振動上料裝置和振動上料裝置中的姿態校正方法與流程
2023-12-09 17:00:31

本發明總體而言涉及振動上料領域,具體而言,涉及一種可以在上料過程中校正磁材工件姿態的振動上料裝置。
背景技術:
目前,磁材工件在振動上料時,一般採用重力分選或者吹氣分選方式將姿態不正確的工件篩落,導致振動上料中的工件並不連續甚至上料通道上工件密度很低,從而直接降低了上料的效率。另外,磁材工件在振動上料後,其姿態可能不能仍滿足後續工序的需要,一般需要人工手動幹預,降低了工作效率和準確性,從而降低了整個工藝過程的自動化程度。因此,如何在振動上料的過程中實現「非篩落式」主動校正工件姿態提高上料效率,如何使得磁材工件按照預設要求的姿態進行上料,是業界急需解決的問題。
技術實現要素:
本發明的一個主要目的在於克服上述現有技術的至少一種缺陷,提供一種可以在上料過程中校正磁材工件姿態的振動上料裝置和振動上料裝置中的姿態校正方法。
為實現上述發明目的,本發明採用如下技術方案:
根據本發明的一個方面,提供了一種振動上料裝置,用於對磁材工件進行振動上料,所述磁材工件為未充磁狀態,包括振動上料器,所述振動上料器上具有運送所述磁材工件的上料通道,在所述上料通道通過的一段或兩段以上區域內設置有變化磁場,所述變化磁場在第一狀態和第二狀態之間進行變化,所述第一狀態的磁場強度大於所述第二狀態的磁場強度,所述變化磁場在所述第一狀態時對經過該區域的所述磁材工件進行姿態校正,所述變化磁場在所述第二狀態時放行所述磁材工件。
根據本發明的一實施方式,所述振動上料裝置包括有磁性部件,所述磁性部件通過第一位置和第二位置之間往復運動形成所述變化磁場,所述第一位置靠近所述上料通道,在所述第一位置時所述變化磁場處於所述第一狀態,所述第二位置遠離所述上料通道,在所述第二位置時所述變化磁場處於所述第二狀態。
根據本發明的一實施方式,所述磁性部件通過一氣缸驅動。
根據本發明的一實施方式,所述振動上料裝置包括有磁性部件,所述磁性部件轉動設置,所述磁性部件通過轉動改變與所述上料通道之間的距離,從而形成所述變化磁場,靠近所述上料通道時所述變化磁場處於所述第一狀態,遠離所述上料通道時所述變化磁場處於所述第二狀態。
根據本發明的一實施方式,所述磁性部件安裝在一轉盤上。
根據本發明的一實施方式,所述轉盤上安裝有兩個以上磁性部件。
根據本發明的一實施方式,所述磁性部件為永磁部件或電磁部件。
根據本發明的一實施方式,所述振動上料裝置包括有電磁部件,所述電磁部件固定設置,且靠近所述上料通道,所述電磁部件通過變化的電流形成所述變化磁場。
根據本發明的一實施方式,所述變化磁場的變化形式為三角波、類三角波、正弦波、類正弦波、脈衝和其他交變磁場中的任一種或任意組合。
根據本發明的一實施方式,所述上料通道包括有旋轉通道和直線通道,所述變化磁場所在的區域位於所述旋轉通道和所述直線通道中的任一段或任幾段。
為實現上述發明目的,本發明還採用如下技術方案:
一種振動上料裝置中的姿態校正方法,用於對振動上料過程中的未充磁狀態的磁材工件進行姿態校正,在所述磁材工件的上料通道通過的一段或兩段以上區域內設置有變化磁場,所述變化磁場在第一狀態和第二狀態之間進行變化,所述第一狀態的磁場強度大於所述第二狀態的磁場強度,所述變化磁場在所述第一狀態時對經過該區域的所述磁材工件進行姿態校正,所述變化磁場在所述第二狀態時放行所述磁材工件。
根據本發明的一實施方式,所述第一狀態時的所述磁場強度為0.01-0.1特斯拉,持續時間為0.1-0.5s,所述第二狀態時的所述磁場強度小於0.01特斯拉,持續的時間為0.2-1s,一個往復周期時間為0.3-3s。
由上述技術方案可知,本發明的振動上料裝置的優點和積極效果在於:
本發明中,磁材工件在振動上料過程中的某段區域內受變化磁場的影響,在第一狀態時的變化磁場的影響下進行姿態校正,在變化磁場進入第二狀態時放行磁材工件,從而既能夠校正磁材工件的姿態,又不影響磁材工件的正常振動上料過程,而且不會降低磁材工件通過的密度,同時提高了磁材工件上料後的姿態正確率,從而大大提高工作效率和上料的自動化水平,具有很高的經濟性和市場價值。
附圖說明
通過結合附圖考慮以下對本發明的優選實施例的詳細說明,本發明的各種目標、特徵和優點將變得更加顯而易見。附圖僅為本發明的示範性圖解,並非一定是按比例繪製。在附圖中,同樣的附圖標記始終表示相同或類似的部件。其中:
圖1是第一示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。
圖2是第二示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。
圖3是第三示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。
圖4是第四示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。
圖5是第五示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。
圖6是第六示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。
其中,附圖標記說明如下:
100、200、300、400、500、600、振動上料器;10、20、30、40、50、60、上料通道;101、201、301、401、501、601、旋轉通道;102、202、302、402、502、602、直線通道;11、21、31、41、永磁部件;51、61、電磁部件;12、22、氣缸;121、221、缸座;122、222、活塞;32、42、轉盤;13、23、33、43、53、63、支架。
具體實施方式
現在將參考附圖更全面地描述示例實施方式。然而,示例實施方式能夠以多種形式實施,且不應被理解為限於在此闡述的實施方式;相反,提供這些實施方式使得本發明將全面和完整,並將示例實施方式的構思全面地傳達給本領域的技術人員。圖中相同的附圖標記表示相同或類似的結構,因而將省略它們的詳細描述。
在對本發明的不同示例的下面描述中,參照附圖進行,所述附圖形成本發明的一部分,並且其中以示例方式顯示了可實現本發明的多個方面的不同示例性結構、系統和步驟。應理解,可以使用部件、結構、示例性裝置、系統和步驟的其他特定方案,並且可在不偏離本發明範圍的情況下進行結構和功能性修改。而且,雖然本說明書中可使用術語「頂部」、「底部」、「前部」、「後部」、「側部」等來描述本發明的不同示例性特徵和元件,但是這些術語用於本文中僅出於方便,例如根據附圖中所述的示例的方向。本說明書中的任何內容都不應理解為需要結構的特定三維方向才落入本發明的範圍內。
第一實施例
圖1是第一示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。如圖1所示,該實施例的振動上料裝置用於對磁材工件進行振動上料,磁材工件為未充磁狀態。該實施例的振動上料裝置包括振動上料器100,振動上料器100上具有運送磁材工件的上料通道10。振動上料器100包括振動上料盤和振動上料直軌,振動上料盤形成旋轉通道101,振動上料直軌形成直線通道102。本實施例中,上料通道10由旋轉通道101和直線通道102組成。該實施例中,在旋轉通道101通過的一段區域內設置有變化磁場,變化磁場在一第一狀態和一第二狀態之間進行變化,第一狀態的磁場強度大於第二狀態的磁場強度,變化磁場在第一狀態時對經過該區域的磁材工件進行姿態校正,變化磁場在第二狀態時放行磁材工件。使得磁材工件在不影響上料進程的情況下完成姿態的校正。該種變化過程可以是漸變過程,也可以是突變過程,也可以是切換過程,總之要實現兩種不同狀態和兩種不同功能的交替往復。在實際操作中,也可以設置兩段以上的變化磁場,分別位於上料通道10的不同位置上,以對磁材工件進行多次姿態校正。
該實施例中,振動上料裝置包括有永磁部件11,永磁部件11通過一第一位置和一第二位置之間往復運動形成上述變化磁場。其中,第一位置為靠近旋轉通道101的位置,在第一位置時該變化磁場處於第一狀態,第二位置為遠離旋轉通道101的位置,在第二位置時該變化磁場處於第二狀態。該實施例中,第一狀態時的磁場強度為0.01-0.1特斯拉,持續時間為0.1-0.5s,第二狀態時的磁場強度小於0.01特斯拉,持續的時間為0.2-1s,一個往復周期時間為0.3-3s。永磁部件11可以包括永磁鐵或者其他具有永久磁性的部件,從而具有相對穩定的磁性。在實際操作過程中,也可以通過電磁部件來替代實現上述永磁部件的功能,在該過程中,電磁部件所通電流保持恆定不變,即可實現。
該實施例中,永磁部件11通過一氣缸12驅動。該氣缸12的缸座121固定安裝在一支架13上,活塞122與永磁部件11相連。該氣缸12可以通過人工控制,也可以通過控制器進行自動控制,在該氣缸12的作用下,驅動永磁部件11進行來回往復運動。通過對氣缸12動作的控制,可以使得變化磁場的變化形式為三角波、類三角波、正弦波、類正弦波、正弦半波、類正弦半波、脈衝和其他交變磁場中的任一種或任意組合。
第二實施例
圖2是第二示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。如圖2所示,該實施例的振動上料裝置用於對磁材工件進行振動上料,磁材工件為未充磁狀態。該實施例的振動上料裝置包括振動上料器200,振動上料器200上具有運送磁材工件的上料通道20,上料通道20由旋轉通道201和直線通道202組成。該實施例中,在直線通道202通過的一段區域內設置有變化磁場,變化磁場在一第一狀態和一第二狀態之間進行變化,第一狀態的磁場強度大於第二狀態的磁場強度,變化磁場在第一狀態時對經過該區域的磁材工件進行姿態校正,變化磁場在第二狀態時放行磁材工件。使得磁材工件在不影響上料進程的情況下完成姿態的校正。該種變化過程可以是漸變過程,也可以是突變過程,也可以是切換過程,總之要實現兩種不同狀態和兩種不同功能的交替往復。在實際操作中,也可以設置兩段以上的變化磁場,分別位於上料通道10的不同位置上,以對磁材工件進行多次姿態校正。
該實施例中,振動上料裝置包括有永磁部件21,永磁部件21通過一第一位置和一第二位置之間往復運動形成上述變化磁場。其中,第一位置為靠近直線通道202的位置,在第一位置時該變化磁場處於第一狀態,第二位置為遠離直線通道202的位置,在第二位置時該變化磁場處於第二狀態。該實施例中,第一狀態時的磁場強度為0.01-0.1特斯拉,持續時間為0.1-0.5s,第二狀態時的磁場強度小於0.01特斯拉,持續的時間為0.2-1s,一個往復周期時間為0.3-3s。
該實施例中,永磁部件21通過一氣缸22驅動。該氣缸22的缸座221固定安裝在一支架23上,活塞222與永磁部件21相連。該氣缸22可以通過人工控制,也可以通過控制器進行自動控制,在該氣缸22的作用下,驅動永磁部件21進行來回往復運動。通過對氣缸22動作的控制,可以使得變化磁場的變化形式為三角波、類三角波、正弦波、類正弦波、正弦半波、類正弦半波、脈衝和其他交變磁場中的任一種或任意組合。
第三實施例
圖3是第三示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。如圖3所示,該實施例的振動上料裝置用於對磁材工件進行振動上料,磁材工件為未充磁狀態。該實施例的振動上料裝置包括振動上料器300,振動上料器300上具有運送磁材工件的上料通道30,上料通道30由旋轉通道301和直線通道302組成。該實施例中,在旋轉通道301通過的一段區域內設置有變化磁場,變化磁場在一第一狀態和一第二狀態之間進行變化,第一狀態的磁場強度大於第二狀態的磁場強度,變化磁場在第一狀態時對經過該區域的磁材工件進行姿態校正,變化磁場在第二狀態時放行磁材工件。使得磁材工件在不影響上料進程的情況下完成姿態的校正。該種變化過程可以是漸變過程,也可以是突變過程,也可以是切換過程,總之要實現兩種不同狀態和兩種不同功能的交替往復。在實際操作中,也可以設置兩段以上的變化磁場,分別位於上料通道10的不同位置上,以對磁材工件進行多次姿態校正。
該實施例中,振動上料裝置包括有永磁部件31,永磁部件31通過一第一位置和一第二位置之間往復運動形成上述變化磁場。其中,第一位置為靠近旋轉通道301的位置,在第一位置時該變化磁場處於第一狀態,第二位置為遠離旋轉通道301的位置,在第二位置時該變化磁場處於第二狀態。該實施例中,第一狀態時的磁場強度為0.01-0.1特斯拉,持續時間為0.1-0.5s,第二狀態時的磁場強度小於0.01特斯拉,持續的時間為0.2-1s,一個往復周期時間為0.3-3s。
該實施例中,永磁部件31通過一轉盤32驅動。該轉盤32轉動安裝在一支架33上。該實施例中,轉盤32可選擇地安裝了3個永磁部件31,永磁部件31的具體數量可以根據具體情況確定。該轉盤32可以通過人工控制,也可以通過控制器進行自動控制,在該轉盤32的作用下,驅動永磁部件31進行旋轉往復運動。通過對轉盤32動作的控制,可以使得變化磁場的變化形式為三角波、類三角波、正弦波、類正弦波、正弦半波、類正弦半波、脈衝和其他交變磁場中的任一種或任意組合。
第四實施例
圖4是第四示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。如圖4所示,該實施例的振動上料裝置用於對磁材工件進行振動上料,磁材工件為未充磁狀態。該實施例的振動上料裝置包括振動上料器400,振動上料器400上具有運送磁材工件的上料通道40,上料通道40由旋轉通道401和直線通道402組成。該實施例中,在直線通道402通過的一段區域內設置有變化磁場,變化磁場在一第一狀態和一第二狀態之間進行變化,第一狀態的磁場強度大於第二狀態的磁場強度,變化磁場在第一狀態時對經過該區域的磁材工件進行姿態校正,變化磁場在第二狀態時放行磁材工件。使得磁材工件在不影響上料進程的情況下完成姿態的校正。該種變化過程可以是漸變過程,也可以是突變過程,也可以是切換過程,總之要實現兩種不同狀態和兩種不同功能的交替往復。在實際操作中,也可以設置兩段以上的變化磁場,分別位於上料通道10的不同位置上,以對磁材工件進行多次姿態校正。
該實施例中,振動上料裝置包括有永磁部件41,永磁部件41通過一第一位置和一第二位置之間往復運動形成上述變化磁場。其中,第一位置為靠近直線通道402的位置,在第一位置時該變化磁場處於第一狀態,第二位置為遠離直線通道402的位置,在第二位置時該變化磁場處於第二狀態。該實施例中,第一狀態時的磁場強度為0.01-0.1特斯拉,持續時間為0.1-0.5s,第二狀態時的磁場強度小於0.01特斯拉,持續的時間為0.2-1s,一個往復周期時間為0.3-3s。
該實施例中,永磁部件41通過一轉盤42驅動。該轉盤42轉動安裝在一支架43上。該實施例中,轉盤42可選擇地安裝了3個永磁部件41,永磁部件41的具體數量可以根據具體情況確定。該轉盤42可以通過人工控制,也可以通過控制器進行自動控制,在該轉盤42的作用下,驅動永磁部件41進行旋轉往復運動。通過對轉盤42動作的控制,可以使得變化磁場的變化形式為三角波、類三角波、正弦波、類正弦波、正弦半波、類正弦半波、脈衝和其他交變磁場中的任一種或任意組合。
第五實施例
圖5是第五示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。如圖5所示,該實施例的振動上料裝置用於對磁材工件進行振動上料,磁材工件為未充磁狀態。該實施例的振動上料裝置包括振動上料器500,振動上料器500上具有運送磁材工件的上料通道50,上料通道50由旋轉通道501和直線通道502組成。該實施例中,在旋轉通道501通過的一段區域內設置有變化磁場,變化磁場在一第一狀態和一第二狀態之間進行變化,第一狀態的磁場強度大於第二狀態的磁場強度,變化磁場在第一狀態時對經過該區域的磁材工件進行姿態校正,變化磁場在第二狀態時放行磁材工件。使得磁材工件在不影響上料進程的情況下完成姿態的校正。該種變化過程可以是漸變過程,也可以是突變過程,也可以是切換過程,總之要實現兩種不同狀態和兩種不同功能的交替往復。在實際操作中,也可以設置兩段以上的變化磁場,分別位於上料通道10的不同位置上,以對磁材工件進行多次姿態校正。
該實施例中,振動上料裝置包括有電磁部件51,電磁部件51靠近旋轉通道501固定設置,通過變化的電流形成上述變化磁場。該實施例中,第一狀態時的磁場強度為0.01-0.1特斯拉,持續時間為0.1-0.5s,第二狀態時的磁場強度小於0.01特斯拉,持續的時間為0.2-1s,一個往復周期時間為0.3-3s。
該實施例中,電磁部件51固定安裝在一支架33上,並電性連接一交變電源。該交變電源可以固定變化形式,也可以通過控制器進行在線自動控制,使得電磁部件51形成變化磁場。通過對交變電源的控制,可以使得變化磁場的變化形式為三角波、類三角波、正弦波、類正弦波、正弦半波、類正弦半波、脈衝和其他交變磁場中的任一種或任意組合。
第六實施例
圖6是第六示例性實施例中示出的本發明振動上料裝置的結構示意圖。如圖6所示,該實施例的振動上料裝置用於對磁材工件進行振動上料,磁材工件為未充磁狀態。該實施例的振動上料裝置包括振動上料器600,振動上料器600上具有運送磁材工件的上料通道60,上料通道60由旋轉通道601和直線通道602組成。該實施例中,在直線通道602通過的一段區域內設置有變化磁場,變化磁場在一第一狀態和一第二狀態之間進行變化,第一狀態的磁場強度大於第二狀態的磁場強度,變化磁場在第一狀態時對經過該區域的磁材工件進行姿態校正,變化磁場在第二狀態時放行磁材工件。使得磁材工件在不影響上料進程的情況下完成姿態的校正。該種變化過程可以是漸變過程,也可以是突變過程,也可以是切換過程,總之要實現兩種不同狀態和兩種不同功能的交替往復。在實際操作中,也可以設置兩段以上的變化磁場,分別位於上料通道10的不同位置上,以對磁材工件進行多次姿態校正。
該實施例中,振動上料裝置包括有電磁部件61,電磁部件61靠近直線通道602固定設置,通過變化的電流形成上述變化磁場。該實施例中,第一狀態時的磁場強度為0.01-0.1特斯拉,持續時間為0.1-0.5s,第二狀態時的磁場強度小於0.01特斯拉,持續的時間為0.2-1s,一個往復周期時間為0.3-3s。
該實施例中,電磁部件61固定安裝在一支架63上,並電性連接一交變電源。該交變電源可以固定變化形式,也可以通過控制器進行在線自動控制,使得電磁部件61形成變化磁場。通過對交變電源的控制,可以使得變化磁場的變化形式為三角波、類三角波、正弦波、類正弦波、正弦半波、類正弦半波、脈衝和其他交變磁場中的任一種或任意組合。
最後,需要說明的是,雖然上述多個實施例已經對本發明可能的多種實施方式進行了具體說明,但是仍不能對本發明的所有可能實施方式進行窮舉,而其中各種方案的具體結構並非僅可以應用於各自的實施例中,其相互交叉的技術方案仍是本發明應有的實施例。而且,其中各種具體結構,僅為方便說明,並不作為對本發明的限定。
另外,本發明還提供了一種振動上料裝置中的姿態校正方法,用於對振動上料過程中的未充磁狀態的磁材工件進行姿態校正,在磁材工件的上料通道通過的一段或兩段以上區域內設置有變化磁場,變化磁場在第一狀態和第二狀態之間進行變化,第一狀態的磁場強度大於第二狀態的磁場強度,變化磁場在第一狀態時對經過該區域的磁材工件進行姿態校正,變化磁場在第二狀態時放行磁材工件。第一狀態時的磁場強度為0.01-0.1特斯拉,持續時間為0.1-0.5s,第二狀態時的磁場強度小於0.01特斯拉,持續的時間為0.2-1s,一個往復周期時間為0.3-3s。變化磁場的變化形式可以為三角波、類三角波、正弦波、類正弦波、正弦半波、類正弦半波、脈衝和其他交變磁場中的任一種或任意組合。
本發明所屬技術領域的普通技術人員應當理解,上述具體實施方式部分中所示出的具體結構和工藝過程僅僅為示例性的,而非限制性的。而且,本發明所屬技術領域的普通技術人員可對以上所述所示的各種技術特徵按照各種可能的方式進行組合以構成新的技術方案,或者進行其它改動,而都屬於本發明的範圍之內。