用於使印刷過的印版重新成像的方法

2023-09-17 17:59:50

專利名稱：用於使印刷過的印版重新成像的方法
技術領域：
本發明涉及一種具有權利要求1前序部分特徵的用於使印刷過的印版重新成像的方法。此外，本發明還涉及一種具有權利要求8前序部分特徵的用於使印刷過的印版重新成像的裝置。
背景技術：
由現有技術公開了用於膠版印刷的可擦寫的印版，也就是可多次使用並且設有更換的印刷圖像並且從而可重複使用的印版。這種印版可具有基底和施加在基底上的微米級厚度的塗層，其中，所述塗層在成像期間局部地在圖像區域中大多藉助於雷射輻射再次去除，從而在親水和疏水區域中進行表面的按照圖像的結構化。在重新成像之前，所述表面被清潔並且又設有閉合的塗層。所述塗層可以像DE 101 32 204 Al中所描述的那樣例如構造為水膜。此外，例如由DE 102 27 054 Al公開了一些印版，所述印版代替所述的微米級厚度的塗層地具有僅僅納米級厚度的分子覆層，所述分子覆層同樣可藉助於雷射輻射結構化並且在重新成像之前更新。相反，值得期望的是這樣一種印版，所述印版在無塗層介質和覆層介質以及相應施加裝置的情況下就足夠。由WO 2010/029342 Al公開了一種可擦寫的印版，所述印版既沒有塗層也沒有覆層。所述印版在圖像區域中加載雷射輻射、例如飛秒雷射器的輻射並且從而局部地足夠親水化，以便產生符合圖像的結構化部。印版的刪除例如通過足夠長時間的儲放並且優選在不採用液態刪除介質的情況下進行。當印版在印刷之後應被馬上提供用於新印刷任務時， 這種儲放可以被視為是有缺點的。此外，DE 10 2005 035 896 Al與製造顏色不同或全息作用的結構相關地描述了在採用飛秒雷射器的情況下產生納米結構。但是沒有描述將這種結構用於製造印版並且特別是沒有描述在重新成像之前刪除所述結構。

發明內容
由所述背景出發，本發明的任務是，提供一種相對於現有技術改善的用於使印刷過的印版重新成像的方法，所述方法允許將用於重新成像並且在此特別是用於刪除的時間耗費和材料/經濟耗費保持很小。此外，本發明的另外的或替代的任務在於，提供一種相對於現有技術改進的裝置，所述裝置同樣允許將所述耗費保持很小。按照本發明，所述任務通過具有權利要求1特徵的方法和具有權利要求8特徵的裝置解決。本發明的有利的進一步方案由從屬權利要求以及由說明書和附圖中得出。本發明的用於使印刷過的印版重新成像的方法是這樣一種方法，其中，將印版的基底整體地清潔掉油墨或亮油；對所述基底整體地進行研磨處理以刪除先前的印刷圖像； 對所述基底在圖像區域中局部地用脈衝式雷射束處理以用後續的印刷圖像進行成像並且在此局部地產生納米級的和疏水的表面結構；並且對所述基底整體地用親水增益劑進行處理，由此使得所述基底局部地在之前疏水的圖像區域中親水。
本發明的方法採用脈衝式的雷射束並且從而採用雷射脈衝。在此，以有利的方式在基底的表面上在圖像區域中產生納米結構化部或納米拓撲圖，由此改變潤溼特性印版在成像後的區域中、即在圖像區域中疏水。在此不進行顯著的材料去除(燒蝕)或材料施加(塗層)，取而代之的是，在圖像區域中和非圖像區域中存在同樣的基底材料，但是其納米結構不同。相反，為了提供必須的印刷對比度所需的區別僅僅來源於所述區域的不同納米級結構化部。此外，通過這種方式提供的表面狀態在時間上是穩定的，與此相反的是例如在現有技術中描述的結構化水膜會容易蒸發。此外，本發明的方法採用親水增益劑。令人意料不到地發現，所述親水增益劑在起初滴落之後恰恰在納米結構化的圖像區域中能夠特別良好地附著(也就是說其分子特別良好地錨固在那裡)並且由此使得這些之前疏水的圖像區域親水。出人意料的是，雷射處理過的疏水區域在親水增益之後比不是用雷射處理過的區域更親水。由此以有利的方式足夠地增強成像區域與非成像區域之間的對比度，儘管與期望值不同。本發明方法的一個對於產生輻射區域與非輻射區域之間的強對比度有利並且因此優選的進一步方案的特徵可在於，脈衝化的雷射束包括光脈衝，所述光脈衝的持續時間 t至少處於皮秒範圍內(t < 100*10_12秒)並且優選至少處於飛秒範圍內(t < 100*10_15 秒)。為此可採用所謂的短脈衝雷射器，特別是皮秒雷射器或飛秒雷射器。本發明方法的一個同樣對於產生輻射區域與非輻射區域之間的強對比度有利並且因此優選的進一步方案的特徵可在於，所述光脈衝在約1至約10微焦耳的脈衝能量的情況下持續約10至約10000、特別是約100至約1000飛秒。本發明方法的一個同樣對於成像、即基底表面的結構化有利並且因此優選的進一步方案的特徵可在於，所述基底在研磨處理之後並且在成像之前不進行塗層，特別是所述成像可緊接著所述研磨處理進行。本發明方法的一個用於產生所需的印刷對比度足夠的結構化部有利並且因此優選的進一步方案的特徵可在於，所述基底選自下述基底表金屬；金屬氧化物；金屬板；金屬板上的金屬氧化物層；鈦板或不鏽鋼板上的鈦層；鋁板或不鏽鋼板上的鋁層；不鏽鋼板； 塑料；塑料薄膜。本發明方法的一個對於足夠的對比度增益有利並且因此優選的進一步方案的特徵可在於，使用流體態的膠合介質、特別是CMC (羧甲基化纖維素)的水性溶劑作為親水增益劑。本發明方法的一個由於其容易的技術轉換性有利並且因此優選的進一步方案的特徵可在於，使用流體態的研磨介質進行研磨處理。本發明的用於使印刷過的印版重新成像的裝置的特徵在於刪除單元和成像單元， 所述刪除單元對所述基底整體地用流體態的研磨介質進行處理以刪除之前的印刷圖像，所述成像單元對所述基底在圖像區域中局部地用飛秒雷射器進行處理以用後續的印刷圖像進行成像。本發明裝置的一個用於實現足夠的對比度增益有利並且因此優選的進一步方案的特徵可在於顯影單元，所述顯影單元對所述基底整體地用流體態的膠合介質進行處理， 由此使得所述基底局部地在圖像區域中親水。在本發明的範圍內還提出一種處理承印物的機器，例如印刷機，特別是用於平版膠印的處理頁張的輪轉印刷機，或者例如印版曝光機，其特徵在於，設有至少一個上述參照本發明描述的裝置。所述的本發明和本發明的所述有利的進一步方案彼此間也以任意的組合構成本發明的有利的進一步方案。特別優選的是這樣一種方法，在該方法中進行整體清潔、在採用流體態研磨介質的情況下進行整體研磨刪除、用飛秒脈衝對未塗層的金屬基底進行局部雷射處理並且進行整體親水增益。


下面參照附圖藉助於至少一個優選的實施例詳細闡述本發明以及本發明的功能上有利的進一步方案。在附圖中，彼此相應的元件分別設有同樣的參考標號。附圖中圖1是本發明的方法的優選實施例的流程圖；和圖2是本發明的裝置的優選實施例的示意性側視圖。
具體實施例方式圖1示出本發明的用於使之前印刷過至少一次的印版fe重新成像的方法的優選實施例的流程圖。用於新印刷任務的重新成像可以藉助同樣的或不同的印刷圖像進行。所述印刷任務可以包括僅僅一種承印物如單個紙頁張或紙板頁張的印刷或者包括多個這種承印物(即一系列這種頁張)的印刷。在方法步驟A中，印版fe的基底5b (參見圖1)——優選鈦板或不鏽鋼板整體地、 即至少在對於印刷使用的整個面上基本上完全地清潔掉先前的印刷任務的油墨或亮油。為此可採用、即施加市場上常見的印版清潔介質例如Druck Chemie公司的「歐洲之星」並且又去除掉所述油墨或亮油。也可以接下來進行清洗和乾燥。在方法步驟B中，為了刪除、即不可逆地去除掉之前的印刷圖像，按照本發明對所述基底恥整體地進行研磨處理。為此，優選採用流體態的、特別是液態的研磨介質8。經過成功測試的是Agfa公司的「RC95」介質。在測試中，用研磨介質進行處理被證明足以刪除或破壞之前圖像的納米拓撲繪圖技術結構並且將印版的表面置成用於後續成像的確定的初始狀態。在方法步驟C中，為了用後續的印刷圖像進行成像，按照本發明對所述基底恥局部地(即非整體地，而是在對於成像所需的地方)在圖像區域中用(優選所謂的短脈衝雷射器的或特別是飛秒雷射器的)脈衝式雷射束6進行處理並且在此局部地提供納米級的或疏水的、特別是(由於其相對於水或水性溶劑的非常小的潤溼特性)所謂的超疏水的表面結構。光脈衝(在約1至約10微焦耳的脈衝能的情況下)持續優選約10至約10000、特別是約100至約1000飛秒。在此局部地產生所述經雷射處理表面的納米級結構化部，其具有優選約10至約10000納米、特別是約100至約1000納米的凹部並且所述凹部的側向周期優選為約10至10000納米、特別是約100至約1000納米。例如可採用鈦=Coherent公司的藍寶石雷射器(RegA型)。在方法步驟D中，對基底恥用親水增益劑7進行整體處理，由此使得基底在之前疏水或甚至超疏水的圖像區域中按照本發明經歷潤溼特性的逆變並且變得親水。優選使用膠合劑例如柯達公司的「850中性樹膠」、愛克發公司的「AgUmZ」、「AgUmO」或「AgumC2」作為親水增益劑。CMC(羧甲基化纖維素)的水性溶劑基的膠合劑已被證明是特別有效的。在按照方法步驟A至D使先前已經印刷過的印版重新成像之後，可以使該印版在方法步驟E中潤溼並且在方法步驟F中著墨。特別有利的是採用下述潤溼介質，所述潤溼介質包含膠合劑作為組成部分並且因此在繼續印刷期間保持印刷對比度，即親水區域和疏水區域的潤溼特性的對於印刷過程足夠的區別。接著，所述印版可以在方法步驟G中重新印刷。循環過程A至G可以多次進行。圖2示出本發明的用於使印刷過的印版重新成像的裝置的優選實施例的示意性側視圖。圍繞中央滾筒1設置用於處理印版fe的單元，所述中央滾筒優選構造為印版滾筒 1並且承載印版如或基底恥。本發明裝置的重要的單元是刪除單元B'和成像單元C'，所述刪除單元用流體態的研磨介質8對印版fe的基底恥進行整體處理以刪除先前的印刷圖像，所述成像單元對基底恥在圖像區域中用短脈衝雷射器C'、優選飛秒雷射器C'進行局部處理以用後續的印刷圖像進行成像。可選的是，所述裝置還可以包括清潔單元A'以及顯影單元D'，所述清潔單元將所述印版fe的基底恥整體地清潔掉油墨或亮油，所述顯影單元用流體態膠合介質7對基底恥進行整體處理，由此使得基底恥在圖像區域中局部親水。同樣可選的是，還可以圍繞所述中央滾筒1設置用於潤溼的單元或潤溼機構E' 以及用於著墨的單元或油墨機構F'。印版fe的印刷可以通過傳遞滾筒2在傳遞滾筒2與壓印滾筒3的間隙中在承印物4上進行。替代所述方法地，也可以按照方法步驟C使尚未印刷過的並且尚未著墨的印版成像並且按照方法步驟D使之親水或超親水，而無需事先使印版清潔掉印刷油墨。能夠可選地設置按照方法步驟B的研磨處理以將印版的表面置成用於成像的確定的初始狀態。參考標號表1 印版滾筒2 傳遞滾筒3 壓印滾筒4 承印物5a，b印版/基底6 雷射束7 親水增益劑8 研磨介質Α,Α'清潔或清潔單元B,B'刪除或刪除單元C, C'成像或成像單元/雷射器D,D'顯影或顯影單元Ε,Ε'潤溼或用於潤溼的單元F, F'著墨或用於著墨的單元G 印刷
權利要求
1.用於使印刷過的印版重新成像的方法，其中， 將印版(5a)的基底(5b)整體地清潔掉(A)油墨或亮油， 對所述基底(5b)整體地進行研磨處理(B)以刪除(B)先前的印刷圖像， 對所述基底(5b)在圖像區域中局部地用脈衝式雷射束(6)處理以用後續的印刷圖像進行成像(C)並且在此局部地產生納米級的和疏水的表面結構，並且 對所述基底(5b)整體地用親水增益劑(7)進行處理(D)，由此使得所述基底(5b)局部地在之前疏水的圖像區域中親水。
2.根據權利要求1的方法，其特徵在於，所述脈衝式雷射束(6)包括光脈衝，所述光脈衝的持續時間至少處於皮秒範圍內或飛秒範圍內。
3.根據權利要求2的方法，其特徵在於，所述光脈衝在約1至約10微焦耳的脈衝能量的情況下持續約10至約10000、特別是約100至約1000飛秒。
4.根據權利要求1的方法，其特徵在於，所述基底(5b)在研磨處理(B)之後並且在成像(C)之前不進行塗層。
5.根據權利要求1的方法，其特徵在於，所述基底(5b)選自下述基底表 金屬， 金屬氧化物， 金屬板， 金屬板上的金屬氧化物層， 鈦板或不鏽鋼板上的鈦層， 眷鋁板或不鏽鋼板上的鋁層， 不鏽鋼板， 塑料，和 塑料薄膜。
6.根據權利要求1的方法，其特徵在於，使用流體態的膠合介質、特別是CMC(羧甲基化纖維素)的水性溶劑作為親水增益劑(7)。
7.根據權利要求1的方法，其特徵在於，使用流體態的研磨介質(8)進行研磨處理⑶。
8.用於使得印刷過的印版重新成像的裝置，其特徵在於， 刪除單元(B')，所述刪除單元對所述印版(5a)的基底(5b)整體地用流體態的研磨介質(8)進行處理以刪除之前的印刷圖像，和 成像單元(C')，所述成像單元對所述基底(5b)局部地在圖像區域中用飛秒雷射器 (C')進行處理以用後續的印刷圖像進行成像。
9.根據權利要求8的裝置，其特徵在於， 顯影單元(D')，所述顯影單元對所述基底(5b)整體地用流體態的膠合介質(7)進行處理，由此使得所述基底(5b)局部地在圖像區域中親水。
10.機器，例如印刷機，特別是用於平版膠印的處理頁張的輪轉印刷機，或者例如印版曝光機，其特徵在於，設有根據權利要求8至9中任一項所述的裝置。
全文摘要
本發明涉及用於使印刷過的印版(5a)重新成像的方法，提出，將印版(5a)的基底(5b)整體地清潔掉(A)油墨或亮油；對所述基底(5b)整體地進行研磨處理(B′)以刪除(B)先前的印刷圖像；對所述基底(5b)局部地在圖像區域中用脈衝式雷射束(6)處理以用後續的印刷圖像進行成像(C)並且在此局部地產生納米級的和疏水的表面結構；對所述基底(5b)整體地用親水增益劑(7)進行處理(D)，由此使得所述基底(5b)局部地在之前疏水的圖像區域中親水。本發明的裝置包括相應的刪除單元(B′)和帶飛秒雷射器的成像單元(C′)。
文檔編號B41C1/10GK102407652SQ2011102141
公開日2012年4月11日 申請日期2011年7月25日 優先權日2010年8月4日
發明者B·梅希勒, H·皮茨, R·斯皮爾格 申請人:海德堡印刷機械股份公司