含粒子的雙面ito導電膜的製作方法
2023-09-11 00:13:00 2
含粒子的雙面ito導電膜的製作方法
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及導電膜技術領域，尤其涉及一種含粒子的雙面ΙΤ0導電膜。
【背景技術】
[0002] 觸摸式屏幕在手機和平板電腦等有著越來越多的應用，觸控螢幕作為一種新型的輸 出設備已十分流行和普遍，因此作為觸控螢幕必不可少的透明導電膜需求量也越來也大。ΙΤ0 導電膜透過率最高和導電性能最好，廣泛地應用於移動通訊領域的觸控螢幕。ΙΤ0膜層的厚度 不同，膜的導電性能和透光性能也不同。一般來說，在相同的工藝條件和性能相同的PET基 底材料的情況下，ΙΤ0膜層越厚，ΡΕΤ-ΙΤ0膜的表面電阻越小，光透過率也相應的越小。現有 含粒子的雙面ΙΤ0導電膜，如圖1所示，由兩個單面的ΙΤ0導電膜21通過粘結層22結合成雙面 的ΙΤ0導電膜，每一單面ΙΤ0導電膜21包括基材層211、設置在基材層211上的光學調整層212 以及設置在光學調整層上的ΙΤ0層213。該結構的雙面ΙΤ0導電膜，由於層結構及層厚度的設 計不合理，影響粒子的凸起程度，存在ΙΤ0層密著性差以及透過率低等問題。 【實用新型內容】
[0003] 鑑於以上所述，本實用新型研發一種合理的層結構設計與厚度控制，使得粒子凸 起不收影響，密著性佳且透光率理想。
[0004] -種含粒子的雙面ΙΤ0導電膜，包括基材層，基材層兩面依序為光學調整硬塗層、 光學調整層、ΙΤ0導電層，其中，基材厚度介於23um至250um之間，光學調整硬塗層中添加有 機或無機粒子，光學調整硬塗層的厚度為500nm至5um之間，光學調整硬塗層的折射率介於 1.6至1.7之間，ΙΤ0導電層厚度小於40nm，雙面光學調整層與雙面ΙΤ0導電層的總厚度小於 120nm〇
[0005] 進一步地，所述雙面光學調整層與雙面ΙΤ0導電層的總厚度小於lOOnm。
[0006] 進一步地，在雙面皆含有ΙΤ0導電層的情況下，色差b*值小於4.5。
[0007] 進一步地，所述光學調整硬塗層的鉛筆硬度為F以上。
[0008] 進一步地，所述光學調整硬塗層與光學調整層間添加有密著層。
[0009] 進一步地，所述光學調整硬塗層折射率優選為1.65-1.7,厚度優選為l-10um，光學 調整層厚度優選為20-30nm，IT0導電層厚度優選為20-25nm〇
[0010] 更進一步地，所述光學調整硬塗層的厚度優選為l_5um。
[0011] 進一步地，所述光學調整硬塗層折射率為1.65,厚度為lum，光學調整層厚度為 20nm，ΙΤ0導電層厚度為20nm。
[0012] 進一步地，所述粒子的直徑為500nm至10um之間。
[0013] 進一步地，所述粒子的直徑優選為500nm至5um之間。
[0014]本實用新型的有益效果，本實用新型含粒子的雙面ΙΤ0導電膜通過各層結構的合 理設計及厚度控制，ΙΤ0導電層密著性佳，透光率高，光學調整硬塗層較薄，不會影響粒子凸 起程度。
【附圖說明】
[0015] 上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了更清楚地說明本實用新型的技術 方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，描述中的附圖 僅僅是對應於本實用新型的具體實施例，對於本領域普通技術人員來說，在不付出創造性 勞動的前提下，在需要的時候還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0016] 圖1為現有雙面ΙΤ0導電膜的層結構示意圖；
[0017] 圖2為本實用新型的含粒子的雙面ΙΤ0導電膜截面示意圖；
[0018] 圖3為對比實施例一雙面ΙΤ0導電膜的層結構示意圖；
[0019] 圖4為對比實施例二雙面ΙΤ0導電膜的層結構示意圖；
[0020]圖5為對比實施例三雙面ΙΤ0導電膜的層結構示意圖。
【具體實施方式】
[0021] 為了詳細闡述本實用新型為達成預定技術目的而所採取的技術方案，下面將結合 本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯 然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的部分實施例，而不是全部的實施例，並且，在不付 出創造性勞動的前提下，本實用新型的實施例中的技術手段或技術特徵可以替換，下面將 參考附圖並結合實施例來詳細說明本實用新型。
[0022] 請參閱圖2,一種含粒子的雙面ΙΤ0導電膜，包括基材層10,基材層兩面依序為光學 調整硬塗層11、光學調整層12、IT0導電層13。雙面ΙΤ0導電膜內分布有粒子14,粒子14添加 於光學調整硬塗層11中，使得光學調整硬塗層11、光學調整層12、ΙΤ0導電層13在覆蓋粒子 14所在位置對應地形成為凸起，粒子的直徑為500nm-10um。
[0023] 光學調整硬塗層11的折射率為1.6-1.7,厚度為500nm-15um;光學調整層12的製程 方式採用乾式鍍膜，折射率為1.4-1.5，厚度在小於或等於40nm。ΙΤ0導電層厚度小於或等於 40nm。具體的，本實用新型雙面ΙΤ0導電膜選用如下較佳實施例，請參下表一。
[0024] 表一
[0025]
[0026] 請參閱圖3、圖4、圖5,選用與本實用新型實施例相比較的三種雙面ΙΤ0導電膜結 構，圖3中，ΙΤ0導電膜包括基材層30以及在基材層30兩面依序設置第一光學調整層31、第二 光學調整層32、以及ΙΤ0導電層33。第一光學調整層31材料Nb 2〇5,厚度10nm;第二光學調整層 32材料Si02,厚度40nm;IT0導電層33厚度20nm。圖4中，ΙΤ0導電膜包括基材層40以及在基材 層40兩面依序設置光學調整硬塗層41、第一光學調整層42、第二光學調整層43、以及ΙΤ0導 電層44。光學調整硬塗層41折射率1.54,厚度lum;第一光學調整層42材料Nb 2〇5,厚度10nm; 第二光學調整層43材料Si02,厚度40nm;IT0導電層44厚度20nm。圖5中，ΙΤ0導電膜包括基材 層50以及在基材層50兩面依序設置光學調整硬塗層51、光學調整層52、以及ΙΤ0導電層53， 光學調整硬塗層51折射率1.54,厚度lum;光學調整層52材料Si0 2,厚度20nm;IT0導電層44 厚度20nm。具體地，各比較例的參數請參下表二，
[0027] 表二
[0028]
[0029]將上述實施例與比較例測試結果如下表三，
[0030] 表三
[0031]
[0033] 通過上述測試結果比較分析可知，比較例1:雖光學、電性、有無 ΙΤ0時顏色差異皆 可符合需求，但因缺乏硬塗層，導致表面鉛筆硬度不足，容易導致膜面刮傷。且因雙面乾式 鍍膜總厚度太厚，於第一面鍍膜時累積過多熱量於基材上，導致第二面鍍膜時出現MD向皺 折或不規則變形。比較例2:雖含有硬塗層，可改善膜鉛筆硬度，但雙面乾式鍍膜總厚度仍過 厚與比要例一相同，會產生第二面鍍膜時MD向皺摺或不規則變形的問題。比較例3:於硬塗 層上濺鍍單一光學調整層，雖可降低乾式鍍膜總厚度，改善膜面皺摺或變形的問題。但因一 般硬塗層折射率較低，光學匹配性較差，導致b值過高、有無 ΙΤ0時顏色差異明顯而無法使 用。
[0034] 本實用新型的實施例中，實施例1:以溼式塗布方式製作光學調整硬塗層，可同時 達到改善鉛筆硬度，與避免膜面皺摺或變形的問題。在光學匹配性方面也可達到對應的要 求。實施例1-3:光學調整硬塗層厚度若為300nm時，則鉛筆硬度達不到F的要求，所以其厚度 需在500nm以上。實施例1，4，5:光學調整硬塗層折射率需在1.6-1.7之間，若過低則會產生 與比較例3相同的問題。實施例1，6，7，8:當Si0 2厚度達到40nm時，加上20nm的ΙΤ0厚度，其雙 乾式鍍膜總厚度達到120nm，因厚度過後，發生與比較例1 一樣的膜面MD向皺摺或不規則變 形的問題。實施例1，9,10: ΙΤ0厚度過後時，雖可達到更低之電阻，但也伴隨發生光學、膜面 變形之問題，因此ΙΤ0厚度小於40nm為佳。
[0035] 因此，本實用新型含粒子的雙面ΙΤ0導電膜，在基材兩面依序為光學調整硬塗層、 光學調整層、ΙΤ0導電層。光學調整硬塗層採用溼式塗布製程，光學調整層與ΙΤ0導電層採用 乾式製程。光學調整硬塗層的厚度在500nm以上。光學調整硬塗層之折射率介於1.6以上1.7 以下。雙面乾式製程總厚度(雙面光學調整層+雙面ΙΤ0導電層)小於120nm為佳。較佳地雙面 乾式製程總厚度l〇〇nm以下更佳。ΙΤ0導電層厚度小於40nm為佳。基材厚度介於23um以上 250um以下，基材材質選用PET、PEN、COC、COP為佳。相對兩面的光學調整硬塗層、光學調整 層、IT0導電層之折射率、厚度不需完全相同，可自由搭配，但須滿足前述相關限定。單面或 雙面的光學調整硬塗層中可添加有機或無機粒子，用以增加基材的霧度與表面粗造度。在 雙面皆含有IT0導電層的情況下，b*值小於4.5為佳。雙面皆含有IT0導電層之情況下，b*值 3.5以下更佳。光學調整硬塗層的鉛筆硬度F以上為佳。本實用新型含粒子的雙面IT0導電膜 光學調整層薄，不影響粒子凸起程度，結合正反面合計兩次塗布製程，效率高，乾式鍍膜可 同時濺鍍多層材料，可與IT0-次性完成，並且IT0層密著性佳。雙面IT0導電膜透過率高。 [0036]可以理解，在光學調整硬塗層與光學調整層間可添加密著層。
[0037]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，並非對本實用新型作任何形式上 的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本實用新型，任何熟 悉本專業的技術人員，在不脫離本實用新型技術方案範圍內，當可利用上述揭示的技術內 容做出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案內 容，依據本實用新型的技術實質，在本實用新型的精神和原則之內，對以上實施例所作的任 何簡單的修改、等同替換與改進等，均仍屬於本實用新型技術方案的保護範圍之內。
【主權項】
1. 一種含粒子的雙面ITO導電膜，包括基材層，其特徵在於:基材層兩面依序為光學調 整硬塗層、光學調整層、ΙΤ0導電層，其中，基材厚度介於23um至250um之間，光學調整硬塗層 中添加有機或無機粒子，光學調整硬塗層的厚度為500nm至15um之間，光學調整硬塗層的折 射率介於1.6至1.7之間，IT0導電層厚度小於40nm，雙面光學調整層與雙面IT0導電層的總 厚度小於120nm〇2. 根據權利要求1所述的含粒子的雙面ITO導電膜，其特徵在於:所述雙面光學調整層 與雙面IT0導電層的總厚度小於100nm 〇3. 根據權利要求1所述的含粒子的雙面ITO導電膜，其特徵在於:在雙面皆含有ITO導電 層的情況下，色差b*值小於4.5。4. 根據權利要求1所述的含粒子的雙面IT0導電膜，其特徵在於:所述光學調整硬塗層 的鉛筆硬度為F以上。5. 根據權利要求1所述的含粒子的雙面IT0導電膜，其特徵在於:所述光學調整硬塗層 與光學調整層間添加有密著層。6. 根據權利要求1所述的含粒子的雙面IT0導電膜，其特徵在於:所述光學調整硬塗層 折射率優選為1.65-1.7，厚度優選為l-10um，光學調整層厚度優選為20-30nm，IT0導電層厚 度優選為20_25nm〇7. 根據權利要求6所述的含粒子的雙面ITO導電膜，其特徵在於:所述光學調整硬塗層 厚度優選為l_5um〇8. 根據權利要求1所述的含粒子的雙面ITO導電膜，其特徵在於:所述光學調整硬塗層 折射率為1.65,厚度為lum，光學調整層厚度為20nm，IT0導電層厚度為20nm〇9. 根據權利要求1所述的含粒子的雙面ITO導電膜，其特徵在於：所述粒子的直徑為 500nm 至 10um之間。10. 根據權利要求9所述的含粒子的雙面IT0導電膜，其特徵在於：所述粒子的直徑為 500nm至5um之間。
【專利摘要】本實用新型提供一種含粒子的雙面ITO導電膜，包括基材層，基材層兩面依序為光學調整硬塗層、光學調整層、ITO導電層，其中，基材厚度介於23um至250um之間，光學調整硬塗層中添加有機或無機粒子，光學調整硬塗層的厚度為500nm至15um之間，光學調整硬塗層的折射率介於1.6至1.7之間，ITO導電層厚度小於40nm，雙面光學調整層與雙面ITO導電層的總厚度小於120nm。本實用新型所述的雙面ITO導電膜其光學調整層薄，透光性好，不影響粒子凸起程度。
【IPC分類】G06F3/041, H01B5/14
【公開號】CN205384883
【申請號】CN201620047214
【發明人】胡文瑋
【申請人】汕頭萬順包裝材料股份有限公司, 汕頭萬順包裝材料股份有限公司光電薄膜分公司
【公開日】2016年7月13日
【申請日】2016年1月16日