一種優質小西瓜的種植方法
2023-09-21 09:26:00
一種優質小西瓜的種植方法
【專利摘要】一種優質小西瓜的種植方法，包括開溝、填充基肥、填充栽培層、播種、幼苗管理、修枝留瓜和掛瓜期管理，所述的基肥由20～40%的秸稈、30～50%的圈肥、10～30%的餅肥和5～15%的鉀肥均勻混合而成；所述的掛瓜期管理為：在掛瓜後，每隔3～5天噴灑含3%的尿素、0.75%的磷肥和0.065的鉀肥溶液，直至瓜果成熟。本發明通過填充基肥，在不破壞土質的同時能給瓜藤長期提供營養，同時通過使用餅肥，保證了小西瓜的甘甜度，通過在掛瓜後定期噴灑營養液，能縮短小西瓜的生長時間，使小西瓜個大，並且早熟，每株瓜藤上一年能接3～4批西瓜，真正實現優質高產。
【專利說明】一種優質小西瓜的種植方法
【技術領域】
[0001]本發明屬於西瓜種植方法，特別涉及一種優質小西瓜的種植方法。
【發明內容】
[0002]西瓜堪稱「瓜中之王」，其特點是清爽解渴，甘甜多汁，是盛夏佳果。西瓜除不含脂肪和膽固醇外，含有大量的葡萄糖、蘋果糖、果糖、蛋白質、胺基酸、番茄素以及豐富的維生素C等營養物質，是一種營養、純淨的安全水果。近年來我國西瓜的面積在逐年擴大，但由於人們對產量經濟效益的片面追求，不合理的施肥，造成西瓜的質量差，另一方面，過高低追求質量，造成成本高，而且受市場價格的限制，其經濟效益不大。
[0003]目前大多運用嫁接技術解決西瓜產量低，質量差的問題，如專利號為CN102845241A的發明專利公開了一種西瓜嫁接的方法，暈用南瓜作為磚木進行西瓜嫁接，以獲得高質、高產，但其沒有很好地解決西瓜種植中出現產品同質化問題。
[0004]也有通過嫁接和施用有機化合物肥料實現西瓜的優質高產，如專利公布號為CN103416228A的發明專利公開了一種有機西瓜種植的方法，其特點是在幼苗期進行嫁接，在育瓜期進行澆灌糖水和牛奶，缺陷是其未考慮到有機化合物不能直接被西瓜根系吸收，需要微生物分解才能被吸收，其吸收過程緩慢，營養損失大，而且成本高，不適於大規模生產。
[0005]
【發明內容】
[0006]針對現有技術的問題，本發明提供了一種優質小西瓜的種植方法，通過對肥料上和種植方法上的改進，能生產出一種優質高產的小西瓜。
[0007]本發明是通過以下技術方案實現的:
[0008]一種優質小西瓜的種植方法，包括以下步驟:
[0009]開溝:在瓜地中開寬100~120cm、深40~50cm的溝，每溝間距80~1OOcm ；
[0010]填充基肥，在溝中填入30~40cm的基肥，所述的基肥由20~40%的秸杆、30~50%的圈肥、10~30%的餅肥和5~15%的鉀肥均勻混合而成；
[0011]填充栽培層，在溝中填入栽培層，使溝壑填平，所述的栽培層為質量比為3:2的豬糞液和優質黑土混合而成，並且進行自然風乾至栽培層的水份剛好不能自動溢出為止；
[0012]播種，用直徑為3cm的木棍在栽培層上打兩排深2~3cm的小孔，行間距為10~15cm,株間距為60~80cm,每個孔放入3~5粒小西瓜籽,然後均勻撒上2~4cm厚的覆蓋層，所述的覆蓋層為質量比為3:2的豬糞液和黃沙混合而成，且自然風乾至覆蓋層剛好能成散沙狀為止；
[0013]幼苗管理，待幼苗冒出土時，每天噴灑含量為1.5%尿素溶液，直至幼苗張至50~60cm時停止噴灑，並且在幼苗基部掏出高10~15cm的梗；
[0014]修枝留瓜，每株保留3~4個蔓，在瓜蔓長至100~150cm長時開始留瓜，每個瓜蔓上可以瓜多個瓜。但是每個瓜蔓之多同時掛兩個瓜；
[0015]掛瓜期管理，掛瓜後，每隔3~5天噴灑含3%的尿素、0.75%的磷肥和0.065的鉀肥的營養液，直至瓜果成熟。
[0016]進一步的，所述的餅肥為油菜餅肥。
[0017]本發明的有益效果在於:通過填充基肥，在不破壞土質的同時能給瓜藤長期提供營養，同時通過使用餅肥，保證了小西瓜的甘甜度，通過在掛瓜後定期噴灑營養液，能縮短小西瓜的生長時間，使小西瓜個大，並且早熟，每株瓜藤上一年能接3~4批西瓜，真正實現
優質高產。
【具體實施方式】
[0018]下面結合實施例對本發明的技術方案進行詳細說明:
[0019]一種優質小西瓜的種植方法，包括以下步驟:
[0020]開溝:在瓜地中開寬100~120cm、深40~50cm的溝，每溝間距80~IOOcm ；
[0021]填充基肥，在溝中填入30~40cm的基肥，所述的基肥由20~40%的秸杆、30~50%的圈肥、10~30%的油菜餅餅肥和5~15%的鉀肥均勻混合而成，在填充好後，最好澆一些清水，澆水量為剛好能浸溼基肥為止，這樣既能保證土壤的整體溼度，又能避免基肥中營養物質流失；
[0022]填充栽培層，在溝中填入栽培層，使溝壑填平，所述的栽培層為質量比為3:2的豬糞液和優質黑土混合而成，並且進行自然風乾至栽培層的水份剛好不能自動溢出為止，這樣的栽培層既能保證給小西瓜籽萌發充足的水分，又能避免小西瓜籽在萌發時燒苗等現象；
[0023]播種，用直徑為3c·m的木棍在栽培層上打兩排深2~3cm的小孔，行間距為10~15cm,株間距為60~80cm,每個孔放入3~5粒小西瓜籽,然後均勻撒上2~4cm厚的覆蓋層，所述的覆蓋層為質量比為3:2的豬糞液和黃沙混合而成，且自然風乾至覆蓋層剛好能成散沙狀為止，用黃沙能減少種子在萌發後，減小其幼芽衝出土的阻力，同時用豬糞液浸泡是為了進一步地為種植萌發提供更好的環境和幼苗的生長提供更多營養；
[0024]幼苗管理，待幼苗冒出土時，每天噴灑含量為1.5%尿素溶液，直至幼苗張至50~60cm時停止噴灑，並且在幼苗基部掏出高10~15cm的梗，以此避免水淹；
[0025]修枝留瓜，每株保留3~4個蔓，在瓜蔓長至100~150cm長時開始留瓜，每個瓜蔓上可以瓜多個瓜。但是每個瓜蔓之多同時掛兩個瓜，由於小西瓜的瓜果需要的營養比大西瓜少，故此可以在瓜蔓上多掛一個瓜果；
[0026]掛瓜期管理，掛瓜後，每隔3~5天噴灑含3%的尿素、0.75%的磷肥和0.065的鉀肥溶液，直至瓜果成熟，能縮短小西瓜的生長時間，使小西瓜個大，並且早熟，每株瓜藤上一年能接3~4批西瓜，真正實現優質高產。
[0027]上述實施例只為說明本發明的技術構思及特點，其目的是讓熟悉該【技術領域】的技術人員能夠了解本發明的內容並據以實施，並不能以此來限制本發明的保護範圍，凡根據本發明精神本質所作出的等同變換或修飾，都應涵蓋本發明的保護範圍內。
【權利要求】
1.一種優質小西瓜的種植方法，其特徵在於包括以下步驟: 開溝:在瓜地中開寬100~120cm、深40~50cm的溝，每溝間距80~IOOcm ； 填充基肥，在溝中填入30~40cm的基肥，所述的基肥由20~40%的秸杆、30~50%的圈肥、10~30%的餅肥和5~15%的鉀肥均勻混合而成； 填充栽培層，在溝中填入栽培層，使溝壑填平，所述的栽培層為質量比為3:2的豬糞液和優質黑土混合而成，並且進行自然風乾至栽培層的水份剛好不能自動溢出為止； 播種，用直徑為3cm的木棍在栽培層上打兩排深2~3cm的小孔,行間距為10~15cm,株間距為60~80cm,每個孔放入3~5粒小西瓜籽,然後均勻撒上2~4cm厚的覆蓋層,所述的覆蓋層為質量比為3:2的豬糞液和黃沙混合而成，且自然風乾至覆蓋層剛好能成散沙狀為止； 幼苗管理，待幼苗冒出土時，每天噴灑含量為1.5%尿素溶液，直至幼苗張至50~60cm時停止噴灑，並且在幼苗基部掏出高10~15cm的梗； 修枝留瓜，每株保留3~4個蔓，在瓜蔓長至100~150cm長時開始留瓜，每個瓜蔓上可以瓜多個瓜。但是每個瓜蔓之多同時掛兩個瓜； 掛瓜期管理，掛瓜後，每隔3~5天噴灑含3%的尿素、0.75%的磷肥和0.065的鉀肥溶液，直至瓜果成熟。
2.根據權利要求1所述的優質小西瓜的種植方法，其特徵在於:所述的餅肥為油菜餅肥。
【文檔編號】A01G1/00GK103782757SQ201310712599
【公開日】2014年5月14日 申請日期:2013年12月20日 優先權日:2013年12月20日
【發明者】何旅 申請人:貴州平壩寶地農業科技產業有限公司