解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法

2023-09-21 08:21:05

專利名稱：解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法
技術領域：
本發明涉及膠片製造和加工過程，特別是解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法。
在現有技術染印法空白膠片加工過程中，膠片乳劑層因為龜裂而表現出一種「毛玻璃」現象，在電影行業中稱之為「磨砂」。磨砂現象嚴重嚴重降低了膠片的清晰度、透明度，並增加了影象顆粒。這種現象是膠片通過顯影加工之後才表現出來，同時藉助於顯微鏡才能觀察到乳劑層龜裂，因此，稱之為潛在龜裂。大量具有潛在龜裂的膠片，造成大量的廢品或次品拷貝，經濟損失極其嚴重。潛在龜裂現象在國外文獻中沒有發現，這也許是國外膠片生產所採用的原料比國內精，以及工業水平比國內高。但潛在龜裂現象在國內的染印法空白膠片加工過程中存在了十幾年，卻一直未得到解決。潛在龜裂其實在染印法空白膠片生產過程中就存在了，只不過在染印法加工過程中才表現出來。總之，染印法空白膠片的潛在龜裂現象在我國已存在十幾年，但至今未找到解決的辦法，造成了極其嚴重的經濟損失。
本發明的目的在於提供一種徹底解決染印法空白膠片的「磨砂」現象的方法，克服現有技術的缺陷。
本發明的目的是通過如下技術方案來達到的。在染印法膠片的加工過程中，顯影之後定影之前的處理液中加入SO2-4離子;或在膠片生產過程中的塗布之前的乳劑中加入帶有SO2-4離子的無機化合物。
根據實驗，由於磨砂程度不一樣，加入SO2-4離子的量有所不同，但加入較多不會有壞的影響，只是提高了生產成本。實驗中，停顯液中加入量的範圍在0.02N到0.14N濃度的SO2-4離子(相當於3克到20克的工業純Na2SO4)，膠片製造過程中，塗布之前的乳劑中加入帶有SO2-4離子的無機化合物，例如每公斤乳劑中加入10克到100克Na2SO4(工業純)以下結合工業流程圖，說明本發明的實施方法供膠片→聲帶印片→塗漿顯影→小水洗→停顯→定影→…→拷貝收片空白膠片經聲帶印片進入塗漿顯影，再依次進入小水洗、停顯、定影…到最終拷貝收片。在顯影和定影之間的處理液中加入微量的SO2-4離子，經這樣加工處理後的膠片，既不會產生磨砂，也不影響膠片的染色性能，而且提高了膠片的清晰度和透明度，降低了影象的顆粒度。同時這種加工處理，不降低正常膠片的一切性能。
嚴格講，小水洗的水也應該加入SO2-4離子，但是小水洗是高壓噴淋，膠片在其中停留的時間極短，小於0.3秒，所以它對膠片磨砂的產生影響不大。
如附圖
所示，A部分有龜裂，B部分無龜裂，A部分是未經SO2-4離子處理，B部分是經SO2-4離子處理，其含量為每升停顯液中加入8克工業純Na2SO4。
以下是本發明的幾個實施例第一個實施例在每升停顯液中加入3克工業純Na2SO4，其結果，這種膠片的潛在龜裂得以解決。
第二個實施例在每升停顯液中加入8克工業純Na2SO4，其結果如附圖所示。
第三個實施例在每升停顯液中加入20克工業純Na2SO4，其結果，這種膠片的潛在龜裂得到很好的解決。
第四個實施例在塗布之前每公斤乳劑中加入30克工業純的Na2SO4，其結果，這種膠片的潛在龜裂得到很好的解決。
由上述可知，本發明達到發明目的，克服了現在技術的缺陷。
本發明由於消除了染印法空白片加工過程中的潛在龜裂現象，無論對染印法空白膠片生產和加工都具有極大的經濟效益。
權利要求
1.解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法，其特徵在於膠片加工過程中，顯影之後、定影之前的處理液中加入SO2-4離子。
2.解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法，其特徵在於膠片生產製造中，塗布前的乳劑中加入帶有SO2-4離子的無機化合物。
3.如權利要求1所述的解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法，其特徵在於顯影之後，定影之前的處理液中，每升加入0.02N到0.14N的SO2-4離子。
4.如權利要求2所述的解決染印法空白膠片乳劑層潛在龜裂的方法，其特徵在於在塗布前的每公斤乳劑中加入10克到100克Na2SO4。
全文摘要
本發明是關於解決染印法的膠片乳劑層潛在龜裂的方法，解決了十幾年來未解決的問題徹底解決了染印法空白膠片的「磨砂」現象，克服了現有技術的缺陷。
文檔編號G03C5/28GK1042248SQ8910265
公開日1990年5月16日 申請日期1989年5月4日 優先權日1989年5月4日
發明者周光平 申請人:周光平