用於半導體元件及其生產設備的清潔機具的製作方法
2023-09-19 01:31:35 1
用於半導體元件及其生產設備的清潔機具的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，包含：操作平臺，其設置於鄰近該半導體元件及其生產設備、製作用模具及治具的位置處；導料裝置，其設置於該操作平臺上；清潔裝置，其設置於該操作平臺上，且和該導料裝置相鄰設置。本實用新型所提供的清潔機具，其清潔裝置所噴出的固態二氧化碳可進入殘留物的細縫內，隨著固態二氧化碳的升華，加大殘留物的細縫，終至殘留物和半導體元件、製作用模具或治具完全分離，且完全不會產生毀損半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具本體表面的問題，達到半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具的去汙、保養的清潔效果。
【專利說明】用於半導體元件及其生產設備的清潔機具
【技術領域】
[0001]本實用新型關於一種清潔機具，特別指一種用於半導體元件及其生產設備的清潔機具。
【背景技術】
[0002]目前，由於科技的進步、半導體技術的提高，使得計算機(Computer)、通訊(Communication)、消費性電子(Consumer Electronics)產品(即3C產品)的運作速度加快、體積變小、操作便利提高，越來越吸引廣大消費者的青睞，並使得半導體產業的製造量大增。
[0003]然而，電子產品的需求量大增固然相對提高國人的消費能力；不過，對半導體製造業者而言，重視的卻是半導體元件的製作合格率，合格率決定電子產品的質量，同時也決定耗費成本的高低與否，因此，半導體製造業者為了提高製作合格率，除了在技術上的精進之夕卜，首要工作就是對製作用的模具、治具的清潔和保養，同時，對製作前、後的半導體元件的清潔也是極為重要。
[0004]而在清潔半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具時，通常以人工方式清除，可謂相當地費時、費力，有時甚至利用化學藥劑加以腐蝕半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具表面的殘留物，不僅具有高度危險性，且也往往發生用量不慎，進而毀損半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具，降低半導體元件的合格率，以及製作用模具、治具的使用壽命；此外，若生產半導體元件的生產設備具有低潔淨度，則製造出的半導體元件的精密度則隨之下降，導致合格率顯著降低，成本耗費相對提高；據此，如何在不毀損半導體元件及其生產設備、製作用模具及治具的情況下，完成對半導體元件及其生產設備、製作用模具和治具的清潔，乃目前需要解決的重要課題，也是決定半導體元件合格率高低的重要一環。
實用新型內容
[0005]有鑑於此，本實用新型的目的在於提供一種用於半導體元件及其生產設備的清潔機具。
[0006]為了達成上述目的，本實用新型提供一種用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，包含有:
[0007]操作平臺，其設置於鄰近該半導體元件及其生產設備、製作用模具及治具的位置處；
[0008]導料裝置，其設置於該操作平臺上，且於該操作平臺上形成供該半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具進出的入口端及出口端；
[0009]清潔裝置，其設置於該操作平臺上，且和該導料裝置相鄰設置。
[0010]進一步地，其中該導料裝置為輸送帶或者滾輪組，以導送半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具。[0011]進一步地，其中該清潔裝置為具有噴嘴的機械手臂，可由噴嘴控制固態二氧化碳適當的粒徑及噴出量，以清潔半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具的表面的殘留物。
[0012]進一步地，其中該清潔裝置為具有噴嘴且能移動於X、Y、Z軸方向的清潔工具，且可由噴嘴控制固態二氧化碳適當的粒徑及噴出量，以全方面的清潔半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具表面的殘留物。
[0013]進一步地，其中該清潔裝置能在半導體元件進行鍍層、上漆、上膠或焊接製作之前、後，對半導體元件的表面做清潔作業。
[0014]進一步地，其中該殘留物為金屬製品、塑料製品、灰塵或油潰。
[0015]本實用新型具有以下有益效果:
[0016]本實用新型所提供的應用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，其導料裝置將半導體元件或其生產設備、製作用模具和治具導送入操作平臺，使清潔裝置將適當粒徑、噴出壓力、噴出量的固態二氧化碳噴向表面具有金屬製品或塑料製品，或者灰塵、油潰等殘留物的半導體元件或其生產設備、製作用模具及治具，使殘留物能被固態二氧化碳所撞擊並和半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具表面分離，且完全不會產生毀損半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具本體表面的問題；
[0017]本實用新型所提供的用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，其清潔裝置所噴出的固態二氧化碳可進入殘留物的細縫內，隨著固態二氧化碳的升華，使殘留物的細縫內瞬間充滿二氧化碳，進而使殘留物和半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具本體完全分離，並配合噴嘴所噴出的壓縮空氣，一併將殘留物吹拂帶走，從而達到半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具的去汙、保養的清潔效果。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型清潔機具的架構示意圖；
[0019]附圖標記說明:
[0020]10-操作平臺；11_導料裝置；110_入口端；111_出口端；12_清潔裝置；120_機械手臂；121-X、Y、Z軸清潔工具。
【具體實施方式】
[0021]為期許本實用新型所要解決的技術問題、效果、特徵及結構能夠有更為詳盡的了解，以下列舉較佳實施例並配合【專利附圖】
【附圖說明】如後。
[0022]首先，參閱圖1。
[0023]如圖所示，本實用新型所述用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，主要包含有:
[0024]操作平臺10，操作平臺10主要可依需求設置於適當位置，通常是以設置於鄰近半導體元件及其生產設備、製作用模具及治具為最佳，以方便搬運、清潔之用。
[0025]導料裝置11，設置於操作平臺10上，且導料裝置11主要可為輸送帶或者滾輪組，使得導料裝置11於操作平臺10上形成半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具的入口端Iio及出口端111。[0026]清潔裝置12，同樣設置於操作平臺10上，且和導料裝置11相鄰設置；清潔裝置12為具有噴嘴(圖中未示)的機械手臂120，或者為具有噴嘴(圖中未示)且可移動於X、Y、Z軸方向的X、Y、Z軸清潔工具121 ;其中，清潔裝置12內主要可儲存固態二氧化碳，使得清潔裝置12可由噴嘴噴出適當粒徑的固態二氧化碳，以清潔半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具的表面，而半導體元件表面較常見的殘留物不外乎是膠、漆、焊線、等金屬製品或塑料製品，生產設備、製作用模具或治具的表面較常見的不外乎是灰塵、油潰等。
[0027]由上述可知，本實用新型所述用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，主要從導料裝置11的入口端110將半導體元件或其生產設備、製作用模具和治具導送入操作平臺10，使得機械手臂120或Χ、Υ、Ζ軸清潔工具121對鍍層、上漆、上膠或焊接製作之前、後的半導體元件進行除膠、除漆等清潔作業，或者，清除製作用模具和治具表面的灰塵、油潰。
[0028]承上所述，清潔裝置12的表面清潔作業，主要由噴嘴將適當粒徑、噴出壓力、噴出量的固態二氧化碳噴出，其中，使用者可視半導體元件或其生產設備、製作用模具或治具表面的殘留物(即膠、漆、焊線等金屬製品或塑料製品，或者灰塵、油潰)的材料、面積、大小而選擇控制噴嘴所噴出的固態二氧化碳的粒徑、噴出壓力以及噴出量，使得可在不毀損半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具本體的情況下，清除表面殘留物；同時，由於使用機械手臂120或Χ、Υ、Ζ軸清潔工具121，使得半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具的四面八方任一面上或細縫、孔穴內的殘留物，皆能完全被固態二氧化碳所撞擊，使殘留物和半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具本體分離，而固態二氧化碳甚至可進入殘留物的細縫內，隨著固態二氧化碳的升華，使殘留物的細縫內瞬間充滿二氧化碳，進而使殘留物和半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具本體完全分離，並配合噴嘴所噴出的壓縮空氣，一併將殘留物吹拂帶走，達到半導體元件及其生產設備、製作用模具或治具的去汙、保養的清潔效果。
[0029]此外，由清潔裝置12清潔生產設備，使生產設備製造的半導體元件具有高潔淨度，可顯著提高半導體元件的合格率，減少材料成本。
[0030]以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例，並非用於限制本實用新型的專利保護範圍。
【權利要求】
1.一種用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，其特徵在於，包含有:操作平臺，其設置於鄰近該半導體元件及其生產設備、製作用模具及治具的位置處；導料裝置，其設置於該操作平臺上，且於該操作平臺上形成供該半導體元件及其生產設備進出的入口端及出口端；清潔裝置，其設置於該操作平臺上，且和該導料裝置相鄰設置。
2.如權利要求1所述用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，其特徵在於，該導料裝置為輸送帶或者滾輪組。
3.如權利要求1所述用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，其特徵在於，該清潔裝置為具有噴嘴的機械手臂。
4.如權利要求1所述用於半導體元件及其生產設備的清潔機具，其特徵在於，該清潔裝置為具有噴嘴且能移動於X、Y、Z軸方向的清潔工具。
【文檔編號】B08B5/02GK203426101SQ201320421268
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年7月16日 優先權日:2013年7月16日
【發明者】劉文隆 申請人:菘鐿科技有限公司