陽極氧化電鍍鋁結構及製造其的方法
2023-12-02 13:19:36 2
陽極氧化電鍍鋁結構及製造其的方法
【專利摘要】本發明公開涉及陽極氧化電鍍鋁結構及製造其的方法。根據本發明實施例的裝飾性結構是通過用鋁電鍍非裝飾性結構並且隨後陽極氧化電鍍的鋁來提供的。這產生了可以擁有期望的結構與裝飾屬性並且可以適於用作電子設備的外罩或支撐構件的裝飾性結構。
【專利說明】陽極氧化電鍍鋁結構及製造其的方法
【背景技術】
[0001]諸如計算機、手機和可攜式媒體設備的電子設備常常被製造成呈現期望的裝飾特性。此外，這種設備被製造成具有最小化的結構需求。對於這種設備中所使用的某些材料來說，期望呈現足夠的結構完整性與裝飾吸引力。但是，依賴於所使用的材料，這兩個質量會彼此對立。例如，一種材料在審美的角度上可能是令人愉悅的，但是缺乏期望的結構屬性，或者作為替代，這種材料可能在結構上是可靠的，但沒有呈現期望的裝飾性。
【發明內容】
[0002]公開了陽極氧化電鍍鋁結構及製造其的方法。
[0003]在有些實施例中，裝飾性結構可以包括具有表面的非裝飾性結構、位於該表面上的資格層(qualification layer)及位於該資格層上的電鍍鋁層。電鍍鋁層可以具有範圍在15微米和120微米之間的初始施加厚度(initial applied thickness)。裝飾性結構還可以包括與電鍍鋁層一體化形成的鋁陽極氧化層。
[0004]在有些實施例中，用於製造裝飾性結構的方法可以包括提供非裝飾性結構，使所述非裝飾性結構準備好進行 電鍍過程，以及用鋁電鍍準備好的非裝飾性結構以提供電鍍鋁結構。所述電鍍鋁層具有範圍在15微米和120微米之間的初始施加厚度。所述方法還可以包括處理所述電鍍鋁結構以獲得預定拋光(finish)。所述電鍍鋁的一部分被除去以提供所述預定拋光。所述方法還可以包括陽極氧化處理後的具有所述預定拋光的電鍍鋁結構以提供所述裝飾性結構。
[0005]在有些實施例中，電子設備可以包括顯示器、用戶接口和用於固定顯示器和用戶接口的外罩。外罩可以包括具有陽極氧化電鍍鋁裝飾性拋光的金屬。
[0006]在有些實施例中，裝飾性結構可以包括非裝飾性結構及位於該非裝飾性結構上的電鍍鋁層。電鍍鋁層可以包括第一和第二摻雜劑，每種摻雜劑都具有不同的顆粒結構(grain structure)。裝飾性結構還可以包括與電鍍招層一體化形成的招陽極氧化層。
[0007]在有些實施例中，一種物品可以包括鋁結構和該鋁結構上的電鍍鋁層。鋁結構的氧化物層可以被除去。
[0008]在有些實施例中，一種方法可以包括提供鋁結構，以及在密封的環境中，從鋁結構除去氧化物層，並且，在除去之後，電鍍鋁結構以在鋁結構上形成電鍍鋁層。
[0009]在有些實施例中，一種物品可以包括非裝飾性結構。該非裝飾性結構可以包括第一材料類型的第一部分和第二材料類型的第二部分。該物品還可以包括第一部分上的第一電鍍層和第二部分上的第二電鍍層。
[0010]在有些實施例中，一種方法可以包括提供非裝飾性結構。該非裝飾性結構可以包括第一材料類型的第一部分和第二材料類型的第二部分。該方法還可以包括電鍍非裝飾性結構以在第一部分上形成第一電鍍層並且在第二部分上形成第二電鍍層。
[0011]在有些實施例中，一種物品可以包括非裝飾性結構、該非裝飾性結構上的第一電鍍層、第一電鍍層上的第一陽極氧化層、第一陽極氧化層上的第二電鍍層和第二電鍍層上的第二陽極氧化層。
[0012]在有些實施例中，一種方法可以包括提供非裝飾性結構，電鍍該非裝飾性結構以在該非裝飾性結構上形成第一電鍍層，陽極氧化第一電鍍層以在第一電鍍層上形成第一陽極氧化層，處理陽極氧化電鍍結構以除去該陽極氧化電鍍結構的一部分，電鍍處理後的陽極氧化電鍍結構以形成第二電鍍層，以及陽極氧化第二電鍍層以在第二電鍍層上形成第二陽極氧化層。
[0013]在有些實施例中，一種方法可以包括提供非裝飾性結構，處理該非裝飾性結構的一部分並且電鍍該非裝飾性結構以在該非裝飾性結構的未經處理的部分上形成電鍍層。所述處理可以包括掩蔽和層壓所述部分中的至少一個。在電鍍之後，該方法可以包括表面拋光電鍍層。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014]當聯繫附圖考慮以下具體描述時，本發明的以上及其它方面與優點將變得更加顯然，附圖中相同的標號貫穿所有附圖指示相同的部分，其中:
[0015]圖1示出了根據本發明一種實施例的、可以承受裝飾性拋光(cosmetic finish)的說明性非裝飾性結構；
[0016]圖2示出了根據本發明 一種實施例的、這種裝飾性結構的說明性橫截面視圖；
[0017]圖3示出了根據本發明一種實施例的、用於製造具有陽極氧化電鍍鋁表面的裝飾性結構的說明性過程；
[0018]圖4示出了根據本發明一種實施例的、具有鍍在鋁結構上的鋁的裝飾性結構的說明性橫截面視圖；
[0019]圖5示出了根據本發明一種實施例的、用於製造在鋁結構上具有陽極氧化電鍍鋁表面的裝飾性結構的說明性過程；
[0020]圖6示出了根據本發明一種實施例的、裝飾性結構的電鍍層和陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖；
[0021]圖6A示出了根據本發明一種實施例的、具有特定顆粒結構的裝飾性結構的電鍍層和陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖；
[0022]圖6B示出了根據本發明一種實施例的、具有特定顆粒結構的裝飾性結構的電鍍層和陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖；
[0023]圖6C示出了根據本發明一種實施例的、具有特定顆粒結構的裝飾性結構的電鍍層和陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖；
[0024]圖6D示出了根據本發明一種實施例的、具有特定顆粒結構的裝飾性結構的電鍍層和陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖；
[0025]圖7示出了根據本發明一種實施例的選擇性電鍍裝飾性結構的說明性橫截面視圖；
[0026]圖8示出了根據本發明一種實施例的、用於通過選擇性電鍍來製造裝飾性結構的說明性過程；
[0027]圖9示出了根據本發明一種實施例的、包括多個基板(substrate)的裝飾性結構的說明性橫截面視圖；[0028]圖10示出了根據本發明一種實施例的、用於製造包括多個基板的裝飾性結構的說明性過程；
[0029]圖11示出了根據本發明一種實施例的、雙陽極氧化裝飾性結構的說明性橫截面視圖；
[0030]圖12示出了根據本發明一種實施例的、用於通過雙陽極氧化來製造裝飾性結構的說明性過程 '及
[0031]圖13示出了根據本發明一種實施例的、用於製造具有電鍍鋁層的裝飾性結構的說明性過程，該電鍍鋁層具有最小化的厚度 '及
[0032]圖14是根據本發明一種實施例的說明性電子設備的示意圖。【具體實施方式】
[0033]根據本發明實施例的裝飾性結構是通過電鍍非裝飾性結構並且隨後陽極氧化該電鍍結構來提供的。例如，這可以產生擁有期望的結構與裝飾屬性並且適合用作電子設備的外罩或支撐構件的裝飾性結構。
[0034]圖1示出了根據本發明一種實施例的、可以承受裝飾性拋光的說明性非裝飾性結構100。結構100可以具有任何合適的尺寸與形狀。例如，結構100可以具有彎曲表面、平面表面、邊緣、切口、凹口、腔體、通孔、帶螺紋的孔或腔體，或者其任意組合。如圖1中所圖示的，結構100可以具有彎曲和平面表面的組合及一個或多個通孔。
[0035]在有些實施例中，結構100可以用作電子設備的一部分，其中的電子設備諸如，例如可攜式媒體播放器、智慧型電話、膝上型電腦或者平板電腦。結構100可以為電子設備提供結構性支撐而且還可以是用戶可以看到的。結構性支撐可以以蓋子的形式，諸如背板，或者以框架的形式(例如，膝上型電腦主體的外殼)提供。因為結構100的部分可以是用戶可以看到的，所以，可以施加根據本發明實施例的裝飾性拋光。
[0036]結構100可以由任何合適的材料構造。例如，結構100可以由鋼或者鋼合金、鎂、鋁或者鋁合金或鈦構造。但是，這些金屬中的每一種在其原始且未處理過的狀態都不提供持久性與期望的裝飾性外觀的結合。例如，鋼可以被磨光以呈現有光澤的像鏡面的拋光，但是容易被刮傷，這會使拋光不鮮亮，而且很容易保留由於指紋而留下的油。鎂和鋁都呈現不期望的裝飾性外觀-即，它們都有不鮮亮的拋光。
[0037]作為另一個例子，結構100可以由聚合物、嵌入玻璃的塑料或者諸如陶瓷、尼龍、碳纖維或者上述兩種或更多種材料的任意組合的材料來構造。作為還有另一個例子，結構100可以構造成既包括金屬(例如，鋼、鎂或者鋁)又包括塑料材料。塑料材料可以提供適於RF信號通過的「窗口」。另外，結構100可以包括組裝件或者單個零件。
[0038]諸如結構100的非裝飾性結構可以接受根據本發明實施例的裝飾性拋光過程來提供裝飾性結構。圖2示出了這種裝飾性結構的說明性橫截面視圖。如所示出的，裝飾性結構200可以包括非裝飾性結構210、資格層220、電鍍鋁層230和鋁陽極氧化層240。每一層的厚度是說明性的而且應當理解每一層的厚度可以變化。此外，結構210的厚度也可以變化。
[0039]非裝飾性結構210可以包括任何合適的結構，諸如以上聯繫圖1的結構100所描述的那種。如果非裝飾性結構210包括邊緣、通孔、腔體、帶螺紋的孔或者任何其它特徵或者其組合，則層220、230和240中的每一層都可以在每個那些特徵上存在。這可以確保非裝飾性結構210的每個特徵都具有提供美觀與功能屬性的期望的裝飾性拋光。
[0040]資格層220可以包括使非裝飾性結構210準備好用於鋁電鍍過程的一種或多種材料。例如，資格層220可以包括鎳層。作為另一個例子，資格層220可以包括銅層和鎳層，其中鎳層可以沉積在銅層上。層220可以利用合適的過程，包括例如浸浴、電鍍、無電鍍(化學鍍)、濺射或物理汽相沉積(PVD)，施加到結構210。
[0041]資格層220可以充當電鍍鋁層230的接合表面，而且因此層230可以沿著層220的輪廓和布置。因為層230可以模擬層220的布置，所以期望層230沉積在非裝飾性結構210上，使得它構成預定厚度的均勻被覆。這個厚度的範圍可以在5um和20um之間，而且在有些實施例中可以是大約lOum。儘管具有均勻的厚度是期望的，但是應當理解，層220的厚度可以到處變化。例如，層220的厚度可以變化幾微米。此外，應當進一步理解，層220的厚度可以根據被覆蓋的特徵而變(例如，從IOum到20um)。例如，相對大平面表面上的層220的厚度可以比腔體或帶螺紋插入件上的層220的厚度大。
[0042]層220的被覆的均勻性可以使得不會或者基本上不會存在將暴露非裝飾性結構210的間隙或小孔。層220的均勻被覆可以確保電鍍鋁層230跨結構210持續地分布。
[0043]電鍍鋁層230是電鍍在資格層220之上的鋁層或者鋁合金層。電鍍是一種鍍工藝，其中溶液中的金屬離子被電場移動以覆蓋電極。溶液可以包括可以從其中減少鋁鹽的甲苯或者離子液體的電解浴液。電極可以是結構210和層220的組合。這種工藝可以通過控制多個參數來調節，所述參數包括電壓、安培數、溫度、停留時間和溶液的純度。應當認識到，電鍍工藝的參數可以依賴結構210的物理特性(例如，形狀)來調整。例如，在結構210的邊緣，層230可以比較厚。作為另一個例子，結構210的彎曲部分可以按補償曲線的方式來鍍招或招合金。
[0044]鋁電鍍層230可以具有任何合適的厚度。例如，層230的厚度可以介於10和120微米範圍之間、IOum和75um範圍之間、18um和25um範圍之間。在有些實施例中，該厚度可以是10微米、18微米、33微米、50微米或75微米。可能期望層230不超過最大厚度，以防止表面中的變化。還可能期望層230至少具有容許在被陽極氧化之前除去層230 —部分的處理步驟並且確保層230的結構可靠性的最小厚度。該處理步驟可以除去任何合適量的層230，以獲得期望的結果(例如，不光滑表面(matte surface)或者鏡面表面)。該處理步驟可以噴吹掉(blast away)或蝕刻掉層230的一部分，以便提供不光滑表面。應當認識到，表面拋光過程的參數可以依賴結構210的物理特性(例如，形狀)來調整。例如，從平面表面除去的層230的量可以與從銳曲線或邊緣除去的層230的量不同。此外，或者作為替代，該處理步驟可以車掉(lathe)或磨掉層230的一部分以提供鏡面拋光。
[0045]在有些實施例中，層230的IOum的最小厚度對磨光來說可能太薄了，但是對於獲得有紋理的或不光滑的拋光可能是足夠的。作為另一個例子，為了獲得鏡面拋光，可能需要層230的ISum的最小厚度。應當認識到，獲得有紋理或鏡面拋光中任意一種所需的層230的最小厚度可以依賴於結構210中所選的材料。例如，電鍍鋁層的厚度可以基於非裝飾性結構的剛度。作為另一個例子，為了防止破裂，玻璃基板可能需要比鋼基板更厚的層230。
[0046] 利用鋁而不是利用其它材料的電鍍可以為拋光後的零件提供某些益處，包括，但不限於，裝飾性外觀、期望的熱質量、結構可靠性、製造過程中的柔性和耐腐蝕性。此外，鋁的柔軟屬性可以在製造過程中被充分利用(例如，雷射打標/蝕刻和/或機加工可以對鍍鋁的零件執行)，加工硬化材料可以用鋁鍍，而且非裝飾性零件甚至可以在用鋁鍍之間首先上色。
[0047]陽極氧化鋁層240可以是其中電鍍鋁層230的表面部分被陽極氧化的層。陽極氧化可以增加鋁層230的耐腐蝕性和表面硬度(例如，防止刮傷)。此外，陽極氧化可以允許鋁層230的上色。陽極氧化鋁層240可以具有任何合適的厚度。在有些實施例中，層230可以經直流電流(DC)或者經電流脈衝(例如，脈衝陽極氧化)來陽極氧化，其中層230可以(例如，在硫酸中)浸浴，以便把層230的表面的一部分轉變成氧化鋁。在有些實施例中，氧化鋁層的厚度可以是35微米或者更小。例如，該厚度可以是大約10微米。在其它實施例中，該厚度的範圍可以在5和35微米、10和30微米及10和20微米之間。因此，層230可能需要具有大於層240的期望厚度的初始厚度，使得足夠多的電鍍鋁可用於轉變。
[0048]還應當認識到，因為陽極氧化過程可能導致渾濁的氧化鋁層，所以可以採取步驟來提高其清晰度。例如，如果採用脈衝陽極氧化，則電流脈衝可以被調整，以獲得提高的清晰度。此外，附加的處理步驟(例如,拋光和加紋理)也可以對層240應用。
[0049]圖3示出了根據本發明一種實施例的、用於製造具有陽極氧化電鍍鋁表面的裝飾性結構的說明性過程。在步驟310開始，可以提供非裝飾性結構(例如，非裝飾性結構210)。非裝飾性結構可 以是任何合適的形狀或構造而且可以由金屬、塑料或者其組合構造。對於合適的非裝飾性結構的附加細節，見以上對結構100的討論。
[0050]在步驟320，非裝飾性結構可以被處理或者準備好進行電鍍步驟。在有些實施例中，非裝飾性結構的某些零件或部分可以被掩蔽，使得被掩蔽的部分將不能進行裝飾性拋光。非裝飾性結構可以通過清潔(例如，除去雜質、油脂或任何氧化堆積)來準備。非裝飾性結構還可以通過接納資格層來準備。如果期望的話，則非裝飾性結構可以在清潔步驟之前或之後被磨光或加紋理。如以上聯繫圖2討論的，資格層可以包括鎳層或隨後被鎳層覆蓋的銅層。例如，鎳層可以具有特定的光學特性(例如，特定的亮度)。而且，如以上所討論的，資格層可以均勻地覆蓋非裝飾性結構的所有期望特徵。如果期望的話，則資格層也可以磨光、加紋理或者接受一種或多種衝洗溶劑。在有些實施例中，資格層可以進一步用任何合適的材料遮蔽。
[0051]在步驟330，處理後的非裝飾性結構可以用鋁來電鍍。在有些實施例中，電鍍步驟可以包括使用甲苯、離子液體、亞硫酸鋁/硫酸鋁和/或任何其它合適材料。在期望厚度的電鍍鋁層沉積到非裝飾性結構上之後，該過程可以前進到步驟340。在步驟340，電鍍鋁層可以被處理，以獲得期望的拋光。依賴於電鍍鋁層如何被處理，它可以顯示出例如像鏡面的拋光或者不光滑的拋光。
[0052]在有些實施例中，電鍍鋁層可以首先通過噴吹和/或蝕刻工藝(例如，雷射蝕刻)加紋理，並且隨後進行表面拋光。表面拋光可以例如涉及利用所針對的過程或者有針對性的過程的電鍍鋁層的局部處理。噴吹工藝、蝕刻(例如，雷射蝕刻)、物理遮蔽和/或任何其它合適的拋光工藝中的任何一種都可以作為表面拋光電鍍鋁層的一部分來應用。
[0053]在步驟350，處理後的電鍍鋁結構可以被陽極氧化。陽極氧化步驟可以可選地包括染料著色和封閉(sealing)中的任意一種。封閉可以包括，如果期望的話，使用任何可以允許陽極氧化層進一步被電鍍和/或陽極氧化的合適材料。在包括染料著色和封閉的實施例中，例如，後續的表面拋光也可以對陽極氧化電鍍鋁層的任何可見或不可見部分執行。陽極氧化層的這種表面拋光可以例如包括磨光、蝕刻(例如，圖形和/或工藝圖的蝕刻)、雕版、CNC打磨和/或在其中鑽微穿孔。在步驟350之後，就可以提供具有吸引人的裝飾與功能屬性的陽極氧化電鍍鋁結構，而且任何其它部件都可以附連到該裝飾性結構以形成組件的至少一部分。
[0054]步驟310、320、330、340和350中的一個或多個可以由自動化的機器在缺少氧氣的
受控環境中執行。例如，這些步驟可以在只有氮的大氣中執行。應當理解，在不背離本發明主旨的情況下，可以添加附加的步驟。例如，清潔步驟可以在步驟330完成之後添加。作為另一個例子，附加的鋁覆蓋步驟可以用於用鋁覆蓋非裝飾性結構。附加的鋁覆蓋步驟可以通過物理汽相沉積、熱噴塗或者冷噴塗來實現。這個覆蓋步驟可以在電鍍步驟之前或之後應用。[0055]在有些實施例中，鋁或鋁合金基板或結構可以用鋁或鋁合金電鍍。圖4示出了根據本發明一種實施例的、具有鍍在鋁結構上的鋁的裝飾性結構的說明性橫截面視圖。類似於圖2的裝飾性結構200，裝飾性結構400可以包括非裝飾性鋁結構410、電鍍鋁層420和陽極氧化層430。但是，裝飾性結構400可以缺少資格層(例如，圖2的層220)。在有些實施例中，為了克服在實現在鋁基板上鍍鋁的過程中的潛在困難，鋁基板中存在的氧化物層可以在用鋁鍍鋁結構之前首先被除去(例如，優選地是在缺少氧氣的密封環境中)。通過把現有的氧化物層除去，鋁可以隨後更容易地電鍍到鋁結構上。這會導致降低的製造成本(例如，不再需要資格層)而且會維持拋光的裝飾性結構的結構完整性(例如，可以避免資格層的任何腐蝕)。
[0056]圖5示出了用於製造在鋁結構上具有陽極氧化電鍍鋁表面的裝飾性結構的說明性過程。過程500可以在步驟502開始。在步驟504，可以提供非裝飾性鋁結構(例如，結構410)。
[0057]在步驟506，非裝飾性鋁結構上現有的氧化物層(未示出)可以被除去。例如，為了除去可能存在的任何氧化物層，任何合適的化學工藝都可以對非裝飾性鋁結構的表面應用。在步驟508，在氧化物層從非裝飾性鋁結構除去之後，非裝飾性鋁結構可以用鋁來電鍍。如以上聯繫圖2所討論的，應當認識到，電鍍過程的任何參數(例如，電壓、電流、溫度和停留時間)可以被控制，以便產生電鍍鋁層的期望的厚度與質量。在有些實施例中，拋光過程可以在步驟508之後立即執行，以便對電鍍鋁層(例如，層420)獲得期望的拋光。例如，依賴於電鍍鋁層如何被處理，它可以呈現像鏡面的拋光或者不光滑拋光。
[0058]儘管沒有示出，但是在步驟508之後，電鍍鋁結構可以被陽極氧化。在有些實施例中，染料著色過程可以在陽極氧化過程中執行，以便獲得著色效果。在陽極氧化之後，就可以提供在鋁結構上具有陽極氧化電鍍鋁表面的裝飾性結構。
[0059]在有些實施例中，電鍍層(例如，層420)的硬度可以被控制。例如，非裝飾性結構的電鍍可以包括把非裝飾性結構浸入到具有特定顆粒結構(或尺寸)的鋁或鋁合金溶液的第一浴液中，並且隨後浸入到具有不同顆粒結構(或尺寸)的鋁或鋁合金溶液的第二浴液中。作為另一個例子，非裝飾性結構可以浸入具有混合顆粒結構(或者混合顆粒尺寸)的鋁或鋁合金溶液的浴液中。特別地，混合的顆粒結構(或尺寸)可以通過混合具有特定顆粒結構(或尺寸)的第一鋁或鋁合金溶液與具有不同顆粒結構(或尺寸)的第二溶液(例如，鋁或任何其它合適類型元素的溶液)來產生。以這種方式，電鍍層表面的一個或多個屬性可以被(例如，化學地)修改，來提供期望的結構完整性。在有些實施例中，要電鍍的鋁或鋁合金溶液可以用一種或多種摻雜劑來修改，以便產生顆粒的硬度性能(hardness quality)。應當認識到，任何合適類型的材料都可以用於摻雜鋁或鋁合金溶液，只要結果產生的電鍍層呈現期望的硬度性能就可以。在有些實施例中，99.99%純度的鋁可以用於電鍍，這可以允許對顆粒結構的厚度的更好控制。例如，各種鋁和摻雜劑浴液可以按任何合適的方式混合併且在電鍍中使用，以便控制結果產生的電鍍層的顆粒結構的厚度。圖6示出了根據本發明一種實施例的裝飾性結構的電鍍層和陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖。層610可以包括表面620，該表面可以包括至少部分地定義層610的結構特性的顆粒模式630。
[0060]圖6A示出了根據本發明一種實施例的、具有特定顆粒結構的裝飾性結構的電鍍層與陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖。裝飾性結構600a的表面620a可以包括具有相對大或粗糙顆粒結構的顆粒模式630a。圖6B示出了根據本發明一種實施例的、具有特定顆粒結構的裝飾性結構的電鍍層與陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖。與顆粒模式630a形成對比，裝飾性結構600b的表面620b可以包括具有相對小或精細顆粒結構的顆粒模式630b。
[0061]在有些實施例中，電鍍層和/或陽極氧化層可以被控制，以便包括每個都具有相對不同的顆粒結構的分層顆粒模式。圖6C示出了根據本發明一種實施例的、具有特定顆粒結構的裝飾性結構的電鍍層與陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖。裝飾性結構600c的表面620c可以包括具有相對大或粗糙顆粒結構的下部顆粒模式630c和具有相對小或精細顆粒結構的上部顆粒模式632c。圖6D示出了根據本發明一種實施例的、具有特定顆粒結構的裝飾性結構 的電鍍層與陽極氧化層中至少一個的表面的說明性橫截面視圖。與層610c形成對比，裝飾性結構600d的表面620d可以包括具有相對小或精細顆粒結構的下部顆粒模式630d和具有相對大或粗糙顆粒結構的上部顆粒模式632d。
[0062]在有些實施例中，非裝飾性結構可以選擇性地進行電鍍以提供選擇性地被鍍的裝飾性結構。這可以在非裝飾性結構的選定部分上產生期望的裝飾性外觀。圖7示出了根據本發明一種實施例的選擇性電鍍的裝飾性結構的說明性橫截面視圖。裝飾性結構700可以包括非裝飾性結構710、未鍍部分720、電鍍部分730及電鍍層740。儘管沒有示出，但是在有些實施例中，裝飾性結構700還可以包括類似於裝飾性結構200的層220的資格層。此外，應當認識到，裝飾性結構700可以進一步包括陽極氧化層(例如，類似於圖2的層240)。
[0063]圖8示出了根據本發明一種實施例的、通過選擇性電鍍來製造裝飾性結構的說明性過程。過程800可以在步驟802開始。在步驟804，可以提供非裝飾性結構(例如，結構710)。在步驟806，非裝飾性結構未被電鍍的部分(即，未鍍部分720)可以被遮蔽或層壓。應當認識到，非裝飾性結構的遮蔽或層壓可以利用任何合適類型的材料獲得。在步驟808，遮蔽或層壓的非裝飾性結構可以進行電鍍(例如，用鋁或者任何合適類型的材料)。通過讓非裝飾性結構的有些部分被遮蔽或層壓，只有該結構未被覆蓋的部分(例如，電鍍部分730)可以在步驟808進行電鍍。儘管沒有示出，但是遮蔽或層壓的材料可以在未被覆蓋部分的電鍍完成之後的任何時間除去。
[0064]在有些實施例中，非裝飾性結構可以包括兩種或更多種類型的材料，其中對每種類型的材料可能期望不同的拋光。圖9示出了根據本發明一種實施例的、包括多個基板的裝飾性結構的說明性橫截面視圖。裝飾性結構900可以包括可以由一種材料類型(例如，鋁)的結構性部分920和另一種材料類型(例如，陶瓷)的結構性部分930構造的非裝飾性結構910，及電鍍層940。電鍍層940可以包括重疊在結構性部分920上的第一拋光部分950和重疊在結構性部分930上的第一拋光部分960。儘管沒有示出，但是在有些實施例中，裝飾性結構900還可以包括類似於裝飾性結構200的層220的資格層。
[0065]圖10示出了根據本發明一種實施例的、用於製造包括多個基板的裝飾性結構的說明性過程。過程1000可以在步驟1002開始。在步驟1004，可以提供非裝飾性結構(例如，非裝飾性結構910)。非裝飾性結構可以包括一種材料類型的一個或多個結構性部分(例如，結構性部分920)和另一種材料類型的一個或多個結構性部分(例如，結構性部分930)。
[0066]在步驟1006，非裝飾性結構可以被電鍍以形成電鍍層。依賴於直接位於電鍍層下面的非裝飾性結構的屬性，電鍍層的一部分可以具有與該電鍍層的另一部分不同的屬性。在有些實施例中，在步驟1006之後，電鍍層可以進行表面拋光。由於非裝飾性結構的不同部分的不同材料屬性，沉積在一種材料類型的一個或多個結構性部分(例如，結構性部分920)上的電鍍層的一個或多個部分(例如，第一拋光部分950)的特性可以與沉積在另一種材料類型的一個或多個結構性部分(例如，結構性部分930)上的電鍍層的一個或多個部分(例如，第二拋光部分960)的特性不同。例如，如果非裝飾性結構包括一個或多個鋁部分和一個或多個陶瓷部分，則表面拋光電鍍層可能導致沉積在鋁部分上的電鍍層的一部分呈現不光滑拋光，而沉積在陶瓷部分上的電鍍層的一部分呈現光潔拋光(clear finish)。
[0067]在有些實施例中，非裝飾性結構可以被鍍和陽極氧化多於一次(例如兩次)，以提供可以包括期望的表面紋理和/或顏色的圖案的拋光裝飾性結構。例如，非裝飾性結構可以被電鍍(例如，用鋁)以形成第一電鍍層。然後，該第一電鍍層可以被陽極氧化以在第一電鍍層上形成第一陽極氧 化層，而且第一電鍍層的一部分和第一陽極氧化層的一部分每個都可以被除去。因此，在第一電鍍層和第一陽極氧化層的剩餘部分之間可以產生凹口，而且第二電鍍層可以在該凹口中形成。然後，第二陽極氧化層可以在第二電鍍層上形成，從而導致雙陽極氧化裝飾性結構。這種雙陽極氧化過程可以消除在製造過程中遮蔽非裝飾性結構的部分的任何需求。圖11示出了根據本發明一種實施例的雙陽極氧化裝飾性結構的說明性橫截面視圖。裝飾性結構1100可以包括非裝飾性結構1110、(例如，鋁的)第一電鍍層部分1120、第一陽極氧化層部分1130、第二電鍍層部分1150和第二陽極氧化層部分1160。儘管沒有示出，但是在有些實施例中，裝飾性結構1100還可以包括類似於裝飾性結構200的層220的一個或多個資格層。儘管裝飾性結構1100示為具有電鍍與陽極氧化層的特定模式，但是應當認識到，這些層中每一層的任何合適的設計或模式都可以利用雙陽極氧化獲得。
[0068]圖12示出了根據本發明一種實施例的、用於通過雙陽極氧化製造裝飾性結構的說明性過程。過程1200可以在步驟1202開始。在步驟1204，可以提供非裝飾性結構(例如，非裝飾性結構1110)。
[0069]在步驟1206，非裝飾性結構可以被電鍍(例如，用鋁)以形成電鍍層(例如，包括第一電鍍層部分1120和未示出的一個或多個其它第一電鍍層部分)。在有些實施例中，拋光過程可以在步驟1206之後立即執行，以便獲得電鍍層的期望拋光。例如，依賴於電鍍鋁層如何被處理，它可以呈現像鏡面的拋光或者不光滑拋光。
[0070]在步驟1208，電鍍結構可以被陽極氧化以形成陽極氧化層(例如，第一陽極氧化層部分1130和未示出的一個或多個其它第一陽極氧化層部分)。在有些實施例中，染料著色過程可以在陽極氧化步驟1208中執行，以便獲得著色效果。
[0071]在步驟1210，陽極氧化的電鍍結構可以被處理，以便除去陽極氧化電鍍結構的一部分。因此，陽極氧化電鍍結構剩下的部分可以充當遮蔽以在裝飾性結構製造的其它步驟中使用。修改可以包括例如切去(例如，經雷射蝕刻)第一陽極氧化層的一個或多個部分(例如，除第一陽極氧化層部分1130之外的第一陽極氧化層部分(未示出))和電鍍層(例如，除第一電鍍層部分1120之外的第一電鍍層部分(未示出))，以便產生一個或多個凹口(未示出，但是可以至少部分地被第二電鍍層部分1150和第二陽極氧化層部分1160佔用)。
[0072]在步驟1212，修改後的陽極氧化電鍍結構可以進一步電鍍以形成一個或多個第二電鍍層(例如，電鍍層部分1150)。這第二電鍍層可以被處理，以獲得期望的拋光。在步驟1214，第二陽極氧化過程可以對第二電鍍結構執行。陽極氧化步驟1214可以可選地包括染料著色。在步驟1214之後，就可以提供具有吸引人的裝飾與功能屬性的雙陽極氧化電鍍結構了。[0073]在有些實施例中，在第一陽極氧化步驟1206中執行的染料著色過程可以採用與在第二陽極氧化步驟1212中執行的染料著色過程所採用的不同的染料顏色。應當認識到，步驟1210可以在步驟1206之後的任何時候(例如，在表面拋光電鍍層之前)執行。另外，第一電鍍層可以由與形成第二電鍍層的材料不同的材料形成。例如，第一電鍍層可以由鋁形成，而第二電鍍層可以由鎳形成。
[0074]圖13示出了根據本發明一種實施例的、用於製造帶有具有最小厚度的電鍍鋁層的裝飾性結構的說明性過程。過程1300可以在步驟1302開始。在步驟1304，可以提供非裝飾性結構(例如，非裝飾性結構210)。
[0075]在步驟1306，非裝飾性結構可以用鋁來電鍍。如以上聯繫圖2所討論的，可能期望電鍍鋁層具有容許在其被陽極氧化之前除去電鍍鋁層的一部分的處理步驟並且確保結構可靠性的最小厚度。因而，步驟1306的電鍍可以包括電鍍非裝飾性結構以使得電鍍鋁層具有最小厚度。如以上聯繫圖2所討論的，應當認識到，獲得有紋理拋光或鏡面拋光中任何一種所需的電鍍鋁層的最小厚度可以依賴於非裝飾性結構的材料類型。例如，電鍍鋁層的厚度可以基於非裝飾性結構的剛度。作為另一個例子，玻璃基板可能需要比鋼基板更厚的層230，以防破裂。
[0076]在步驟1308，電鍍鋁層可以進行表面拋光。例如，電鍍鋁層IOum的最小厚度對於拋光來說太薄了，但是可能是獲得有紋理拋光所需要的。作為另一個例子，層230的ISum的最小厚度可能是獲得鏡面拋光所需要的。在步驟1310，表面拋光後的電鍍鋁層可以被陽極氧化。在有些實施例中，染料著色過程可以在陽極氧化步驟1310期間執行，以便獲得著色效果。
[0077]儘管沒有示出，但是在有些實施例中，電鍍鋁層可以在分離的各層中沉積到非裝飾性結構上。例如，為了控制電鍍鋁層的厚度，可以單獨地沉積粗電鍍鋁層和細電鍍鋁層。粗電鍍鋁層可以首先施加到非裝飾性結構上以充當基礎鋁層，而細電鍍鋁層可以隨後施加到粗的層上。在有些實施例中，細的層，而不是粗的層，可以首先施加到非裝飾性結構上。
[0078]圖14是用於向用戶顯示可見信息的說明性電子設備1400的示意圖。電子設備1400可以是配置成在用戶行進的任何地方都在顯示組件上呈現可見信息的任何可攜式、移動或手持式電子設備。作為替代，電子設備1400可能完全不是可攜式的，代替地是可以總體上是固定的。電子設備1400可以包括，但不限於，音樂播放器、視頻播放器、靜止圖像播放器、遊戲機、其它媒體播放器、音樂錄音機、電影或視頻照相機或錄像機、靜物照相機、其它媒體記錄器、收音機、醫療設備、家用電器、交通工具儀表、樂器、計算器、蜂窩電話、其它無線通信設備、個人數字助理、遙控器、傳呼機、計算機(例如，桌上型電腦、膝上型電腦、平板電腦、伺服器等)、監視器、電視機、音響設備、機上盒(set up box)、機頂盒、迷你組合音響(boom box)、數據機、路由器、鍵盤、滑鼠、揚聲器、印表機及其組合。在有些實施例中，電子設備1400可以執行單個功能(例如，專用於顯示圖像內容的設備)，而在其它實施例中，電子設備1400可以執行多個功能(例如，顯示圖像內容、播放音樂並且接收和發送電話呼叫的設備)。
[0079]電子設備1400可以包括外罩1401、處理器或控制電路系統1402、存儲器1404、通信電路1406、電源1408、輸入部件1410和顯示組件1412。電子設備1400還可以包括總線1403，該總線1403可以提供用於向設備1400的各種其它部件、從設備1400的各種其它部件或者在其間提供傳輸數據和/或電力的數據傳輸路徑。在有些實施例中，電子設備1400的一個或多個部件可以組合或忽略。而且，電子設備1400可以包括在圖14中未組合或包括的其它部件。為了簡化，每種部件在圖14中只示出了一個。
[0080]存儲器1404可以包括一種或多種存儲介質，包括例如硬驅、快閃記憶體存儲器、諸如只讀存儲器(「ROM」)的永久性存儲器、諸如隨機存取存儲器(「RAM」)的半永久性存儲器、任何其它合適類型的存儲部件，或者其任意組合。存儲器1404可以包括高速緩存存儲器，這可以是用於臨時存儲用於電子設備應用的數據的一種或多種不同類型的存儲器。存儲器1404可以存儲媒體數據(例如，音樂、圖像和視頻文件)、軟體(例如，用於在設備1400上實現功能)、固件、偏好息 (例如，媒體重放偏好)、生活方式信息(例如，食物偏好)、鍛鍊信息(例如，通過鍛鍊監視裝備獲得的信息)、交易信息(例如，像信用卡信息之類的信息)、無線連接信息(例如，可以使設備1400能夠建立無線連接的信息)、訂閱信息(例如，對用戶訂閱的播客或電視節目或其它媒體保持跟蹤的信息)、聯繫人信息(例如，電話號碼和電子郵件地址)、日曆信息、任何其它合適的數據或者其任意組合。
[0081]可以提供通信電路1406，以便允許設備1400利用任何合適的通信協議與一個或多個其它電子設備或伺服器通信。例如，通信電路1406可以支持W1-Fi? (例如，802.11協議)、乙太網、Bluetooth?、高頻系統(例如，900MHz、2.4GHz和5.6GHz通信系統)、紅外線、傳輸控制協議/網際網路協議(「TCP/IP」)(例如，在TCP/IP層的每一層中所使用的任何協議)、超文本傳輸協議(「HTTP」)、BitTorrent?、文件傳輸協議(「FTP」)、實時傳輸協議(「RTP」)、實時流化協議(「RTSP」)、安全殼協議(「SSH」)、任何其它通信協議或者其任意組合。通信電路1406還可以包括可以使設備1400能夠電耦合到另一個設備(例如，計算機或輔助設備)並且無線地或者經有線連接與那另一個設備通信的電路。
[0082]電源1408可以向設備1400的一個或多個部件提供電力。在有些實施例中，電源1408可以耦合到電網(例如，當設備1400不是可攜式設備時，諸如桌上型電腦)。在有些實施例中，電源1408可以包括用於供電的一個或多個電池(例如，當設備1400是可攜式設備時，諸如蜂窩電話)。作為另一個例子，電源1408可以配置成從自然來源生成電力(例如，利用一個或多個太陽能電池的太陽能)。[0083]可以提供一個或多個輸入部件1410，以便允許用戶與設備1400交互或接口。例如，輸入部件1410可以採取多種形式，包括但不限於，跟蹤板、撥號盤、點擊輪、滾輪、觸控螢幕、一個或多個按鈕(例如，鍵盤)、滑鼠、操縱杆、軌跡球及其組合。例如，輸入部件1410可以包括多觸控螢幕。每個輸入部件1410可以配置成提供一個或多個專用控制功能，用於進行與操作設備1400關聯的選擇或發送與其關聯的命令。
[0084]電子設備1400還可以包括一個或多個可以向設備1400的用戶呈現信息(例如，文本、圖形、可聽和/或觸覺信息)的輸出部件。電子設備1400的輸出部件可以採取各種形式，包括但不限於，音頻揚聲器、頭戴式耳機、音頻線路輸出、可見顯示器、天線、紅外線埠、低音器Crumbier)、振動器或者其組合。
[0085]例如，電子設備1400可以包括作為輸出部件的顯示組件1412。顯示器1412可以包括用於向設備1400的用戶呈現可見信息的任何合適類型的顯示器或接口。在有些實施例中，顯示器1412可以包括嵌在設備1400中或者耦合到設備1400的顯示器(例如，可拆卸顯示器)。顯示器1412可以包括，例如，液晶顯示器(「IXD」)、發光二極體(「LED」)顯示器、有機發光二極體(「0LED」)顯示器、表面傳導電子發射器顯示器(「SED」)、碳納米管顯示器、納米晶體顯示器、任何其它合適類型的顯示器或者其組合。作為替代，顯示器1412可以包括可移動的顯示器或者投影系統，用於在遠離電子設備1400的表面上提供內容的顯示，諸如，例如，視頻投影儀、平視顯示器，或者三維(例如，全息)顯示器。作為另一個例子，顯示器1412可以包括數字或機械取景器。在有些實施例中，顯示器1412可以包括在小型數位相機、反射式照相機或者任何其它合適的靜態或攝像機中可以找到的類型的取景器。[0086]應當指出，一個或多個輸入部件和一個或多個輸出部件有時候可以統稱為I/O接口(例如，輸入部件1410和顯示器1412統稱為I/O接口 1411)。還應當指出，輸入部件1410和顯示器1412有時候可以是單個I/O部件，諸如可以通過用戶觸摸顯示屏幕接收輸入信息而且還可以經相同的顯示屏幕向用戶提供可見信息的觸控螢幕。
[0087]設備1400的處理器1402可以控制由設備1400提供的許多功能與其它電路的操作。例如，處理器1402可以從輸入部件1410接收輸入信號和/或把輸出信號驅動到顯不組件1412。處理器1412可以加載用戶接口程序(例如，存儲在存儲器1404或另一設備或伺服器中的程序)，以便確定經輸入部件1410接收到的指令或數據如何可以操縱信息經輸出部件(例如，顯示器1412)提供給用戶的方式。例如，處理器1402可以控制通過顯示器1412呈現給用戶的可見信息的視角或者可以按別的方式指示顯示器1412改變視角。
[0088]電子設備1400還可以具有外罩1401，該外罩1401可以至少部分地封住設備1400的一個或多個部件來保護它們不受設備1400外部的碎屑(debris)和其它退化力(degrading force)影響。在有些實施例中，這一個或多個部件可以具有其自己的外罩(例如，輸入部件1410可以是在其自己的外罩中、無線地或者通過電線與處理器1402通信的獨立鍵盤或滑鼠，其中處理器1402可以具有其自己的外罩)。根據本發明的實施例，外罩1401的全部或者一部分可以例如拋光成具有陽極氧化的電鍍鋁拋光。
[0089]以上所述本發明的實施例是為了說明而不是為了限制給出的。
【權利要求】
1.一種裝飾性結構，包括: 具有表面的非裝飾性結構； 位於所述表面上的資格層； 位於所述資格層上的電鍍鋁層，所述電鍍鋁層具有範圍在15微米和120微米之間的初始施加厚度 '及 與所述電鍍鋁層一體化形成的鋁陽極氧化層。
2.如權利要求1所述的裝飾性結構，其中所述非裝飾性結構是由金屬構造的。
3.如權利要求2所述的裝飾性結構，其中所述金屬是鋼、鎂、鋁、鋼合金、鎂合金或者其任意組合。
4.如權利要求1所述的裝飾性結構，其中所述初始施加厚度範圍在10微米和75微米之間。
5.如權利要求4所述的裝飾性結構，其中所述初始施加厚度範圍在18微米和25微米之間。
6.如權利要求1 所述的裝飾性結構，其中所述電鍍鋁層呈現鏡面拋光。
7.如權利要求6所述的裝飾性結構，其中所述初始施加厚度是至少18微米。
8.如權利要求1所述的裝飾性結構，其中所述電鍍鋁層呈現不光滑的或有紋理的拋光。
9.如權利要求8所述的裝飾性結構，其中所述初始施加厚度是至少10微米。
10.如權利要求1所述的裝飾性結構，其中所述鋁陽極氧化層是多種不同顏色之一。
11.如權利要求1所述的裝飾性結構，其中所述非裝飾性結構包括金屬與塑料。
12.如權利要求1所述的裝飾性結構，其中所述資格層包括鎳層、無電鍍鎳層或者結合銅與鎳的層。
13.如權利要求1所述的裝飾性結構，其中所述資格層具有範圍在5微米和20微米之間的厚度。
14.如權利要求1所述的裝飾性結構，其中所述資格層具有大約10微米的厚度。
15.一種用於製造裝飾性結構的方法，包括: 提供非裝飾性結構； 使所述非裝飾性結構準備好進行電鍍過程； 用鋁電鍍準備好的非裝飾性結構以提供電鍍鋁結構，所述電鍍鋁層具有範圍在15微米和120微米之間的初始施加厚度； 處理所述電鍍鋁結構以獲得預定拋光，其中所述電鍍鋁的一部分被除去以提供所述預定拋光；及 陽極氧化處理後的具有所述預定拋光的電鍍鋁結構以提供所述裝飾性結構。
16.如權利要求15所述的方法，其中使所述非裝飾性結構準備好進行電鍍過程包括: 清潔所述非裝飾性結構。
17.如權利要求15所述的方法，其中使所述非裝飾性結構準備進行電鍍過程包括: 對所述非裝飾性結構施加資格層。
18.如權利要求15所述的方法，其中所述初始施加厚度範圍在10微米和75微米之間。
19.如權利要求15所述的方法，其中所述初始施加厚度範圍在18微米和25微米之間。
20.如權利要求15所述的方法，其中處理所述電鍍鋁結構以獲得預定拋光包括: 噴吹或蝕刻所述電鍍鋁結構。
21.如權利要求15所述的方法，其中處理所述電鍍鋁結構以獲得預定拋光包括: 磨光所述電鍍鋁結構。
22.如權利要求15所述的方法，其中陽極氧化電鍍鋁結構包括: 把所述電鍍鋁結構的一部分轉變成鋁陽極氧化層。
23.—種電子設備,包括: 顯示器； 用戶接口 ；及 用於固定所述顯示器和用戶接口的外罩，其中所述外罩包括具有陽極氧化電鍍鋁裝飾性拋光的金屬。
24.如權利要求23所述的電子設備，其中所述金屬是鋼、鎂、鈦或者鋁。
25.如權利要求23所述的電子設備，其中所述外罩包括鏡面拋光。
26.如權利要求23所述的電子設備，其中所述外罩包括不光滑的拋光。
27.一種裝飾性結構，包括: 非裝飾性結構； 位於所述非裝飾性結構上的電鍍鋁層，所述電鍍鋁層包括第一和第二摻雜劑，所述第一和第二摻雜劑中的每一個都具有不同的顆粒結構；及與所述電鍍鋁層一體化形成的鋁陽極氧化層。
28.如權利要求27所述的裝飾性結構，其中所述第一摻雜劑具有比所述第二摻雜劑更大的顆粒結構。
29.如權利要求28所述的裝飾性結構，其中所述第一摻雜劑直接沉積到所述非裝飾性結構的表面上，而所述第二摻雜劑沉積到所述第一摻雜劑上。
30.如權利要求28所述的裝飾性結構，其中所述第二摻雜劑直接沉積到所述非裝飾性結構的表面上，而所述第一摻雜劑沉積到所述第二摻雜劑上。
31.如權利要求28所述的裝飾性結構，其中所述第一摻雜劑直接沉積到所述非裝飾性結構的表面上，而所述第二摻雜劑沉積到所述第一摻雜劑上。
32.如權利要求28所述的裝飾性結構，其中所述第一和第二摻雜劑共同直接沉積到所述非裝飾性結構的表面上。
33.如權利要求27所述的裝飾性結構，其中所述第一和第二摻雜劑控制所述鋁陽極氧化層的硬度特性。
34.一種物品，包括: 招結構； 所述鋁結構上的電鍍鋁層，其中所述鋁結構的氧化物層被除去。
35.一種方法,包括: 提供招結構；及 在密封的環境中: 從所述鋁結構除去氧化物層；及 在所述除去之後，電鍍所述鋁結構以在所述鋁結構上形成電鍍鋁層。
36.如權利要求35所述的方法，進一步包括: 陽極氧化所述電鍍鋁層。
37.一種物品，包括: 非裝飾性結構，包括: 第一材料類型的第一部分；及 第二材料類型的第二部分； 位於所述第一部分上的第一電鍍層；及 位於所述第二部分上的第二電鍍層。
38.如權利要求37所述的物品，其中所述第二部分與所述第一部分相鄰。
39.如權利要求37所述的物品，其中: 所述第一電鍍層呈現第一種拋光；及 所述第二電鍍層呈現與所述第一種拋光不同的第二種拋光。
40.如權利要求39所述的物品，其中所述第一材料類型包括鋁，並且其中所述第一種拋光包括不光滑的拋光。
41.如權利要求39所述的物品，其中所述第二材料類型包括陶瓷，並且其中所述第二種拋光包括光潔拋光。
42.一種方法，包括: 提供非裝飾性結構，所述非裝飾性結構包括: 第一材料類型的第一部分；及 第二材料類型的第二部分；及 電鍍所述非裝飾性結構以在所述第一部分上形成第一電鍍層並且在所述第二部分上形成第二電鍍層。
43.如權利要求42所述的方法，進一步包括: 表面拋光所述第一電鍍層。
44.如權利要求42所述的方法，進一步包括: 表面拋光所述第二電鍍層。
45.一種物品，包括: 非裝飾性結構； 所述非裝飾性結構上的第一電鍍層； 所述第一電鍍層上的第一陽極氧化層； 所述第一陽極氧化層上的第二電鍍層；及 所述第二電鍍層上的第二陽極氧化層。
46.一種方法,包括: 提供非裝飾性結構； 電鍍所述非裝飾性結構以在所述非裝飾性結構上形成第一電鍍層； 陽極氧化所述第一電鍍 層以在所述第一電鍍層上形成第一陽極氧化層； 處理所述陽極氧化後的電鍍結構以除去所述陽極氧化電鍍結構的一部分； 電鍍處理後的陽極氧化電鍍結構以形成第二電鍍層；及 陽極氧化所述第二電鍍層以在所述第二電鍍層上形成第二陽極氧化層。
47.如權利要求 46所述的方法，其中所述處理包括切割操作。
【文檔編號】C25D7/00GK103930600SQ201280018531
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2012年3月7日 優先權日:2011年3月7日
【發明者】K·西爾弗曼, R·莫勒, P·拉塞爾-克拉克, C·普雷斯特, R·巴蒂亞, P·霍尼雷, L·賴恩德裡斯, 建部正成 申請人:蘋果公司