壓痕檢查裝置及其方法

2023-09-19 12:30:55 1

專利名稱：壓痕檢查裝置及其方法
技術領域：
本發明涉及一種壓痕檢查裝置及其方法。更具體地說，本發明涉及一種壓 痕檢査裝置及其方法，用於快速而精確地選擇用於壓痕檢查的檢查區域，以及 用於快速而精確地確定是否有正常壓痕。
背景技術：
無引線接合技術，例如玻璃上晶片(COG)、薄膜上晶片(COF)、柔性印 刷電路板(FPC)、和帶載封裝(TCP)等類型被用於最近的平板顯示裝置中， 這些技術還用於無線電話、個人數字助理(PDA)以及顯示器件等。
例如如

圖1所示，圖1描繪了 COG類型，平板顯示裝置M包括玻璃基板 1和裝在玻璃基板1上的半導體晶片2 (或驅動晶片)，玻璃基板1上形成有包 括多個銦錫氧化物ITO電極的面板電極4。該平板顯示裝置M具有介於並且 壓在玻璃基板1與半導體晶片2之間的諸如各向異性導電薄膜之類的各向異性 導電材料3。
而且，晶片電極5形成在與面板電極4對應的半導體晶片2的一個表面上， 如圖2所示。突起物(bump) 7形成在晶片電極5上。如果半導體晶片2被按 壓，那麼突起物7的下側7a受到硬化以按壓包含在導電材料3中的導電顆粒 6，從而將面板電極4與晶片電極5電連接。
此時，通過突起物7所按壓的足夠數量的導電顆粒6來保證玻璃基板1 和半導體晶片2之間的電導率。在製造前述平板顯示裝置M中，確認是否有 足夠數量的導電顆粒6被按壓的步驟是必不可少的。
為此，如圖3所示，使用一種檢査壓痕8的方法，由該方法，面板電極4 被導電顆粒6按壓。為了確定微壓痕8而採用一種差分幹涉相襯顯微鏡 (differencial interference contrast microscope)(未不出)，該微壓痕8從玻璃 基板1的上側透入玻璃基板1 ，然後形成於面板電極4上。使用一照相機(未 示出)，從通過差分幹涉相襯顯微鏡觀察到的壓痕8的圖像獲得一圖像數據。
但是，在使用如上方法檢查壓痕8的情況下，難於快速而精確地選擇檢査區域，因為所需用來檢查壓痕8的檢查區域小得小於10 pm。
另外，在檢查檢査區域中壓痕8的正常性時，應當確定壓痕8是否產生有 足夠的深度、足夠的數量和適當的分布。但是，難以快速而精確地檢査由微米 單位下的導電顆粒6所產生的每個壓痕8。
目的
建議本發明來解決上述問題和/或缺點。本發明的目的是提供一種壓痕檢 査裝置及其方法，用於快速而精確地選擇用於壓痕檢查的檢查區域以及快速而 精確地確定是否有正常壓痕。

發明內容
為了達到此目的，依據本發明， 一種壓痕檢査裝置包括工作檯，用於固 定其上存在壓痕的基板；顯微鏡，位於工作檯上方，用於觀察基板的下側；照 相機，與顯微鏡相連，用於獲得通過顯微鏡觀察的基板的下側的圖像數據；檢 査區域選擇部分，用於從照相機接收穫得的圖像數據，從該獲得的圖像數據中 選擇用於壓痕檢查的壓痕檢查區域；和壓痕檢測部分，用於檢測檢查區域內具 有預定形狀的邊界的檢測區域中每一個檢測區域中的亮度分布信息，以根據所 檢測的亮度分布信息檢測壓痕指數。
優選的是，壓痕檢測部分根據壓痕指數確定正常壓痕，並根據檢查區域內 的正常壓痕的數量檢査電導率。
優選的是，檢查區域選擇部分包括主數據存儲部分，用於存儲與基板模 式一致的主數據；標記數據存儲部分，用於選擇所獲得的圖像數據中的一個部 分，以將所選擇的部分作為一個標記存儲；偏移值存儲部分，用於利用包括該 標記和與該檢查區域對應的模式信息的主數據存儲一偏移值，該偏移值是所獲 得的圖像數據的標記與所獲得的圖像數據的檢査區域之間的偏移值；和匹配部 分，用於基於圖像數據的標記將檢査區域匹配至由偏移值校正的位置。
而且優選的是，壓痕檢測部分包括圖像數據分析部分，用於分析檢査區 域的亮度分布；中心點檢測部分，用於根據所分析的圖像數據檢測檢測區域的 中心點；面積信息存儲部分，用於存儲以中心點為中心並有預定形狀的邊界和 面積信息；高度檢測部分，用於利用所分析的亮度信息來檢測具有該面積的邊界內的壓痕高度；和壓痕指數計算部分，用於利用面積和高度計算壓痕指數。 此外，優選的是，壓痕指數由(0.7X高度)+(0.3乂面積)計算得到。 此外，優選的是，所述面積基於介於在半導體晶片和基板之間的粘性材料
而變化。
此外，優選的是，依據本發明的壓痕檢查裝置進一歩包括壓痕指數參考 值存儲部分，用於存儲壓痕指數參考值，以通過比較所檢測的壓痕指數來確定 是否存在異常壓痕。
此外，優選的是，所述壓痕指數參考值基於介於半導體晶片與基板之間的 粘性材料而變化。
此外，優選的是，依據本發明的壓痕檢査裝置進一步包括照明器件，用 於通過顯微鏡向基板垂直照射光線。
同時，依據本發明， 一種檢査壓痕的方法包括如下步驟將一基板固定導
工作檯上，將該基板暴露給顯微鏡；使用顯微鏡觀察基板下側；使用照相機得 到圖像數據；從得到的圖像數據中選擇用於壓痕檢查的檢査區域；檢測檢査區 域內具有預定形狀的邊界的檢測區域中每一個檢測區域中的亮度分布信息；根 據亮度分布信息，檢測壓痕指數。
此外，優選的是，選擇檢査區域的步驟包括存儲與基板模式一致的主數 據；選擇獲得的圖像數據中的一個部分，以將該部分作為一個標記存儲；利用 包括該標記和與該檢查區域對應的模式信息的主數據存儲一偏移值，該偏移值 是所獲得的圖像數據的標記與所獲得的圖像數據的檢查區域之間的偏移值；以 及基於圖像數據的標記把檢査區域匹配至由偏移值校正的位置。
此外，優選的是，檢測亮度分布信息的步驟包括存儲具有預定形狀的邊 界和面積的信息，所述邊界表示細分(segmenting)檢查區域的各檢測區域中 的每個檢測區域；存儲包括邊界和面積信息的檢測區域數據；分析檢查區域的 亮度分布；根據所分析的圖像數據來檢測檢測區域的中心點；和利用所分析的 亮度信息檢測具有尺寸的邊界內的壓痕高度。
技術效果
根據依據本發明的壓痕檢查裝置及其方法，可以快速而精確地選擇用於壓 痕檢査的檢查區域以及快速而精確地確定是否有正常壓痕。實施例
以下，參考附圖，解釋依據本發明的優選實施例的壓痕檢査裝置及其方法。
以僅僅採用包括玻璃上晶片(COG)、薄膜上晶片(COF)、柔性印刷電路 板(FPC)、帶載包裝(TCP)的各種無引線接合方法中的COG方法的平板顯 示面板為例。
因此，要作為檢查對象的基板為玻璃基板。
圖4為一配置圖，示意性地表示出一個依據本發明的壓痕檢査裝置。圖5 為一框圖，表示出一個依據本發明的壓痕檢查裝置的檢査部分。圖6示意性地 示出一種依據本發明的壓痕檢查裝置的檢査區域的選擇方法。圖7示意性地表 示出一種通過依據本發明的壓痕檢査裝置檢査壓痕的方法。
參考圖1至圖3解釋圖4，依據本發明的壓痕檢査裝置包括工作檯110， 用於固定其上存在壓痕的平板顯示面板M (以下將稱為"面板")；顯微鏡120， 用於細微觀察包括基板l的面板M的下側(參考圖l)，半導體晶片2裝在基 板1上；照相機130，與顯微鏡連接，用於獲得面板M的下側的圖像；輔助 照相機130a，用於調整顯微鏡120的焦距；檢查伺服器，用於控制顯微鏡120 和照明器件160，以及從由照相機130所獲得的圖像中選擇需要用來檢査壓痕 的檢査區域和使用每個壓痕8的亮度分布信息檢查壓痕8;驅動伺服器150， 用於控制工作檯110的驅動；以及照明器件160，用於垂直地照射光。
而且，面板M以下側朝上的方式固定在工作檯110上，使得玻璃基板1 的背面暴露給置於工作檯110上方的顯微鏡120，半導體晶片2裝在玻璃基板 1的正面。藉助照明器件160照射垂直於玻璃基板1的光，顯微鏡120越過 (across)玻璃基板1的背面，細微觀察產生在面板電極4 (換言之，ITO電極) 中的壓痕8。照相機130獲得被觀察的壓痕8的圖像數據，將圖像數據傳輸至 檢査伺服器140。
因此，檢查伺服器140從輸入的圖像數據中選擇一個檢査區域以檢査所選 擇的檢査區域的每個壓痕，從而確保玻璃基板1的面板電極4與用於驅動和控 制面板M的半導體晶片2 (換言之，驅動IC)之間的電導率。
更具體的說，工作檯110用於固定和移動要被檢査的面板M。工作檯110 配置成如此方式工作使用驅動伺服器所控制的驅動馬達(未示出)沿著一個水平表面上的X軸和Y軸方向移動面板M，以及旋轉面板M。由此，可以進 行首次調整以將玻璃基板1的檢査區域定位於顯微鏡120的正下方。
雖然可以使用設置在工作檯110上表面上的夾具(未示出)來執行對面板 M的固定，不過最近使用一種真空吸附法，用於保護變得越來越薄的玻璃基 板1。
顯微鏡120設置在固定有面板M的工作檯110的上方，它允許越過玻璃 基板的背面來觀察產生在玻璃基板1正面的面板電極4中的壓痕8。如之後解 釋的那樣，為了更精確地觀察所需用來檢査壓痕的亮度分布，優選的是，顯微 鏡120是差分幹涉相襯顯微鏡。
另外，將顯微鏡120配置成檢査伺服器140接收由連接到顯微鏡120的輔 助照相機130a獲得的圖像，顯微鏡120根據檢查伺服器140的控制上下移動， 其中檢查伺服器140基於接收到的圖像判別當前焦距。
照相機130用於通過顯微鏡120觀察所觀察的玻璃基板1的背面。照相機 130連接到顯微鏡120並連接到檢查伺服器140以便於傳輸獲得的圖像數據。
照明器件160將光垂直照射向面板M的玻璃基板1，以便通過顯微鏡120 精確觀察產生於玻璃基板1的面板電極4中的壓痕8。照明器件160提供的光 被提供向顯微鏡120的內部。光線通過一個偏振濾光器(未示出)和一個稜鏡 (未示出)，到達工作檯110上方，從而照亮玻璃基板l。
檢査伺服器140選擇需要用來檢査壓痕的檢查區域，並使用亮度分布信息 檢查壓痕8。如從圖5所知，檢查伺服器140包括圖像數據存儲部分144， 用於存儲從照相機130獲得的圖像數據；檢査區域選擇部分141，用於從圖像 數據中選擇需要用來檢查壓痕的檢査區域；壓痕檢測部分142，用於根據檢測 到的亮度分布信息檢測每個壓痕8的亮度分布信息，然後根據檢測到的亮度分 布信息檢測壓痕指數；輸入部分143，用於允許使用者例如檢査者輸入檢査壓 痕所需的幾個信息；以及控制器145，用於總體控制以上部件。
這裡，檢査區域選擇部分141包括主數據存儲部分141a，用於存儲與 基板模式(pattern) —致的主數據；標記數據存儲部分141b，用於選擇所獲圖 像數據中的一個部分以將所選部分作為一個標記存儲；偏移值存儲部分141c， 用於利用包括該標記和與檢査區域對應的模式信息的主數據來存儲所獲圖像 數據的標記與所獲圖像數據的檢查區域之間的偏移值；和匹配部分141d，用於基於圖像數據的標記將檢查區域匹配至由偏移值校正的位置。
因此，如圖6a所示，檢査區域選擇部分141選擇所獲得的面板電極4和 壓痕8的圖像數據中的一個部分作為標記，並將其存儲在標記數據存儲部分 141b。如圖6b所示，檢査區域選擇部分141使用存儲在主數據存儲部分141a 中的主數據來計算所獲圖像數據的標記與所獲圖像數據的檢査區域之間的偏 移值，將該偏移值存儲在偏移值存儲部分141c中。然後，如圖6c所示，匹配 部分141d基於該圖像數據的標記，使用由偏移值校正的位置，從該圖像數據 中選擇需要用來檢査的檢查區域。
雖然突起物7所裝在的位置作為示例示出，不過可以理解的是，本發明不 僅限於該例，其他部分也可被選為檢查區域。
壓痕檢測部分142包括圖像數據分析部分142a，用於分析檢査區域的 亮度分布；中心點檢測部分142b，用於根據所分析的圖像數據來檢測檢測區 域的中心點；面積信息存儲部分142c，用於存儲以中心點為中心並有預定形 狀的邊界和面積信息；高度檢測部分142d，用於利用所分析的亮度信息，檢 測具有該面積的邊界內的壓痕高度H;和壓痕指數計算部分142e，用於利用 面積A和高度H計算壓痕指數。
這裡，圖像數據分析部分142a允許以亮度檢測方法分析圖像數據。即是 說，如圖7a所示，當壓痕8越大或越高時，它顯得越亮。相反，當壓痕8越 小或越低時，它顯得越暗。亮的部分意味著導電顆粒被突起物7充分地按壓。 它提供了使用戶識別出玻璃基板1的面板電極4與突起物7著實地(rigidly) 電連接的依據。
中心點檢測部分142b允許選擇檢査區域內檢測區域的一個中心點，下面 基於被圖像數據分析部分142a分析的數據描述它。
艮口，如圖7b所示，相鄰兩個壓痕8之間的中點被選為一個中心點。
面積信息存儲部分142c存儲由用戶預先輸入的檢測區域數據。該檢測區 域數據包括檢測區域的邊界形狀、半徑和面積信息。即，面積信息存儲部分 142c存儲一圓形的邊界形狀信息。同時，如果半徑被存儲，那麼以中心點為 圓心的具有該半徑的圓就將是一檢測區域。檢測區域的面積也可以被存儲。
但是，檢測區域也可以被存儲為矩形或六邊形。在這些情況下，有可能細 微檢查整個檢查區域。另外，半徑基於導電材料的的類型例如ACF3 (參考圖1)而變化。這是 因為，導電顆粒6的大小基於導電材料3而變化。因此，檢測區域需要得到適 當的選擇。
高度檢測部分142d使用由圖像數據分析部分142a所分析的分布來檢測壓 痕8的高度H。高度檢測部分142d基於如下原理檢測壓痕8的高度壓痕8 的高度H越高，壓痕顯得越明亮。
壓痕指數計算部分142e使用面積和高度H計算壓痕指數。壓痕指數計算 部分142e利用存在於每單位面積的各壓痕8的分布，g卩，各壓痕8所改變的 亮度分布信息，確定壓痕8是否被正常產生。
為此，壓痕指數計算部分142e使用如下等式
壓痕指數F = (0.7 X高度)+ ( 0.3 X面積)
與高度和面積相乘的常數因子分別根據導電材料而變化，如前所述。 因此，如圖7所示，壓痕指數計算部分142e對各壓痕8的每一個壓痕所 處的各檢測區域中的每一個檢測區域計算壓痕指數F。某一檢測區域中的壓痕 指數F符合壓痕指數參考值，則確定此壓痕是正常壓痕。另外，通過對整個檢 査區域內正常壓痕的數目進行計數，檢驗出電導率。
同時，某一檢測區域中的壓痕指數F小於壓痕指數參考值，則確定要麼沒 有進行充分按壓，要麼該壓痕指數F由噪聲引起。相反，如果某一檢測區域中 的壓痕指數F大於壓痕指數參考值，則確定要麼按壓過度，要麼該壓痕指數F 值由噪聲引起。
以下，將解釋使用本發明的上述壓痕檢査裝置檢査壓痕的方法。
首先，當檢查開始時，玻璃基板1被固定在工作檯iio上以暴露玻璃基板
1的背面給顯微鏡120，其中半導體晶片2通過壓著的方法裝在玻璃基板1的
正面上。
一旦玻璃基板1被固定，驅動伺服器150控制驅動馬達(未示出)移動工 作臺110，由此將玻璃基板定位於顯微鏡120的正下方。檢查伺服器140基於 所獲圖像通過上下移動顯微鏡120來調整焦距。
另外，檢査伺服器140允許經顯微鏡120內部將光線垂直照射到玻璃基板 1上。當光線照射到玻璃基板1上時，其上裝有半導體晶片的玻璃基板1的背 面被觀察。玻璃基板1的背面被觀察以後，觀察到的圖像數據由照相機130獲得，傳 輸至圖像數據存儲部分144。
然後，檢查伺服器140接收所獲圖像數據，在整個的該圖像數據中選擇需 要用來檢査的檢查區域。
艮P，在圖像數據中選擇出來的部分作為一個標記被存儲在標記數據存儲部 分141b中。利用包括該標記和與檢查區域對應的模式信息的主數據，該標記 與檢查區域之間的一偏移值被存儲在偏移值存儲部分141c中。
而且，檢測到的偏移值被存儲在偏移值存儲部分141c中。通過使用匹配 部分141d來匹配檢查區域至基於圖像數據的標記由偏移值校正的位置，選擇 檢查區域。
一旦選擇了檢查區域，就對檢査區域中的每個檢測區域檢測亮度分布信 息。通過輸入部分143，用戶預先輸入具有預定形狀的邊界和面積信息，它表 示細分該檢査區域的各檢測區域中的每個檢測區域。
艮P，圖像數據分析部分142a分析與該檢查區域對應的一個部分處的亮度。 如所解釋的那樣，中心點檢測部分142b使用分析過的亮度來檢測中心點。高 度檢測部分142d使用分析過的亮度來檢測具有該面積的邊界內的壓痕高度H， 由此計算壓痕指數。
因此，如果壓痕指數計算部分142e使用面積和高度H計算壓痕指數，那 麼利用存在於每單位面積的各壓痕8的分布，即各壓痕8所改變的分布信息， 可以確定壓痕是否正常產生。
艮P，某一檢測區域內的壓痕指數F小於壓痕指數參考值，則確定要麼沒有 進行充分的按壓，要麼該壓痕指數F值由噪聲引起。相反，如果某一檢測區域 中的壓痕指數F大於壓痕指數參考值，則確定要麼按壓過度，要麼該壓痕指數 F值由噪聲引起。
重複地執行壓痕指數的檢測。當每一個檢測區域的壓痕指數檢測都完成 時，存在於整個檢査區域內的正常壓痕數目和電導率被確定。 同時，當壓痕檢査完成時，檢査終止。然後，存儲結果。 雖然已經連同典型實施例描述了本發明，但是本領域技術人員會理解的 是，在不離開本發明的精神或者範圍的情況下，可以以各種不同的方式修改所 描述的實施例。因此，本說明書被認為是實際上是示例性的以及不是限制性的。本發明意 圖覆蓋各種變型和等同物。
工業應用性
根據依據本發明的壓痕檢査裝置及其方法，能夠快速而精確地選擇用於壓 痕檢查的檢查區域以及快速而精確地確定是否有正常壓痕。
附圖的簡要說明
圖l為一透視圖，表示一個普通平板顯示面板。
圖2描繪了一個局部放大圖，表示一個普通平板顯示面板的壓痕存在部分。
圖3描繪了用於檢查一個平板顯示面板的一般布置。
圖4為一配置圖，示意性表示出一個依據本發明的壓痕檢查裝置。
圖5為一框圖，表示一個依據本發明的壓痕檢査裝置的檢査部分。
圖6示意性表示出一種依據本發明的壓痕檢査裝置的檢査區域的選擇方法。
圖7示意性表示出一種通過依據本發明的壓痕檢査裝置檢査壓痕的方法。
權利要求
1.一種壓痕檢查裝置，包括工作檯，用於固定一基板，在該基板上存在壓痕；顯微鏡，位於所述工作檯的上方，用於觀察所述基板的下側；照相機，與所述顯微鏡相連，用於獲得通過所述顯微鏡觀察的所述基板的下側的圖像數據；檢查區域選擇部分，用於從所述照相機接收所獲得的圖像數據，從該所獲得的圖像數據中選擇需要用來檢查壓痕的檢查區域；壓痕檢測部分，用於檢測所述檢查區域內具有預定形狀的邊界的各檢測區域中每一個檢測區域中的亮度分布信息，以根據所檢測的亮度分布信息檢測壓痕指數。
2. 如權利要求1所述的壓痕檢査裝置，其中所述壓痕檢測部分根據所述 壓痕指數確定是否有正常壓痕，並根據檢查區域內正常壓痕的數量檢査電導 率。
3. 如權利要求1所述的壓痕檢査裝置，其中所述檢查區域選擇部分包括: 主數據存儲部分，用於存儲與基板模式一致的主數據；標記數據存儲部分，用於從所獲得的圖像數據中選擇一個部分，以將所選 擇的部分作為一個標記存儲；偏移值存儲部分，用於利用包括該標記和與該檢査區域對應的模式信息的 主數據存儲一偏移值，該偏移值是所獲得的圖像數據的標記與所獲得的圖像數 據的檢查區域之間的偏移值；和匹配部分，用於基於該圖像數據的標記把檢査區域匹配至由該偏移值校正 的位置。
4. 如權利要求1所述的壓痕檢査裝置，其中所述壓痕檢測部分包括 圖像數據分析部分，用於分析該檢査區域的亮度分布； 中心點檢測部分，用於根據所分析的圖像數據來檢測檢測區域的中心點； 面積信息存儲部分，用於存儲以所述中心點為中心並有預定形狀的邊界和面積信息；高度檢測部分，用於利用所分析的亮度信息來檢測具有該面積的邊界內的壓痕高度；和壓痕指數計算部分，用於利用該面積和該高度計算壓痕指數。
5. 如權利要求4所述的壓痕檢査裝置，其中所述壓痕指數由(0.7X高度) +(0.3乂面積)計算得到。
6. 如權利要求4所述的壓痕檢查裝置，其中所述面積基於介於半導體芯 片與所述基板之間的粘性材料而變化。
7. 如權利要求1至6中任一所述的壓痕檢查裝置，進一步包括 壓痕指數參考值存儲部分，用於存儲壓痕指數參考值，以通過比較所檢測的壓痕指數來確定是否存在異常壓痕。
8. 如權利要求7所述的壓痕檢査裝置，其中所述壓痕指數參考值基於介 於半導體晶片與所述基板之間的粘性材料而變化。
9. 如權利要求1至6中任一所述的壓痕檢査裝置，進一步包括照明器 件，用於通過顯微鏡向所述基板垂直照射光線。
10. —種檢查壓痕的方法，包括如下步驟 將基板固定在工作檯上，以將該基板暴露給顯微鏡； 使用該顯微鏡觀察基板的下側； 使用照相機獲得圖像數據；從所獲得的圖像數據中選擇用於壓痕檢査的檢查區域； 檢測所述檢査區域內具有預定形狀的邊界的各檢測區域中每一個檢測區 域中的亮度分布信息；以及根據該亮度分布信息，檢測壓痕指數。
11. 如權利要求10所述的方法，其中所述選擇用於壓痕檢査的檢査區域的 步驟包括存儲與基板模式一致的主數據；選擇所獲得的圖像數據中的一個部分以將所選擇的部分作為一個標記存儲；利用包括該標記和與該檢査區域對應的模式信息的主數據存儲一偏移值， 該偏移值是所獲得的圖像數據的標記與所獲得的圖像數據的檢査區域之間的 偏移值；以及基於該圖像數據的標記把該檢查區域匹配至由該偏移值校正的位置。
12.如權利要求10所述的方法，其中檢測亮度分布信息的步驟包括-存儲具有預定形狀的邊界和面積的信息，所述邊界表示細分該檢査區域的各檢測區域中的每個檢測區域；存儲包括該邊界和面積信息的檢測區域數據； 分析該檢查區域的亮度分布；由所分析的圖像數據來檢測檢測區域的中心點；以及 利用所分析的亮度信息檢測具有尺寸的邊界內的壓痕高度。
全文摘要
本發明涉及一種壓痕檢查裝置及其方法。更具體地說，本發明涉及一種壓痕檢查裝置及其方法，用於快速而精確地選擇用於壓痕檢查的檢查區域，以及用於快速而精確地確定是否有正常壓痕。為此，依據本發明的壓痕檢查裝置包括工作檯，用於固定其上存在壓痕的基板；顯微鏡，位於所述工作檯上方，用於觀察所述基板的下側；照相機，與所述顯微鏡相連，用於獲得通過所述顯微鏡觀察的所述基板的下側的圖像數據；檢查區域選擇部分，用於從所述照相機接收所獲得的圖像數據，以從所獲得的圖像數據中選擇用於壓痕檢查的壓痕檢查區域；和壓痕檢測部分，用於檢測所述檢查區域內具有預定形狀的邊界的各檢測區域中每一個檢測區域中的亮度分布信息，以根據所檢測的亮度分布信息檢測壓痕指數。
文檔編號G01N21/956GK101587083SQ20081014679
公開日2009年11月25日 申請日期2008年8月29日 優先權日2008年5月21日
發明者孫暎卓, 許玟碩 申請人:勝利科技股份有限公司