一種化妝品自動加工設備及化妝品加工方法與流程

2023-09-13 11:43:35 1

本發明涉及化妝品的裝備技術領域，具體涉及一種化妝品自動加工設備及化妝品加工方法。

背景技術：

日常化妝品生產需要經過投料、攪拌和加熱等操作過程。目前化妝品的整個生產流程，不同的生產操作過程一般是在不同的加工設備上完成。例如投料過程是通過投料機來進行，原料的攪拌由攪拌機進行，成品包裝由包裝機械進行等等。每臺加工設備都需要一個專人進行操作，增加了人力物力成本。另外，由於化妝品各個生產操作過程彼此分開，化妝品的半成品在輸送環節不僅需耗費大量時間，而且還會由於時間上的延長關係導致原料之間的反應效果不佳，甚至影響化妝品成品的品質。

技術實現要素：

本發明的主要目的是提供一種生產效率高且降低生產成本的化妝品自動加工設備。

本發明的另一目的是提供一種快速生產且有效提高化妝品品質的化妝品加工方法。

為實現上述的主要目的，本發明提供的化妝品自動加工設備包括機架；機架上安裝有計算機、連接到計算機的plc控制器、傳送機構、用於對化妝品來料進行投放調配的加料下壓機構、用於將調配好的化妝品來料進行合成操作的反應裝置和用於將完成合成操作的化妝品進行灌裝的灌裝裝置。加料下壓機構、反應裝置及灌裝裝置均與plc控制器連接。

由此可見，化妝品自動加工設備採用自動化生產，並且將加料下壓機構、反應裝置、灌裝裝置等加工生產模塊集合到一整套的生產設備中，這樣，無需將化妝品各個生產環節分開在不同的設備中進行加工生產。由於減少了設備的數量，既減少了生產設備的投入，也有效減少了化妝品在各個生產模塊之間的流轉所需的時間，從而提高了生產效率。人工將化妝品生產原料投放到自動加工設備後，由計算機對自動加工設備的各個生產模塊進行任務分配，生產模塊根據計算機預先設計的程序指令自動執行生產操作的流程，完成整個化妝品加工流程。整個化妝品生產過程，只需要一個人就可以完成對生產設備的操作，節約了人力成本。

優選地，加料下壓機構包括主軸、下壓轉盤和原料轉盤。原料轉盤安裝在主軸上，原料轉盤可繞所述主軸轉動。原料轉盤上設有驅動原料轉盤繞主軸轉動的第一驅動裝置，原料轉盤的邊緣還設置有注射器。下壓轉盤安裝在所述主軸上，並且置於原料轉盤的上方，下壓轉盤可繞主軸轉動。下壓轉盤上設有驅動下壓轉盤繞主軸轉動的第二驅動裝置。下壓轉盤的邊緣安裝有下壓模組與下壓驅動裝置，下壓模組連接下壓驅動裝置。第一驅動裝置、第二驅動裝置和下壓驅動裝置均連接到plc控制器。

由此可見，加料下壓機構採用的是由下壓轉盤和原料裝盤組合而成的轉動模式，並由plc控制器來控制下壓轉盤和原料轉盤的運動。將裝好原料的注射器安裝到原料轉盤，再由原料轉盤下壓轉盤上的下壓模組將注射器中的原料注推到反應裝置中。原料轉盤和下壓轉盤通過轉動，就可以將不同注射器中的原料按比例成分投放到反應裝置中。相對於傳統的直線傳動模式，轉動模式的加料下壓機構可有效節約空間，減少設備的製造成本。此外，轉動模式亦可減少原料投放的時間。

優選地，反應裝置包括水浴鍋、反應釜、第一行走機構和釜蓋。水浴鍋上設置有進水口和出水口，水浴鍋上還設有用以控制進水口開合的第一控制閥和用以控制出水口開合的第二控制閥。反應釜的底部設有一個由壓力閥控制開合的開口。第一行走機構架設在水浴鍋的上方；釜蓋安裝在所述第一行走機構上。釜蓋上設有攪拌裝置、均質裝置、溫度傳感器和抽真空裝置；第一控制閥、第二控制閥、攪拌裝置、均質裝置與抽真空裝置的驅動裝置均連接到所述plc控制器。

由此可見，用反應釜接收加料下壓機構按比例成分投放的化妝品原料。當原料投放完畢，釜蓋緊壓在反應釜上，釜蓋上的攪拌裝置和均質裝置對反應釜中的原料進行攪拌、均質操作。攪拌裝置和均質裝置安裝在釜蓋上，攪拌裝置和均質裝置可快速移動，節約空間，減少生產時間。通過水浴鍋中的水流動，控制水的溫度和流速，即可實現對反應釜的溫度控制。設備結構簡單，易於操作。溫度傳感器監測反應釜中的溫度，並將反應釜中的溫度即時顯示在計算機上，操作人員即可根據顯示的溫度調整水浴鍋中的水的溫度與流速以控制反應釜中的溫度，從而保證化妝品原料始終保持在最佳反應溫度，提高化妝品的品質。

優選地，機架的兩邊各設置有3個反應裝置。

由此可見，多個反應裝置同時進行原料反應操作，有效提高化妝品的整體生產效率。

優選地，灌裝裝置包括用於承放反應釜的工作檯、第二行走機構和灌裝活塞。第二行走機構架設在工作檯的上方，灌裝活塞設置在第二行走機構上，第二行走機構的驅動裝置連接到plc控制器。

由此可見，灌裝活塞安裝在第二行走機構上，灌裝活塞可快速移動到工作檯上進行灌裝操作，從而節約灌裝時間。

優選地，機架的兩側都設置有清洗水槽，清洗水槽用於清洗釜蓋和灌裝活塞。

由此可見，在每一次的相應操作完成後，釜蓋和灌裝活塞可分別通過第一行走機構與第二行走機構，快速移動到清洗槽中進行清洗。這樣就不必在加工設備中額外安裝水槍對釜蓋和灌裝活塞進行噴洗，並且清洗槽中的水更有利於回收與淨化，有效保證生產車間的環境乾淨衛生。

優選地，傳送機構包括機械手、機械手轉盤。機械手轉盤設置在主軸上並置於原料轉盤的下方，機械手轉盤的驅動裝置連接到plc控制器，機械手設置在所述機械手轉盤上。

由此可見，傳送機構為機械手，機械手可隨著機械手轉盤繞主軸轉動，到達各個反應裝置的位置，並且機械手由於自身的多軸聯動特性，機械手無需很大的活動空間即可將反應裝置中裝有原料的器皿移動到灌裝裝置進行灌裝操作。

優選地，機架的頂端還安裝有警示燈，警示燈與plc控制器連接。

由此可見，當生產加工過程中出現異常現象或加工完畢，plc控制器及發出警告指令，並通過警示燈的閃爍提醒操作工人進行相應的操作。

為實現上述的另一目的，本發明提供的化妝品加工方法包括：將化妝品原料投放到加工設備的加料下壓裝置；加工設備的plc控制器向加料下壓裝置發送出料指令，加料下壓裝置根據所述出料指令將化妝品原料投放到反應裝置，反應裝置對原料進行合成操作；加工設備的傳送機構將合成操作後的化妝品成品移動到灌裝裝置，灌裝裝置對所述化妝品成品進行灌裝操作。

由此可見，對化妝品進行加工，首先將各種原料投放到加工設備的加料下壓裝置，然後由加工設備的plc控制器向各工作模塊發送不同的加工指令，各工作模塊執行相應的指令操作，完成整個化妝品加工過程。整個過程利用電腦控制，實現了生產的自動化過程，縮短了各個步驟中的流轉環節，有效提高了生產效率，節約了人力物力的成本，保證了化妝品的成品質量。

優選地，反應裝置包括水浴鍋、反應釜、第一行走機構和釜蓋。水浴鍋上設置有進水口和出水口，水浴鍋上還設有用以控制進水口開合的第一控制閥和用以控制出水口開合的第二控制閥。反應釜的底部設有一個由壓力閥控制開合的開口。第一行走機構架設在水浴鍋的上方；釜蓋安裝在所述第一行走機構上。釜蓋上設有攪拌裝置、均質裝置、溫度傳感器和抽真空裝置；第一控制閥、第二控制閥、攪拌裝置、均質裝置與抽真空裝置的驅動裝置均連接到所述plc控制器。

原料合成操作包括以下步驟：加工設備的plc控制器向釜蓋發送移動指令，釜蓋根據移動指令移動並緊壓在所述反應釜上；攪拌裝置與均質裝置同時對反應釜中的化妝品原料進行攪拌操作與均質操作；抽真空裝置對所述反應釜進行抽真空操作；進水口與所述出水口同時打開，通過水流動，對所述水浴鍋進行升溫、保溫和降溫等溫度控制操作。

由此可見，利用釜蓋上的攪拌裝置與均質裝置同時對反應釜中的化妝品原料進行相應的攪拌操作與均質操作，並進行抽真空和溫度控制，有利於減少化妝品原料反應時間，提高化妝品的成品質量。

附圖說明

圖1是本發明化妝品自動加工設備實施例的結構圖。

圖2是本發明化妝品自動加工設備實施例的局部結構的第一視角的結構圖。

圖3是本發明化妝品自動加工設備實施例的局部結構的第二視角的結構圖。

圖4是本發明化妝品自動加工設備實施例的局部結構的第三視角的結構圖。

圖5是本發明化妝品自動加工設備實施例的加料下壓機構及機械手第一視角的結構圖。

圖6是本發明化妝品自動加工設備實施例的加料下壓機構及機械手第二視角的結構圖。

圖7是本發明化妝品自動加工設備實施例的反應裝置局部放大第一視角的結構圖。

圖8是本發明化妝品自動加工設備實施例的反應裝置局部放大第二視角的結構圖。

圖9是本發明化妝品自動加工設備實施例的水浴鍋的結構圖。

圖10是本發明化妝品自動加工設備實施例的反應釜第一視角的結構圖。

圖11是本發明化妝品自動加工設備實施例的反應釜第二視角的結構圖。

圖12是本發明化妝品自動加工設備實施例的反應裝置及灌裝裝置的結構圖。

以下結合附圖及實施例對本發明作進一步說明。為了更好地說明本實施例，附圖某些附件會有省略、放大或者縮小；對於本領域技術人員來說，附圖中某些公知結構及其說明可能省略是可以理解的。

具體實施方式

本發明是一種智能化的化妝品自動加工設備。將化妝品生產的數位化配方程序發送給自動加工設備後，自動加工設備根據數位化配方程序，逐句進行解析，並按照發送的任務指令（數位化動作、時間條件），判斷何時執行及執行具體的動作，從而完成整套的化妝品加工工藝生產流程。

參見圖1至圖4，本實施例提供的化妝品自動加工設備包括機架1，機架1上安裝有計算機2、連接到計算機2的plc控制器（圖中未示出）、用於對化妝品來料進行投放調配的加料下壓機構3、用於將調配好的化妝品來料進行合成操作的反應裝置4和用於將完成合成操作的化妝品進行灌裝的灌裝裝置5，並且加料下壓機構3、反應裝置4及灌裝裝置5均與plc控制器連接。計算機2設置在機架1的正面，有助於操作工人更好地進行操作控制，在計算機顯示屏幕上可即時看到加工設備的反饋信息，並根據反饋信息及時做出有效的處理動作。進一步的，機架1的頂端還設有警示燈6。當加工過程中設備出現產品堆積或者機械故障等狀況，警示燈6就會不停閃爍，提醒操作工人進行檢查或者其他操作；當設備恢復正常，警示燈6停止閃爍。

機架1的底端是設有可開啟的門的封閉空間，plc控制器、電氣電路等其他功能模塊安裝在該封閉空間內。這樣使得這些對工作環境要求嚴格的元器件得到有效保護，避開了生產車間潮溼複雜的環境，也有利於加工設備的維護保養工作。加料下壓機構3安裝在機架的正中間位置，反應裝置4設置在加料下壓機構3的兩側，兩側的反應裝置4的數量均為3個，並等距分布。這樣設置，加料下壓機構3可快速把化妝品原料分配到反應裝置4中去，減少原料配送的距離，增加工位，有效提高了化妝品的生產效率。灌裝裝置5設置在機架1的前面，通過傳送機構將在反應裝置4之中完成合成反應的化妝品成品移送到灌裝裝置5進行灌裝操作。

將化妝品生產的數位化配方程序發送給化妝品自動加工設備，計算機2讀取並逐句解析化妝品生產的數位化配方程序，並將解析後的數位化配方程序發送到plc控制器，plc控制器按照發送的任務指令（數位化動作、時間條件），判斷執行的具體動作及何時執行，化妝品自動加工設備的動作執行機構在相應的時間執行相應的加工動作。

傳統的化妝品加料配料過程一般是採用直線行走的流水線作業模式，這樣需要佔據很大的空間，拉長了作業距離，利於工人的操作管理。因此本發明採用了曲線運動作業模式。參見圖5與圖6，加料下壓機構3採用的是由下壓轉盤和原料裝盤組合而成的轉動模式。加料下壓機構3包括主軸31、原料轉盤32和下壓轉盤33。原料轉盤32安裝在主軸上31，原料轉盤32採用圓形轉盤的結構設計。原料轉盤32上設有驅動原料轉盤33繞主軸31轉動的第一驅動裝置。第一驅動裝置包括有第一電機321、第一減速機（圖中未示出）和第一齒輪322。主軸31上固定安裝有的第一固定板311，第一電機321固定安裝在第一固定板311上；第一齒輪322固定安裝在原料轉盤32正中間上面，這樣第一齒輪322的圓心與主軸31的圓心重合。第一電機321的輸出端固定連接第一減速機，第一齒輪減速機的輸出軸與第一齒輪322配合安裝。第一電機321連接到plc控制器並由plc控制器控制其工作。plc控制器控制第一電機321啟動，第一電機321利用第一減速機降速增大扭矩的特性，由第一減速機帶動第一齒輪322轉動從而帶動原料轉盤32繞主軸31轉動。原料轉盤的邊緣還設置有注射器323，注射器323用於裝載化妝品原料並且是可拆卸的。

同樣的，下壓轉盤33安裝在主軸31上，並且置於原料轉盤32的上方，下壓轉盤33採用一種雙層的板狀結構，下壓轉盤33上設有驅動下壓轉盤33繞主軸31轉動的第二驅動裝置。第二驅動裝置包括有第二電機331、第二減速機（圖中未示出）和第二齒輪332。主軸31上固定安裝有的第二固定板312，第二電機331固定安裝在第二固定板312上；第二齒輪332固定安裝在下壓轉盤33上面，這樣第二齒輪332的圓心與主軸31的圓心重合。第二電機331的輸出端固定連接第二減速機，第二減速機的輸出軸與第二齒輪332配合安裝。第二電機331連接到plc控制器並由plc控制器控制其工作。plc控制器控制第二電機331啟動，第二電機331利用第二減速機降速增大扭矩的特性，由第二減速機帶動第二齒輪332轉動從而帶動下壓轉盤33繞主軸31轉動。下壓轉盤33的一端安裝有下壓模組與下壓驅動裝置，下壓模組連接下壓驅動裝置。下壓模組包括下壓杆333和安裝在下壓杆333底端的壓板334，下壓驅動裝置包括第三電機335與第三減速機336，第三減速機336連接到plc控制器並由plc控制其工作。第三電機335的輸出端連接第三減速機336，第三減速機336的輸出端連接有絲杆（圖中未示出），絲杆上安裝有滑塊337，滑塊337與下壓模組的下壓杆333連接。下壓轉盤33上還設置有可活動的連杆（圖中未示出）和伸縮氣缸（圖中未示出），連杆底端連接一塊u型板338，伸縮氣缸的伸縮杆（圖中未示出）也連接到u型板338。伸縮氣缸通氣，u型板338即可上下運動。當plc控制器驅動第三電機335，第三電機335通過第三減速機336及絲杆的傳動，推動下壓模組向下運動，壓板334將注射器323中的化妝品原料注射到原料轉盤32下方反應裝置4中，同時，伸縮氣缸通氣，u型板338與下壓模組隨滑塊337一起向下運動，起到穩定注射器323的作用。第三電機335反轉，則下壓模組向上運動達到復位狀態。優選地，第三電機335採用伺服電機，加上下壓模組採用的是絲杆傳動，這樣第三電機根據配方程序的指令使下壓模組產生一個精準的向下位移，從而控制注射器323中的每種化妝品原料都能注射出準確的劑量，保證化妝品合成的成分準確無誤，提高化妝品的品質。

反應裝置4可以直接設置在原料轉盤32上的注射器323的正下方，而下壓模組的轉動軌跡正好位於注射器323的正上方，這樣下壓模組可以準確地將注射器323中的化妝品原料準確無誤地注射到反應裝置中，但這樣可能會縮小傳動機構的運動空間，阻礙到傳動機構的運動靈活度。優選地，原料轉盤32上設置有多個同樣的可沿徑向滑動的滑杆，以其中一個滑杆324為例，滑杆324的末端設有安放注射器323的階梯圓孔325，滑杆324的中間設有一個凹槽326，下壓轉盤33上設置有活塞氣缸328，活塞氣缸328可由plc控制器開啟。活塞氣缸328連接有一活動杆327，並且活動杆327的一端剛好置於凹槽326中。當活塞氣缸328通氣，活塞氣缸328推動活動杆327沿徑向向外運動，從而推動滑杆324伸出到反應裝置的正上方。注射化妝品原料完畢，活塞氣缸328從而使滑杆324沿徑向縮回。下壓轉盤33轉動，活動杆327即可作用於下一滑杆。

在原料轉盤32的下方設有傳送機構，傳送機構採用機械手模式，包括機械手轉盤34與機械手35，機械手轉盤34和機械手35的驅動裝置都有plc控制器控制。其中機械手轉盤34與下壓轉盤33採用相同的結構安裝模式，這裡不再贅述。機械手35安裝在機械手轉盤34的一端，機械手35的上下運動由電機驅動，伸縮運動由氣缸驅動。上下運動和伸縮運動的工作原理參見下壓轉盤33的下壓模組及活動杆327的驅動原理，這裡亦不需作過多的陳述。這樣，結合機械手轉盤34的轉動、機械手35的上下及伸縮運動，機械手35可進行立體空間的多軸運動，到達空間的任一位置，從而為各個工位進行傳送運作。

參見圖7至圖11，反應裝置4包括水浴鍋41、反應釜42、第一行走機構和釜蓋44。水浴鍋41上設置有進水口411和出水口412，水浴鍋41上還設有用以控制進水口411開合的第一控制閥（圖中未示出）和用以控制出水口412開合的第二控制閥（圖中未示出）。第一控制閥與第二控制閥由plc控制器控制。通過控制進水口411與出水口412的水循環流動，例如控制水循環的流速，水溫等等，可調節水浴鍋41的溫度。反應釜42的底部設有一個由壓力閥控制開合的開口421。反應釜42的上端表面還設有第一凸起422和第二凸起423，第一凸起422和第二凸起423之間形成卡槽424。進行化妝品原料合成反應時，反應釜42置於水浴鍋41裡，反應釜42的第一凸起422起到承重作用，反應釜42的卡槽424位於水浴鍋41的上方。機械手35可夾持反應釜42的卡槽424進行移動操作。第一行走機構架設在水浴鍋41的上方，第一行走機構包括有架設在水浴鍋41上方的第一龍門架431，第一龍門架431上設有第一導杆432，第一導杆432上設有第一滑塊433。為保證受力的穩定，第一導杆數量為兩條，這裡僅以其中一條作為說明。龍門架最上方設有齒條434和導軌435，齒條434安裝在導軌435的內側。導軌435上面安裝有第二滑塊436和第四電機437，第二滑塊436與第一滑塊433之間通過連接板438連接在一起。第四電機437與第四減速機（圖中未示出）配合，第四減速機安裝在第二滑塊436上，並且第四減速機的輸出軸與齒條434配合連接，當第四電機437轉動，第一滑塊433在第一導杆432上滑動，第二滑塊436在齒條434上移動。釜蓋44通過上下移動模組連接到連接板438上，其連接方式和驅動原理參見下壓轉盤33上的下壓模組，這裡不再作詳細的說明。

釜蓋44上設有攪拌裝置441、均質裝置442、溫度傳感器443和抽真空裝置444。攪拌裝置441設計有u型攪拌槳，攪拌槳的空載轉速範圍100轉/分鐘至1000轉/分鐘。均質裝置442設計有dg12均質刀頭，均質刀頭的空載轉速範圍為18000轉/分鐘至40000轉/分鐘。溫度傳感器443用以監測反應釜42中的溫度，並將監測到的溫度信息反饋到計算機2，由計算機2自動調節或者人工調節反應釜42的溫度，保證反應釜42始終處於最佳反應溫度。抽真空裝置444可使反應釜42中的真空度達到0.06mpa。釜蓋44上面還設有可自動開合的加料口445，當化妝品原料不足或者其他情況，可通過加料口445添加化妝品原料到反應釜42之中。

化妝品原料在反應釜42中進行合成操作反應，攪拌裝置441與均質裝置442同時進行操作，並根據合成過程進行攪拌與均質的轉速調節。攪拌裝置441置於釜蓋44的正中間、均質裝置442置於釜蓋44的非中心位置，有助於更好地實現化妝品原料的合成。攪拌均質過程完畢，按照預定的程序依次進行真空調節、加熱調節、保溫調節及冷卻調節，直至完成整個合成反應過程。

參見圖12，灌裝裝置5安裝在機架1的正前方。灌裝裝置5包括用於承放反應釜42的工作檯51、第二行走機構和灌裝活塞53。第二行走機構包括第二龍門架521，第二龍門架521架設在工作檯51的上方。第二龍門架521上設有第二導杆522,第二導杆522上設置有滑動裝置523。滑動裝置523可沿第二導杆522平移。灌裝活塞53安裝在滑動裝置523上，灌裝活塞53還連接有上下移動模組和旋轉模組。上下移動模組的工作原理參見下壓轉盤33的下壓模組的工作原理，旋轉模組的工作原理參見原料轉盤32的轉動原理，這裡不再做詳細的陳述。這樣一來，灌裝活塞53可實現平移、上下移動及轉動。

當反應釜42中的化妝品原料合成反應完畢，機械手35夾持反應釜42到工作檯51上，灌裝活塞53移動到反應釜42的正上方，旋轉並下壓，把反應釜42中的化妝品成品從反應釜42底部的開口421中擠出，裝入到放置於工作檯51下方的容器中。

化妝品是一種多成分合成產品，對每一件成品的成分組成都有極高的要求，若某一種原料的成分比重過高或過低，很有可能影響到化妝品的使用效果，故每一件產品的反應和灌裝過程需要與後一件成品的製程分開，避免前一件產品的殘留部分進入後一件產品之中，影響化妝品產品的質量。因此，在機架1的兩側都設置有清洗水槽7，並且置於第一龍門架431和第二龍門架521的下方。釜蓋44和灌裝活塞53每完成一次對應操作，都移動到清洗水槽7中進行清洗。清洗水槽7採用的是超聲波振動清洗，當然也可以採用高壓衝洗。

本發明提供的化妝品加工方法包括：在原料配送車間將各個成分的化妝品原料分裝到每一個注射器323之中，然後將注射器323投放到加工設備的加料下壓裝置3上的原料轉盤32上。加工設備的plc控制器向加料下壓裝置3發送出料指令，根據所述出料指令，加料下壓裝置3下壓轉盤33轉動到指令對應的注射器323所在的工位，下壓模組下壓並通過壓板334推動注射器323投放一定量的化妝品原料到注射器323正下方的反應釜42之中，化妝品原料的投放量通過指令控制下壓模組的位移量，從而實現控制注射器323之中的化妝品原料投放量。

待完整的化妝品配方原料全部投放到反應裝置4，反應裝置4對原料進行合成操作。原料合成操作包括以下步驟：加工設備的plc控制器向釜蓋44發送移動指令，釜蓋44根據移動指令移動並緊壓在反應釜42上。此時，攪拌裝置441與均質裝置442同時對反應釜42中的化妝品原料進行攪拌操作與均質操作；並根據反應進程調整攪拌裝置441和反應裝置442的轉速。攪拌與均質完畢，抽真空裝置444對所述反應釜42進行抽真空操作，是化妝品原料在反應釜42之中接近真空的環境下進行一系列的物理、化學反應。緊接著，水浴鍋41的進水口與出水口同時打開，通過第一控制閥和第二控制閥對水浴鍋41中的流水進行流速、熱水、溫水和冷水轉換等調節控制，實現對反應釜42進行升溫、保溫和降溫等溫度控制操作。在這之中，每當完成一次化妝品原料合成操作，釜蓋44移動到清洗水槽7之中進行清洗，然後釜蓋44再進行下一次的化妝品原料合成操作。

原料合成操作完畢，加工設備的傳送機構，即機械手35取出反應釜52並將反應釜42移動到灌裝裝置5的工作檯51上面。灌裝裝置5的灌裝活塞53旋轉下壓，把反應釜42之中的化妝品成品從反應釜42底部的開口421中擠出，轉入到放置於工作檯51下方的容器之中。每完成一次灌裝操作，灌裝活塞63移動到清洗水槽7之中進行清洗，然後再進入下一次的灌裝操作。

以上所述僅是本發明的優選實施方式，在以上說明的基礎上，本發明還可以做出其它的不同形式的變動或者改進，例如將傳動機構由機械手改為傳送帶、加料下壓方式採用可自動伸縮的容器等等。凡在本發明精神和原則之內所做的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發明權利要求的保護範圍之內。