光刻膠回收裝置，塗布系統及塗布方法
2023-09-13 17:39:05 2
光刻膠回收裝置，塗布系統及塗布方法
【專利摘要】本發明涉及液晶製程領域，公開了一種光刻膠回收裝置，塗布系統和塗布方法。光刻膠回收裝置，包括：第一容納單元，用於容納從光刻膠出膠口流出的光刻膠；空心體，其位於第一容納單元的下方且位於上方的部分具有可單向出氣的排氣口；第一連接管，其位於上方的一端與第一容納單元位於下方的部分相連通，其位於下方的一端與空心體位於上方的部分相連通；第一容納單元內的光刻膠經第一連接管滴落至空心體內；其中，空心體用於通過可單向出氣的排氣口將光刻膠中的氣體排出。塗布系統包括上述光刻膠回收裝置。塗布方法是塗布系統的塗布方法。本發明使得在基板上形成的膜厚度均勻，同時，不僅節約了光刻膠，而且保證了回收的光刻膠的潔淨度。
【專利說明】光刻膠回收裝置，塗布系統及塗布方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及液晶製程領域，特別涉及一種光刻膠回收裝置，塗布系統及塗布方法。【背景技術】
[0002]光刻膠的塗布是液晶製程必不可少的一種工藝。
[0003]傳統塗布機的塗布過程如圖1所示，塗布機的噴嘴10 (即光刻膠出膠口)的吐膠量是隨時間變化的。塗布機的噴嘴10在接觸玻璃基板20的邊緣時開始吐膠，此時的時刻用表示；噴嘴的吐膠量從零逐漸變大，直至達到穩定值，此時的時刻用表示；這樣，在玻璃基板20上形成膜的起始部31。之後，噴嘴10的吐膠量保持在穩定值。塗布機的噴嘴10在快接觸玻璃基板20的後邊緣時停止吐膠，此時的時刻用tff±表示；噴嘴10的吐膠量從穩定值逐漸變小，直至達到零，此時的時刻用表示；這樣，在玻璃基板上形成膜的結束部32。可以看出在噴嘴開始吐膠到達到穩定值和噴嘴停止吐膠到達零的時間段，噴嘴的吐膠量是變化的，因此在玻璃基板上形成的膜厚也是不均勻的，膜的不均勻會導致光刻後的圖形不一致。
【發明內容】
[0004]本發明提供了一種光刻膠回收裝置，塗布系統和塗布方法，該塗布系統使用該塗布方法進行塗布時，使得在基板上形成的膜厚度均勻，同時，不僅節約了光刻膠，而且保證了回收的光刻膠的潔淨度。
[0005]為達到上述目的，本發明提供以下技術方案:
[0006]一種光刻膠回收裝置,包括:
[0007]第一容納單元，用於容納從光刻膠出膠口流出的光刻膠；
[0008]空心體，其位於第一容納單元的下方且位於上方的部分具有可單向出氣的排氣Π ；
[0009]第一連接管，其位於上方的一端與所述第一容納單元位於下方的部分相連通，其位於下方的一端與所述空心體位於上方的部分相連通；所述第一容納單元內的光刻膠經所述第一連接管滴落至所述空心體內；
[0010]其中，所述空心體用於在所述第一容納單元內的光刻膠經所述第一連接管滴落至所述空心體內的過程中，通過可單向出氣的排氣口將光刻膠中的氣體排出。
[0011]優選的，所述空心體是橢圓形空心體；所述橢圓形空心體的長軸沿豎直方向。
[0012]優選的，還包括第二容納單元，其位於所述空心體的下方；
[0013]第二連接管，其位於上方的一端與所述空心體位於下方的部分相連通，其位於下方的一端與所述第二容納單元相連通；經所述第一連接管滴落的光刻膠匯集在所述空心體內，所述空心體內的光刻膠在受到足夠壓力的情況下，經所述第二連接管向下流動至所述第二容納單元內。
[0014] 優選的，還包括充氣吸氣單元，其與所述第一容納單元相連通；[0015]在光刻膠從第一容納單元向下流動時，所述充氣吸氣單元向第一容納單元充氣，所充的氣體推動光刻膠向下流動；
[0016]在光刻膠全部流動到第一連接管時，所述充氣吸氣單元從所述第一容納單元吸氣，回收氣體。
[0017]優選的，所述第一容納單元還包括密封門，所述密封門可將第一開口密封。
[0018]優選的，所述第一容納單元設置有第一開口，所述第一開口可與光刻膠出膠口密封連接；
[0019]所述光刻膠回收裝置還包括抽氣單元，其與所述第一容納單元相連通；在光刻膠出膠口和所述第一開口密封連接後，所述抽氣單元可抽取所述第一容納單元中的氣體。
[0020]本發明還提供了以下技術方案:
[0021]一種塗布系統，包括:
[0022]光刻膠出膠口 ；[0023]用於放置待塗布基板的長方形機臺，其包括相對設置的第一工作側和第二工作偵牝所述光刻膠出膠口可在所述第一工作側和第二工作側之間往復運動以對待塗布基板進行塗布；
[0024]上述任一所述的光刻膠回收裝置，其設置在所述第一工作側的一端且與所述第一工作側相鄰。
[0025]優選的，所述光刻膠回收裝置是兩個，另一個設置在所述第二工作側的一端且與所述第二工作側相鄰；設置有光刻膠回收裝置的第一工作側的一端與設置有光刻膠回收裝置的第二工作側的一端位於所述機臺的對角線上。
[0026]優選的，還包括:
[0027]流量傳感器，其安裝在所述光刻膠出膠口 ；
[0028]控制單元，其與所述流量傳感器通信連接，根據流量傳感器的吐膠量，控制光刻膠出膠口。
[0029]本發明還提供了以下技術方案:
[0030]一種塗布方法，包括如下步驟:
[0031]將基板置於長方形機臺上；
[0032]將光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口密封連接；
[0033]開始出膠，光刻膠經光刻膠出膠口和第一開口流入光刻膠回收裝置；
[0034]在光刻膠出膠口的出膠達到穩定的數值後，光刻膠出膠口離開光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口，開始對待塗布基板進行塗膠；
[0035]在塗膠結束後，將光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口密封連接，光刻膠出膠口停止出膠，光刻膠出膠口吐膠量逐漸減小，直至達到零。
[0036]優選的,在光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的第一容納單兀的第一開口密封連接後，還包括以下步驟:
[0037]抽氣單元抽取第一容納單元中的氣體直至第一容納單元中的氣體濃度達到要求。
[0038]優選的，在光刻膠出膠口離開光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口後，還包括如下步驟:
[0039]密封門將第一開口密封；[0040]充氣吸氣單元向第一容納單元充氣，所充的氣體推動光刻膠向下流動；
[0041]在光刻膠全部流動到第一連接管時，所述充氣吸氣單元從所述第一容納單元吸氣，回收氣體。
[0042]優選的，光刻膠出膠口停止出膠後，還包括以下步驟:
[0043]充氣吸氣單元向第一容納單元充氣，所充的氣體推動光刻膠向下流動；
[0044]在光刻膠全部流動到第一連接管時，所述充氣吸氣單元從所述第一容納單元吸氣，回收氣體。
[0045]本發明提供的光刻膠回收裝置，塗布系統和塗布方法，該塗布系統使用該塗布方法進行塗布時，當光刻膠出膠口的吐膠量穩定時，對基板進行塗布，使得在基板上形成的膜厚度均勻。當光刻膠出膠口的吐膠量不穩定時，光刻膠回收裝置的第一容納單元容納從光刻膠出膠口吐出的光刻膠，再經所述第一連接管滴落至所述空心體中，在此過程中通過可單向出氣的排氣口將光刻膠中的氣體排出。這樣將光刻膠出膠口的吐膠量不穩定時所吐出的膠，進行排氣後進行回收，不僅節約了光刻膠，而且保證了回收的光刻膠的潔淨度。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0046]圖1為傳統塗布機的塗布過程示意圖；
[0047]圖2為本發明的塗布系統的機臺和光刻膠回收裝置的示意圖；
[0048]圖3為本發明的塗布系統的光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的示意圖；
[0049]圖4為本發明的塗布系統在光刻膠出膠口吐膠量從零逐漸變化到穩定值過程的示意圖；
[0050]圖5為本發明的塗布系統的塗布過程示意圖。
[0051]主要元件附圖標記說明:
[0052]現有技術中:
[0053]10噴嘴，20玻璃基板，31膜的起始部，32膜的結束部；
[0054]本發明中:
[0055]100光刻膠出膠口，200機臺，210第一工作側，220第二工作側，
[0056]300光刻膠回收裝置，
[0057] 310第一容納單元，311抽氣單元，312惰性氣體的充氣吸氣單元，
[0058]320排氣單元，321橢圓形空心體，322可單向出氣的排氣口，
[0059]330第二容納單元，
[0060]341第一連接管，342第二連接管，
[0061]400玻璃基板。
【具體實施方式】
[0062]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
[0063]本發明的一個實施例的塗布系統，如圖2和圖3所示，包括:[0064]光刻膠出膠口 100;
[0065]用於放置待塗布玻璃基板的長方形機臺200，其包括相對設置的第一工作側210和第二工作側220，光刻膠出膠口可在第一工作側210和第二工作側220之間往復運動以對待塗布基板進行塗布；
[0066]兩個光刻膠回收裝置300，一個設置在第一工作側210的一端且與第一工作側210相鄰，另一個設置在第二工作側220的一端且與第二工作側220相鄰；設置有光刻膠回收裝置的第一工作側的一端與設置有光刻膠回收裝置的第二工作側的一端位於機臺200的對角線上。
[0067]流量傳感器，其安裝在光刻膠出膠口 ；
[0068]控制單元，其與流量傳感器通信連接，根據流量傳感器的吐膠量，控制光刻膠出膠□。[0069]其中，如圖3所示，光刻膠回收裝置300包括第一容納單元310，抽氣單元311，惰性氣體的充氣吸氣單元312，排氣單元320，第一連接管341，第二容納單元330和第二連接管 342。
[0070]第一容納單元310包括位於其上表面的第一開口和密封門，密封門可將第一開口密封。第一開口可與光刻膠出膠口 100密封連接；第一容納單元310用於容納經光刻膠出膠口和第一開口流入的光刻膠。
[0071]抽氣單元311與第一容納單元310相連通。在光刻膠出膠口 100和第一開口密封連接後，抽氣單元311可抽取第一容納單元310中的氣體。
[0072]惰性氣體的充氣吸氣單元312與第一容納單元310相連通。在光刻膠從第一容納單元310向下流動時，惰性氣體的充氣吸氣單元312向第一容納單元310充氣，所充的惰性氣體推動光刻膠向下流動；在光刻膠全部流動到第一連接管時，惰性氣體的充氣吸氣單元312從第一容納單元310吸氣，回收惰性氣體。
[0073]排氣單元320是位於第一容納單元的下方的橢圓形空心體321，橢圓形空心體321的長軸沿豎直方向，其位於上方的部分具有可單向出氣的排氣口 322。
[0074]第一連接管341的位於上方的一端與第一容納單元310位於下方的部分相連通，位於下方的一端與橢圓形空心體321位於上方的部分相連通。第一容納單元內310的光刻膠經第一連接管341滴落至橢圓形空心體321內，為了實現光刻膠經第一連接管滴落至橢圓形空心體內，需要使得第一連接管的直徑比較小。其中，第一容納單元310內的光刻膠經第一連接管341滴落至橢圓形空心體321內，在滴狀光刻膠進入橢圓形空心體內321時，由於橢圓形空心體對滴狀光刻膠的吸附力大，少量的滴狀光刻膠會在橢圓形空心體內匯集而不向下流動，為了實現少量的滴狀光刻膠會在橢圓形空心體內匯集而不向下流動，需要使得第二連接管的直徑比較小。
[0075]在滴狀光刻膠進入橢圓形空心體內的匯集的光刻膠中時，滴狀光刻膠逐漸下沉，會受到橢圓形空心體內的光刻膠對其的壓力，這個壓力使得滴狀光刻膠中的氣體受到擠壓，進而破裂上升，再從可單向出氣的排氣口排出，從而起到了將光刻膠中的氣體排出的作用。
[0076]第二容納單元330位於排氣單元320的下方。
[0077]第二連接管342的位於上方的一端與橢圓形空心體321位於下方的部分相連通，位於下方的一端與第二容納單元330相連通；在橢圓形空心體內的光刻膠受到足夠大的壓力的情況下，即這個壓力足夠克服橢圓形空心體對其的吸附力，橢圓形空心體內的光刻膠經第二連接管向下流動至第二容納單元內；其中，圓形空心體內的光刻膠受到的壓力可以來自橢圓形空心體內的光刻膠逐漸增多產生的壓力，還可以來自惰性氣體的充氣吸氣單元所充入的惰性氣體產生的壓力。第二容納單元內的光刻膠可經回收管回收再次使用。
[0078]使用塗布系統對玻璃基板進行塗布的塗布方法包括如下步驟:
[0079]步驟SOOl:將玻璃基板置於長方形機臺上；
[0080]步驟S002:將光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口密封連接；
[0081]步驟S003:如圖4所示，光刻膠出膠口開始出膠，此時的時刻用t0表示，光刻膠經光刻膠出膠口和第一開口流入光刻膠回收裝置；
[0082]步驟S004:如圖4所示，在光刻膠出膠口的出膠達到穩定的數值後，此時的時刻用tl表不,光刻膠出膠口離開光刻膠回收裝置的第一容納單兀的第一開口，開始對待塗布玻璃基板400進行塗膠；
[0083]其中，安裝在光刻膠出膠口流量傳感器獲得在光刻膠出膠口的吐膠量；控制單元根據流量傳感器的出膠量，判斷光刻膠出膠口的出膠是否達到穩定的數值；在光刻膠出膠口的出膠達到穩定的數值後，控制單元控制光刻膠出膠口離開光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口，開始對待塗布玻璃基板400進行塗膠；
[0084]步驟S005:在塗膠結束後，將光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口密封連接，光刻膠出膠口停止吐膠，此時的時刻用t2表示；光刻膠出膠口吐膠量逐漸減小，直至達到零，此時的時刻用t3表示，如圖5所示。
[0085]這樣，當光刻膠出膠口的吐膠量穩定時，對基板進行塗布，使得在基板上形成的膜厚度均勻。當光刻膠出膠口的吐膠量不穩定時，光刻膠回收裝置的第一容納單元容納從光刻膠出膠口吐出的光刻膠，再經第一連接管滴落至排氣單元中，在此過程中排氣單元將光亥IJ膠中的氣體排出。這樣將光刻膠出膠口的吐膠量不穩定時所吐出的膠，進行排氣後進行回收，不僅節約了光刻膠，而且保證了回收的光刻膠的潔淨度。
[0086]進一步地，在步驟S002之後，還包括以下步驟:
[0087]抽氣單元抽取第一容納單元中的氣體直至第一容納單元中的氣體濃度達到要求。
[0088]這樣，可以將第一容納單元中的氣體，主要是空氣抽出，減少第一容納單元中的空氣，減少即將進入第一容納單元的光刻膠進入空氣的量，減少對光刻膠的汙染。
[0089]進一步地，在步驟S004之後，還包括如下步驟:
[0090]密封門將第一開口密封；
[0091] 充氣吸氣單元向第一容納單元充氣，所充的惰性氣體推動光刻膠向下流動；
[0092]在光刻膠全部流動到第一連接管時，充氣吸氣單元從第一容納單元吸氣，回收氣體。
[0093]這樣，密封門將第一開口密封，一方面可以減少空氣進入第一容納單元的量，另一方面，在充氣吸氣單元向第一容納單元充氣時，所充的氣體不會進入到空氣中；在充氣吸氣單元從第一容納單元吸氣時，吸入的氣體仍然是濃度較高的惰性氣體。將惰性氣體吸走，可以提高惰性氣體的使用效率。[0094]進一步地，在步驟S005之後，還包括如下步驟:
[0095]充氣吸氣單元向第一容納單元充氣，所充的氣體推動光刻膠向下流動；
[0096]在光刻膠全部流動到第一連接管時，充氣吸氣單元從第一容納單元吸氣，回收氣體。
[0097]作為一種優選的方式，塗布系統可以還包括光刻膠出膠口的清洗單元和風乾單元，在光刻膠出膠口開始吐膠之前和/或吐膠之後，對光刻膠出膠口進行清洗和風乾。
[0098]作為一種可選的方式，塗布系統可以只包括一個光刻膠回收裝置，設置在第一工作側的一端且與第一工作側相鄰。
[0099]顯然，本領域的技術人員可以對本發明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和範圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬於本發明權利要求及其等同技術的範圍之內，則本發明也 意圖包含這些改動和變型在內。
【權利要求】
1.一種光刻膠回收裝置，其特徵在於，包括: 第一容納單元，用於容納從光刻膠出膠口流出的光刻膠； 空心體，其位於第一容納單元的下方且位於上方的部分具有可單向出氣的排氣口； 第一連接管，其位於上方的一端與所述第一容納單元位於下方的部分相連通，其位於下方的一端與所述空心體位於上方的部分相連通；所述第一容納單元內的光刻膠經所述第一連接管滴落至所述空心體內； 其中，所述空心體用於在所述第一容納單元內的光刻膠經所述第一連接管滴落至所述空心體內的過程中，通過可單向出氣的排氣口將光刻膠中的氣體排出。
2.根據權利要求1所述的光刻膠回收裝置，其特徵在於，所述空心體是橢圓形空心體；所述橢圓形空心體的長軸沿豎直方向。
3.根據權利要求1或2所述的光刻膠回收裝置，其特徵在於，還包括第二容納單元，其位於所述空心體的下方； 第二連接管，其位於上方的一端與所述空心體位於下方的部分相連通，其位於下方的一端與所述第二容納單元相連通；經所述第一連接管滴落的光刻膠匯集在所述空心體內，所述空心體內的光刻膠在受到足夠壓力的情況下，經所述第二連接管向下流動至所述第二容納單元內。
4.根據權利要求3所述的光刻膠回收裝置，其特徵在於，還包括充氣吸氣單元，其與所述第一容納單元相連通； 在光刻膠從第一容納單元向下流動時，所述充氣吸氣單元向第一容納單元充氣，所充的氣體推動光刻膠向下流動； 在光刻膠全部流動到第一連接管時，所述充氣吸氣單元從所述第一容納單元吸氣，回收氣體。
5.根據權利要求4所述的光刻膠回收裝置，其特徵在於，所述第一容納單元還包括密封門，所述密封門可將第一開口密封。
6.根據權利要求5所述的光刻膠回收裝置，其特徵在於，所述第一容納單元設置有第一開口，所述第一開口可與光刻膠出膠口密封連接； 所述光刻膠回收裝置還包括抽氣單元，其與所述第一容納單元相連通；在光刻膠出膠口和所述第一開口密封連接後，所述抽氣單元可抽取所述第一容納單元中的氣體。
7.一種塗布系統，其特徵在於，包括: 光刻膠出膠口； 用於放置待塗布基板的長方形機臺，其包括相對設置的第一工作側和第二工作側，所述光刻膠出膠口可在所述第一工作側和第二工作側之間往復運動以對待塗布基板進行塗布； 權利要求1-6任一所述 的光刻膠回收裝置，其設置在所述第一工作側的一端且與所述第一工作側相鄰。
8.根據權利要求7所述的塗布系統，其特徵在於，所述光刻膠回收裝置是兩個，另一個設置在所述第二工作側的一端且與所述第二工作側相鄰；設置有光刻膠回收裝置的第一工作側的一端與設置有光刻膠回收裝置的第二工作側的一端位於所述機臺的對角線上。
9.根據權利要求8所述的塗布系統，其特徵在於，還包括:流量傳感器，其安裝在所述光刻膠出膠口 ； 控制單元，其與所述流量傳感器通信連接，根據流量傳感器的吐膠量，控制光刻膠出膠□。
10.一種塗布方法，其特徵在於，包括如下步驟: 將基板置於長方形機臺上； 將光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口密封連接； 開始出膠，光刻膠經光刻膠出膠口和第一開口流入光刻膠回收裝置； 在光刻膠出膠口的出膠達到穩定的數值後，光刻膠出膠口離開光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口，開始對待塗布基板進行塗膠； 在塗膠結束後，將光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口密封連接，光刻膠出膠口停止出膠，光刻膠出膠口吐膠量逐漸減小，直至達到零。
11.根據權利要求10所述的塗布方法，其特徵在於，在光刻膠出膠口和光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口密封連接後，還包括以下步驟: 抽氣單元抽取第一容納單元中的氣體直至第一容納單元中的氣體濃度達到要求。
12.根據權利要求11所述的塗布方法，其特徵在於，在光刻膠出膠口離開光刻膠回收裝置的第一容納單元的第一開口後，還包括如下步驟: 密封門將第一開口密封； 充氣吸氣單元向第一容納單元充氣，所充的氣體推動光刻膠向下流動； 在光刻膠全部流動到第一連接管時，所述充氣吸氣單元從所述第一容納單元吸氣，回收氣體。
13.根據權利要求12所述的塗布方法，其特徵在於，光刻膠出膠口停止出膠後，還包括以下步驟: 充氣吸氣單元向第一容納單元充氣，所充的氣體推動光刻膠向下流動； 在光刻膠全部流動到第一連接管時，所述充氣吸氣單元從所述第一容納單元吸氣，回收氣體。
【文檔編號】C03C17/00GK103910493SQ201410108616
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2014年3月21日 優先權日:2014年3月21日
【發明者】李曉光, 袁劍峰, 吳洪江, 姜晶晶, 肖宇, 黎敏 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司