一種旋轉型靶材的製作方法

2023-09-21 08:06:45 2

專利名稱：一種旋轉型靶材的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及濺射鍍膜技術領域，尤其是一種旋轉型靶材。
背景技術：
現今，基於物理氣相沉積原理的濺射鍍膜工藝，已廣泛應用於液晶顯示設備、太陽能電池、太陽能真空管、半導體晶片等技術領域；而旋轉型靶材是濺射鍍膜工藝中常用的一種鍍膜耗材，旋轉型靶材一般由管狀金屬基材和鍍膜材料層構成，正常做法是在管狀金屬基材外表面進行表面清洗或者吹砂完後就直接噴塗鍍膜材料層，這種產品存在的問題是， 鍍膜材料層與管狀金屬基材外表面結合強度較差，會影響旋轉型靶材在濺射鍍膜工藝中的正常使用。

實用新型內容本實用新型要解決的技術問題是提供一種旋轉型靶材，鍍膜材料層與管狀金屬基材外表面結合強度高，提高其在濺射鍍膜工藝中使用的可靠性。為達到上述目的，本實用新型的技術方案是一種旋轉型靶材，包括管狀的金屬基材、鍍膜材料層，管狀的金屬基材兩端設有肩臺，管狀的金屬基材外表面除兩端肩臺外鍍有鎳鋁材料層，鎳鋁材料層外部再噴塗厚度均等的鍍膜材料層。優選所述的管狀的金屬基材為管狀不鏽鋼基材。所述的鍍膜材料層可為矽鋁材料層。本實用新型由於在管狀的金屬基材外表面除兩端肩臺外鍍有鎳鋁材料層，把鎳鋁材料層作為打底層，然後在鎳鋁材料層基礎上再噴塗厚度均等的鍍膜材料層，由於熱膨脹係數原因，這樣能使進行打底完的管狀金屬基材外表面更好的與鍍膜材料層迭代，增強兩者結合強度，提高其在濺射鍍膜工藝中使用的可靠性。

圖1是本實用新型左視圖。圖2是圖1的A-A剖視圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體的實施方式對本實用新型作進一步詳細說明。圖1、圖2所示，一種旋轉型靶材，包括管狀的金屬基材1、鍍膜材料層2，管狀的金屬基材1兩端設有肩臺11，管狀的金屬基材1外表面除兩端肩臺11外鍍有鎳鋁材料層3， 鎳鋁材料層3外部再噴塗厚度均等的鍍膜材料層2。所述管狀的金屬基材1為管狀不鏽鋼基材。所述的鍍膜材料層2為矽鋁材料層。以上僅是本實用新型一個較佳實施例，本領域的技術人員按權利要求作等同的改
3變都落入本案的保護範圍。
權利要求1.一種旋轉型靶材，包括管狀的金屬基材、鍍膜材料層，管狀的金屬基材兩端設有肩臺，其特徵在於管狀的金屬基材外表面除兩端肩臺外鍍有鎳鋁材料層，鎳鋁材料層外部再噴塗厚度均等的鍍膜材料層。
2.根據權利要求1所述的一種旋轉型靶材，其特徵在於所述的管狀的金屬基材為管狀不鏽鋼基材。
3.根據權利要求1或2所述的一種旋轉型靶材，其特徵在於所述的鍍膜材料層為矽鋁材料層。
專利摘要本實用新型公開一種旋轉型靶材，包括管狀的金屬基材、鍍膜材料層，管狀的金屬基材兩端設有肩臺，管狀的金屬基材外表面除兩端肩臺外鍍有鎳鋁材料層，鎳鋁材料層外部再噴塗厚度均等的鍍膜材料層；優選所述的管狀的金屬基材為管狀不鏽鋼基材；所述的鍍膜材料層為矽鋁材料層；本實用新型鍍膜材料層與管狀金屬基材外表面結合強度高，提高其在濺射鍍膜工藝中使用的可靠性。
文檔編號B32B9/04GK202148348SQ201120227518
公開日2012年2月22日 申請日期2011年6月30日 優先權日2011年6月30日
發明者石煜 申請人:廈門映日光電科技有限公司