等性能，有利於提高金屬基片的綜合性能，尤其是電化學拋光，其不僅能夠使得金屬物件表面平整，而且可以用於複雜形狀以及薄片狀金屬物件的拋光，但是現有技術中金屬物件的拋光通常是針對單一的基片進行，其拋光生廣效率還有待進一步提尚。
實用新型內容
[0003]為了解決現有技術中的上述技術問題，本實用新型的目的在於提供一種用於金屬基片的電化學拋光裝置。
[0004]為了實現上述目的，本實用新型採用了以下技術方案:
[0005]一種用於金屬基片的電化學拋光裝置，包括基座組件、電解槽組件和活動組件；其特徵在於:所述電解槽組件以及活動組件均設置在所述基座組件上；所述電解槽組件包括用於盛放電解液的玻璃容器，以及設置在玻璃容器內電解液中的陰極棒和陽極組件，所述陰極棒和陽極組件之間設置有直流電源；所述活動組件包括頂梁，以及設置在所述頂梁上端並能繞所述頂梁旋轉的旋轉臂；所述旋轉臂的末端設置有豎直連接件；以及驅動所述豎直連接件升降的驅動器；所述豎直連接件的下端懸掛所述陽極組件。
[0006]其中，所述陽極組件包括金屬框架，以及設置在所述金屬框架上用於放置金屬基片的多個陽極擱架。
[0007]其中，所述電解槽組件還包括設置在電解液內的加熱線圈。
[0008]其中，所述電解槽組件還包括控制所述加熱線圈的加熱控制器。
[0009]其中，所述基座組件包括用於支撐所述電解槽組件和活動組件的支架，以及設置在所述支架下方的連接件，以及設置在連接件下端的滾輪。
[0010]與現有技術相比，本實用新型所述的用於金屬基片的電化學拋光裝置具有以下有益效果:
[0011]本實用新型的電化學拋光裝置不僅操作簡便，而且能夠批量進行拋光操作，具有拋光速率快，及時去除汙垢以及毛邊，能夠使得金屬基片呈現高光潔度和光澤的效果。
【附圖說明】
[0012]圖1為實施例1所述用於金屬基片的電化學拋光裝置的整體結構示意圖。
【具體實施方式】
[0013]以下將結合具體實施例對本實用新型所述的用於金屬基片的電化學拋光裝置做進一步的闡述，以幫助本領域的技術人員對本實用新型的實用新型構思、技術方案有更完整、準確和深入的理解。
[0014]實施例1
[0015]本實施例涉及一種用於金屬基片的電化學拋光裝置，包括基座組件10、電解槽組件20和活動組件30 ;所述基座組件10包括用於支撐所述電解槽組件20和活動組件30的支架11，以及設置在所述支架下方的連接件12，以及設置在連接件下端的滾輪13。所述電解槽組件20包括用於盛放電解液的玻璃容器21，以及設置在玻璃容器21內電解液中的陰極棒22和陽極組件23，所述陰極棒22和陽極組件23之間設置有直流電源(圖中未示出)，所述陽極組，23包括金屬框架27，以及設置在所述金屬框架27上用於放置金屬基片的多個陽極擱架24 ;所述電解槽組件20還包括設置在電解液內的加熱線圈25，此外還包括控制所述加熱線圈的加熱控制器26。所述活動組件30包括頂梁31，以及設置在所述頂梁31上端並能繞所述頂梁旋轉的旋轉臂32 ;所述旋轉臂的末端設置有豎直連接件33 ;以及驅動所述豎直連接件升降的驅動器34。本實施例的電化學拋光裝置不僅操作簡便，而且能夠批量進行拋光操作，具有拋光速率快，及時去除汙垢以及毛邊，能夠使得金屬基片呈現高光潔度和光澤的效果。
[0016]對於本領域的普通技術人員而言，具體實施例只是對本實用新型進行了示例性描述，顯然本實用新型具體實現並不受上述方式的限制，只要採用了本實用新型的方法構思和技術方案進行的各種非實質性的改進，或未經改進將本實用新型的構思和技術方案直接應用於其它場合的，均在本實用新型的保護範圍之內。
【權利要求】
1.一種用於金屬基片的電化學拋光裝置，包括基座組件、電解槽組件和活動組件；其特徵在於:所述電解槽組件以及活動組件均設置在所述基座組件上；所述電解槽組件包括用於盛放電解液的玻璃容器，以及設置在玻璃容器內電解液中的陰極棒和陽極組件，所述陰極棒和陽極組件之間設置有直流電源；所述活動組件包括頂梁，以及設置在所述頂梁上端並能繞所述頂梁旋轉的旋轉臂；所述旋轉臂的末端設置有豎直連接件；以及驅動所述豎直連接件升降的驅動器；所述豎直連接件的下端懸掛所述陽極組件。2.根據權利要求1所述的用於金屬基片的電化學拋光裝置，其特徵在於:所述陽極組件包括金屬框架，以及設置在所述金屬框架上用於放置金屬基片的多個陽極擱架。3.根據權利要求1所述的用於金屬基片的電化學拋光裝置，其特徵在於:所述電解槽組件還包括設置在電解液內的加熱線圈。4.根據權利要求3所述的用於金屬基片的電化學拋光裝置，其特徵在於:所述電解槽組件還包括控制所述加熱線圈的加熱控制器。5.根據權利要求1所述的用於金屬基片的電化學拋光裝置，其特徵在於:所述基座組件包括用於支撐所述電解槽組件和活動組件的支架，以及設置在所述支架下方的連接件，以及設置在連接件下端的滾輪。
【文檔編號】C25F3-16GK204298503SQ201420779218
【發明者】朱曉飛, 宋東虹 [申請人]朱曉飛