矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的製作方法

2023-10-07 13:16:54 1

矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的製作方法
【專利摘要】本實用新型有關於一種矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層設置於玻璃基片的表面，且鍍膜層從底層向上依次包括：氮化矽膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氧化錫膜層、氮化矽膜層。本實用新型的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃可見光透過率為50％，具有生產成本低、耐磨性能好、耐高溫、不褪色、玻璃面反射色中性的優點。
【專利說明】
矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種鍍膜玻璃，特別是涉及一種含有用氮化矽薄膜作為附著層的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃。

【背景技術】
[0002]低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層，對太陽光中的近紅外線和生活環境中的遠紅外線起反射作用，從而降低玻璃對紅外線的吸收和輻射率，所以稱之為低輻射鍍膜玻璃。此種玻璃既可用於家庭窗戶，也可用於商店、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕牆及其它需要的場所。夏天它可以有效阻止太陽光中的近紅外線進入室內，避免室內溫度升高，節約空調費用；冬天它可阻止室內暖氣等產生的遠紅外線逸出室外，保持室內溫度，節約取暖費用。
[0003]現在市場上已經有很多低輻射鍍膜玻璃，有單銀低輻射鍍膜玻璃，也有雙銀和三銀低輻射鍍膜玻璃。所用的薄膜材料除功能層用金屬銀之外，附著層材料有採用氧化錫、氧化鈦、氧化鋅等。氮化矽材料結構與玻璃材料結構相近，其薄膜更易於和玻璃結合，其薄膜光學折射率高，玻璃面反射顏色選擇性好、靶材成本低廉。用氮化矽作為附著層材料是行業發展趨勢。
[0004]有鑑於上述現有的低輻射鍍膜玻璃存在的問題，本發明人基於從事此類產品設計製造多年豐富的實務經驗及專業知識，並配合學理的運用，積極加以研究創新，以期創設一種新型結構的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，能夠解決現有的低輻射鍍膜玻璃存在的問題，使其更具有實用性。經過不斷的研究、設計，並經過反覆試作樣品及改進後，終於創設出確具實用價值的本實用新型。


【發明內容】

[0005]本實用新型的目的是在提供一種以氮化矽薄膜作為附著層的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其可見光透過率為50%，具有生產成本低、耐磨性能好、耐高溫的特點。
[0006]本實用新型的目的是採用以下的技術方案來實現的。本實用新型提出一種矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其包括玻璃基片和鍍膜層，鍍膜層設置於玻璃基片表面，且鍍膜層從底層向上依次包括:氮化矽膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氧化錫膜層、氮化矽膜層。
[0007]本實用新型的目的還可以採用以下的技術措施來進一步實現。
[0008]較佳的，前述的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其中所述的氮化矽膜層的厚度為20?40納米；所述的鎳鉻膜層的厚度為3?6納米；所述的銀膜層的厚度為8?12納米；所述的氧化錫膜層的厚度為20?40納米。
[0009]本實用新型與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果。藉由上述技術方案，本實用新型矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃至少具有下列優點及有益效果:本實用新型的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃可見光透過率為50%，具有生產成本低、耐磨性能好、耐高溫、不褪色、玻璃面反射色中性的優點。
[0010]上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，並且為了讓本實用新型的上述和其他目的、特徵和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，並配合附圖，詳細說明如下。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是本實用新型的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖。
[0012]【主要元件符號說明】
[0013]1:玻璃基片2:鍍膜層
[0014]21:氮化矽膜層22:鎳鉻膜層
[0015]23:銀膜層24:鎳鉻膜層
[0016]25:氧化錫膜層26:氮化矽膜層

【具體實施方式】
[0017]為更進一步闡述本實用新型為達成預定發明目的所採取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本實用新型提出的一種矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃其【具體實施方式】、結構、特徵及其功效，詳細說明如後。
[0018]請參閱圖1，為本實用新型的結構示意圖，本實用新型的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃包括:玻璃基板I和鍍膜層2，鍍膜層2設置於玻璃基片I的表面，且鍍膜層2從底層向上依次包括:氮化矽膜層21、鎳鉻膜層22、銀膜層23、鎳鉻膜層24、氧化錫膜層25、氮化矽膜層26，從而構成六層膜結構的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
[0019]本實用新型是在高真空環境下，用磁控濺射鍍膜機在浮法玻璃表面上鍍制六層納米材料膜的方法，生產一種具有低輻射率、高透光性、包含有一個銀層的矽基低輻射鍍膜玻
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[0020]本實用新型的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃是在工廠鍍膜機上按如下方法完成:首先鍍膜室抽真空至本底真空度5 X KT4Pa以下，充入工藝氣體(氬氣、氮氣、氧氣)，使鍍膜室內工藝氣體壓力穩定在2.5X10 _ 1Pa左右，接通濺射電源，靶材開始濺射，玻璃經清洗機清洗合格後進入真空室，經過靶材時，靶材原子或其化合物就會沉積到玻璃基片I的表面。第一個祀祀材為娃，工藝氣體為氮氣，將氮化娃膜層21沉積到玻璃基片I的表面成為第一層膜，厚度20至40納米；第二個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻膜層22沉積到氮化矽膜層21表面成為第二層膜，厚度3至6納米；第三個靶靶材為金屬銀，工藝氣體為氬氣，將銀膜層23沉積到鎳鉻膜層22的表面成為第三層膜，厚度8至12納米；第四個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻膜層24沉積到銀膜層23表面成為第四層膜，厚度3至6納米；第五個靶靶材為金屬錫，工藝氣體為氬氣，將氧化錫膜層25沉積到鎳鉻膜層24表面成為第五層膜，厚度20至40納米；第六個靶靶材為氮化矽，工藝氣體為氬氣，將氮化矽膜層26沉積到氧化錫膜層25的表面成為第六層膜，厚度20至40納米。
[0021]第一層氮化矽膜層21會增加膜與玻璃基片I的結合力，起到減反射、調節玻璃面反射色的作用，第三層銀膜層23主要起降低玻璃輻射率的作用，第二層鎳鉻膜層22和第四層鎳鉻膜層24起到鋼化過程中保護銀膜層23的作用，第五層氧化錫膜層25和第六層氮化矽膜層26起到保護銀膜層23不被大氣氧化的作用。
[0022]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，並非對本實用新型作任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本實用新型，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本實用新型技術方案範圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案的內容，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本實用新型技術方案的範圍內。
【權利要求】
1.一種矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於，包括玻璃基片(I)和鍍膜層(2)，鍍膜層(2)設置於玻璃基片(I)的表面，且鍍膜層(2)從底層向上依次包括:氮化矽膜層(21)、鎳鉻膜層(22)、銀膜層(23)、鎳鉻膜層(24)、氧化錫膜層(25)、氮化矽膜層(26)。
2.根據權利要求1所述的矽基單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於，所述的氮化矽膜層(21)的厚度為20?40納米；所述的鎳鉻膜層(22)的厚度為3?6納米；所述的銀膜層(23)的厚度為8?12納米；所述的鎳鉻膜層(24)的厚度為3?6納米；所述的氧化錫膜層(25)的厚度為20?40納米；所述的氮化矽膜層(26)的厚度為20?40納米。
【文檔編號】B32B17/06GK204109466SQ201420537530
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年9月18日 優先權日:2014年9月18日
【發明者】孟怡敏, 白留森, 耿學文, 謝培才 申請人:洛陽新晶潤工程玻璃有限公司