在發射極和集電極表面上串接地運動的清潔裝置的製作方法

2023-05-04 15:22:06 1

專利名稱：在發射極和集電極表面上串接地運動的清潔裝置的製作方法
技術領域：
本申請總體上涉及在例如電動流體加速器(EFA)和靜電除塵器(ESP)的電動流體裝置或靜電裝置中的電極清潔。
背景技術：
許多電子裝置和機械操作的裝置需要氣流以通過對流來幫助冷卻某些作業系統。冷卻有助於防止裝置過熱和提高長期可靠性。已經知道，可以使用風扇或其它類似的移動機械裝置來提供冷卻的空氣流，但這樣的裝置通常具有有限的工作壽命，產生噪音或振動，浪費功率或具有其它設計問題。離子流式換氣裝置例如電動流體(EHD)裝置或電液動力(EFD)裝置的使用可以使冷卻效率提高，並且降低振動、功耗、電子器件溫度和噪音的產生。這可以降低總體裝置壽 命成本、裝置尺寸或體積，並且可以改善電子裝置的性能或用戶的體驗。在許多EFA裝置和其它類似裝置中，如矽樹突的有害物質、表面汙染物、粒狀或其它碎片可能會堆積或形成在電極表面，並且可能會降低這些裝置的性能、效率和壽命。特別是，矽氧烷蒸氣在等離子體或電暈環境中會分解和在電極上形成固態的矽沉積，例如在發射極電極或集電極電極上。其它有害物質可以在任何數量的電極表面上積聚。這種有害材料的積聚可以降低電源效率、引起火花或降低跳火電壓，並導致裝置故障。因此，本領域中尋求對電極表面的清潔和保護的改進方案。

實用新型內容使用流體的離子運動的原理構造的裝置在文獻中具有不同的稱謂離子風機、電風機、電暈風泵、電-流體-力學(EFD)裝置、電動流體(EHD)推進器和EHD氣泵。該技術的某些方面也已被開發用於稱為靜電空氣清潔器或靜電除塵器的裝置中。在本申請中，此處說明和描述的裝置實施例被稱為電動流體的流體加速器裝置，適於用作熱管理解決方案中的部件，以對由電子電路所產生的熱量進行散熱，除其它事項夕卜。在上下文中，一些實施例被描述為靜電除塵器裝置。已經發現，通過與發射極電極摩擦接合併與集電極串接地摩擦接合的清潔裝置的運動，可以清潔在電動流體加速器和靜電除塵器裝置或其它離子流裝置中的發射極電極和集電極電極。在一些實施例中，一個裝置包括電動流體加速器和與一個或多個集電極電極表面間隔地設置的發射極電極，在所述電動流體加速器的工作過程中，所述發射極電極和集電極電極中每個電極的表面容易積聚有害物質。該裝置包括清潔裝置，其各清潔表面定位為與所述發射極電極表面和至少一部分集電極電極表面摩擦接合。所述清潔裝置可以由驅動機構移動，使各清潔表面沿著發射極電極的縱向範圍和串接的集電極電極表面的大部分行進，從而去除各個電極表面的有害物質。在某些情況下，發射極電極和集電極電極表面一起至少部分地限定了所述電動流體加速器。例如，發射極電極和集電極電極表面可以彼此相對定位，使得在獲得能量時，它們之間產生離子，從而沿流體的流動路徑產生流體流。在某些情況下，至少一個額外的電極表面位於流體流動路徑中所述電動流體加速器的上遊或下遊，以及所述清潔裝置包括至少一個另外的清潔表面，其沿所述額外電極的大部分以及串接地沿發射極電極的縱向範圍行進。在一些實施例中，發射極電極和集電極電極表面都可以作為電動流體加速器的一部分。在一些實施例中，電動流體加速器包括發射極電極，並能夠獲得能量從而沿流體流動路徑產生流體流；且集電極電極表面位於流體流動路徑中電動流體加速器的上遊，並可作為靜電除塵器的一部分。在某些情況下，發射極電極和集電極電極表面用作為靜電除塵器的一部分。 因此，所述清潔裝置可以被用來清潔用在電動流體加速器和靜電除塵器的每一個中的串接的電極。在某些情況下，發射極電極可用作電動流體加速器和靜電除塵器之一的一部分，且集電極電極表面用作所述電動流體加速器和靜電除塵器中另一個的一部分。在某些情況下，第二個發射極電極可用作靜電除塵器的一部分，且所述清潔裝置包括摩擦接合所述第二個發射極電極的相應的清潔表面。所述清潔裝置可操作以串接地沿著所述第一和第二個發射極電極兩者的縱向範圍行進。在一些實施例中，該裝置包括輔助清潔裝置，其被定位為與清潔裝置表面摩擦接合，以去除在該表面上積聚的有害物質。在一些實施例中，集電極電極(208)被配置為在行進期間作為所述清潔裝置(200)的導軌。在一些實施例中，所述清潔裝置進一步用於保護相應的電極。在某些情況下，與發射極電極表面摩擦接合的相應的清潔裝置包括可以通過所述清潔裝置的運動而沉積在所述電極上的電極保護材料。在某些情況下，所述電極保護材料包括可磨損的碳材料。在某些情況下，所述保護材料包括臭氧還原劑，例如催化劑、活性炭、或其它可與臭氧結合的材料。[0021 ] 在一些實施例中，一個裝置包括靜電除塵器和與一個或多個集電極電極間隔地設置的發射極電極，在所述靜電除塵器的操作過程中，所述發射極電極和集電極電極中的每一個在其表面上容易形成有害物質或積聚其它有害物質。清潔裝置包括各清潔表面，所述清潔表面被定位為與相應的發射極電極表面和集電極電極表面的至少一部分摩擦接合。所述清潔裝置可操作使相應的清潔表面沿著發射極電極的縱向範圍、以及串接地在集電極電極表面的大部分尺寸上行進，從而去除有害物質。在某些情況下，所述發射極電極可用作靜電除塵器的一部分，且所述一個或多個集電極電極可用作電動流體加速器的一部分。在某些情況下，所述發射極電極可用作電動流體加速器的一部分，且所述一個或多個集電極電極可用作靜電除塵器的一部分。在一些實施例中，該裝置包括控制器，該控制器可操作以啟動所述清潔裝置之一的運動，從而響應於以下其中一種情況而從所述電極表面去除有害物質事件檢測、預定時間段已過，檢測到在電極之間的電弧，以及測量裝置的工作參數發生變化。[0025]在某些情況下，所述控制器響應於事件檢測，如開機，以及測量裝置的工作參數發生變化，例如電極電弧放電。在某些情況下，在電極被關斷時所述清潔裝置工作。在某些情況下，所述清潔裝置的運動也會造成電極保護材料原位(in situ)沉積在電極上，例如通過磨損沉積在清潔裝置上的保護材料的大量固體散料。在某些情況下，所述保護材料可以通過可磨損的層、可磨損的墊、可磨損的插入物而沉積在所述清潔裝置上。在一些實施例中，一個或多個電極或電極表面在清潔表面的串接運動中被保護，以抑制汙染物的積聚和促進有害物質的去除。在某些情況下，所述保護材料相對於被保護的電極表面的附著力較低。在某些情況下，碳材料的清潔表面既可以用於去除在電極上積聚的有害物質，也可以用於進一步在電極上 沉積碳塗層或其它保護材料，以減少附著力和便於有害物質的去除。定期或反覆的保護可以減少或防止有害材料的逐漸積聚或電極的氧化。在一些實施例中，保護材料提供抗氧化和等離子體環境或離子轟擊的其它效果，也可以潤滑清潔電極以防止在清潔過程中表面金屬塗層被損壞。金屬塗層和碳保護塗層可以防止下面的金屬電極被離子轟擊和等離子體腐蝕。在一些實施例中，所述保護材料包括臭氧還原劑。在某些情況下，選擇的保護材料至少部分地減輕以下情況的至少一種電極腐蝕、侵蝕、氧化、矽膠粘合、枝狀物形成或其它有害物質的機械附著力。在某些情況下，保護材料包括銀、鈀、鉬、鎂、錳、鎳、鋯、鈦、鎢、鋁、所述金屬的氧化物或合金、碳和在等離子體條件下會分解的有機金屬材料中的至少一種。在一些實施例中，所述清潔裝置僅接觸相應電極的一個表面、側面或部分。例如，所述清潔表面可以從清潔裝置鄰近一個電極的一側延伸。所述清潔表面可以被定位為接合所述電極的最容易形成枝狀物、有害物質積聚或侵蝕的部分，例如，在空氣流中的電極前沿邊緣。在一些實施例中，所述清潔裝置接觸多個相應的電極表面，例如，電極的正面表面。在某些情況下，多個清潔表面從所述清潔裝置延伸以接觸相應電極的多個表面。在某些情況下，所述清潔表面限定基本上非線性的輪廓，從而在所述清潔裝置沿電極運動的過程中使電極偏轉。在某些情況下，所述相應的電極包括發射極電極和集電極電極。在某些情況下，額外的電極可以通過所述清潔裝置的運動被串接地清潔和/或保護。例如，任何數量的額外集電極電極、接地電極、除塵器電極、回流電極、排斥電極及類似的電極可以通過所述清潔裝置沿發射極電極的運動而被串接地清潔或保護。類似地，包括空氣液體過濾器、冷卻表面等等的附加裝置結構也可以通過清潔裝置沿發射極電極的運動而被清潔裝置的清潔表面串接地清潔。在一些實施例中，EFA或類似的離子流裝置被安裝在包括控制器的電子裝置中，所述控制器可操作以啟動清潔裝置的運動，從而清潔相應的電極和/或在相應的電極上沉積保護材料。在某些情況下，所述清潔和保護是由相同的清潔裝置表面執行的。在某些情況下，相應的清潔表面包括刷子、刮板、刮刀或擦拭器。在各種實施方案中，刷子可以是旋轉刷。在某些情況下，所述清潔表面包括順應的或共形的表面，如刮板或擦拭刀片。在某些情況下，刷子、擦拭器或其它清潔表面可用柔軟的材料如聚合物製成，以防止電極磨損。在特定的情況下，所述清潔表面包括含有尼龍或其它電介質材料的毛刷。電介質刷定位為與相應的集電極電極表面接合，並與所述清潔裝置沿著相應的發射極電極的運動串接地在所述電極表面上移動。在一些實施例中，所述清潔裝置包括多套互補的清潔表面，它們與相應電極的兩側摩擦接合。所述清潔裝置可以通過相應的清潔表面沿著發射極電極或集電極電極的縱向延伸方向的運動而串接地輸送任意數量的額外的清潔表面。例如，可以以毛刷的形式提供第一個額外的清潔表面，它接觸到與所述發射極電極和/或集電極電極間隔地設置的基本上對準的回流電極、冷卻葉片或空氣流過濾器。在某些情況下，相應的清潔表面包括可磨損的墊，其被選擇用於例如通過沉積碳塗層、臭氧還原劑或其它保護物質而保護相應的電極表面。因此，所述清潔裝置可以串接地輸送任何數量或任何類型的清潔表面，它們與相應電極表面和相關EFA結構的任何組合接觸，從而執行清潔和/或保護。在一些應用中，本實用新型的特點是一種用於串接地(in tandem)清潔集電極電極與發射極電極的方法，每個所述發射極電極和集電極電極在操作過程中容易在其相應的表面上積聚有害物質。該方法包括沿發射極電極的縱向範圍輸送成摩擦接合的所述清潔裝置的第一個清潔表面；和，在集電極電極表面的大部分尺寸上串接地輸送成摩擦接合的所述清潔裝置的第二個清潔表面，從而去除有害物質。在一些應用中，該方法包括通過清潔表面的行進在發射極電極和集電極電極表面的至少一個上原位沉積電極保護材料。在一些應用中，該方法包括在電極上原位沉積電極保護材料。在某些情況下，所述電極保護材料包括臭氧還原劑。在某些情況下，所述保護材料的沉積層形成犧牲塗層，選擇的犧牲塗層能減輕在等離子體、電暈放電或離子轟擊環境中的電極氧化。在一些實施例中，所述保護材料通過清潔裝置的清潔表面沿所述電極的運動而沉積。在一些應用中，本實用新型的特點是一種裝置，包括外殼(916);熱管理組件(920)，所述熱管理組件用於對在所述外殼中的一個或多個器件的對流冷卻，所述熱管理組件限定了流動路徑(902)以在沿所述流動路徑定位的熱傳遞表面(942)上在所述外殼的各部分之間傳送空氣，對由所述一個或多個器件產生的熱量進行散熱，所述熱管理組件包括含有集電極和發射極電極(106，206，306，308，108，208，320)的電動流體加速器(201，301)，所述集電極和發射極電極間隔地設置且能夠獲得能量從而沿流體流動路徑產生流體流，其中所述電極的至少一個在其操作過程中容易積聚有害物質；以及清潔裝置(200，300)，所述清潔裝置包括相應的清潔表面(102，104，202，204，302，304，322，332)，所述清潔表面定位為與相應的發射極電極和集電極電極的至少一部分摩擦接合，所述清潔裝置由驅動機構移動，以使相應的清潔表面沿著發射極電極的縱向範圍以及串接地在集電極電極的大部分尺寸上行進，從而從相應的電極去除有害物質。相對於傳統的機械式空氣冷卻系統如風扇，電動流體裝置的使用可以減少振動、降低電子裝置的溫度、減小噪音的產生。在某些情況下，EFA裝置的效率可能會受到枝狀物的形成和其它有害物質影響，所述枝狀物和其它有害物質可能導致電壓變化、電弧放電和空氣流動效率中的功率損耗。對發射極或集電極電極燈電極的清潔可以減少這些問題，提高壽命工作成本和提高效率。[0046]詳細的描述參照附圖進行，所述附圖通過示範顯示了各個具體方面和其中可以實現本實用新型教導的實施方案。也可以利用其它的安排和實施方案，並且在結構、邏輯和電路上進行各種變化而不背離所披露的實施方案的範圍。各個實施方案之間不一定是相互排斥的，因為有些實施方案可以與一個或多個其它實施方案結合以形成新的實施方案。

下面參考附圖詳細介紹各種實施方案，其中圖IA - IB顯示根據不同的實施例的包括驅動機構的清潔裝置，所述驅動機構用於沿電極串接地輸送所述清潔裝置的清潔表面。圖2A和圖2B顯示根據不同的實施例的清潔裝置的側視圖。圖3顯示根據不同的實施例的清潔裝置的側視圖，所述清潔裝置包括與額外的電極接觸的額外的清潔表面。圖4顯示根據不同的實施例的清潔裝置的側視圖，所述清潔裝置包括與細長的發射極電極接觸的可磨損的保護材料插入物。圖5顯示根據不同的實施例的用於使細長的發射極電極偏轉的清潔裝置附件，包括彎曲的清潔表面。圖6顯示圖5的清潔表面的剖視圖。圖7顯示根據不同的實施例的清潔裝置的端視圖，所述清潔裝置包括具有表面輪廓的清潔表面，用於偏轉和清潔細長的發射極電極。圖8顯示根據不同的實施例的清潔裝置的端視圖，所述清潔裝置包括與細長的發射極電極接觸的可磨損的保護材料插入物。圖9顯示使用本文所述的各種實施方案的電子系統。
具體實施方式
參考圖IA - 1B，清潔裝置100包括分別被定位為與相應的發射極電極106和集電極電極108的至少一部分摩擦接合的清潔表面102和104。清潔裝置100是可移動的，以使相應的清潔表面102和104沿發射極電極106和集電極電極108的表面串接地行進，從而從相應的電極表面去除有害物質，例如矽樹突、表面汙染物、顆粒或其它碎片。清潔表面102和104可以用於從電極106和108去除枝狀物或其它有害物質，或者用於清潔或保護所述電極。發射極電極106和集電極電極108彼此相對定位，且能夠獲得能量產生離子，沿流體流動路徑產生流體流。因此，發射極電極106和集電極電極電極108可以至少部分地限定電動流體加速器。任何數量的額外電極可以沿流體流動路徑放置在電動流體加速器的上遊和下遊。可以提供額外的清潔表面，其與所述額外電極的表面摩擦接合，且在所述清潔表面102和104沿發射極電極106的縱向範圍行進時，在所述額外電極的表面上串接地行進。在一些實施例中，集電極電極108可以沿流體流動路徑放置在電動流體加速器的上遊，並且可以用作靜電除塵器。雖然電極106和108 —般描述為細長的或絲線型的發射極電極和集電極電極，但電極類型和電極表面的任何組合都可以通過清潔表面102和104經由清潔裝置100的運動而被清潔。例如，相應的第一清潔表面102可以沿發射極電極106的縱向範圍行進，且相應的第二清潔表面(如清潔表面104)在集電極電極108或其它電極的表面的大部分尺寸上串接地行進。例如，EFA、ESP或EHD裝置可以包括接地電極、排斥電極、回流電極、或被設置成啟動空氣通過該裝置以將例如經熱管從散熱器傳遞過來的熱散去的其它電極。在所示的實施方案中，清潔裝置100包括多對清潔表面102和104，它們被定位用於清潔相應電極106和108的相對表面。清潔表面102，104可以形成表面輪廓以清潔相應電極的全部或一部分。例如，清潔表面102可以通過在清潔表面102中形成的槽而與發射極電極106具有基本上完整的圓周接觸。電極106和108—般分別被稱為發射極電極和集電極電極，清潔裝置100可用於清潔兩個或多個電極例如106和108的任意組合。此外，清潔裝置100可配置額外的清潔表面，它們將被輸送經過任何數量的電極、過濾器或其它系統，所述電極、過濾器或其它系統的特點是容易積聚有害物質和需要機械 清潔或其它表面處理。清潔裝置100可以通過驅動纜繩而被驅動或平移，所述驅動纜繩圍繞驅動滑輪112和惰輪114而被上鏈，所述驅動滑輪112可以被驅動馬達116旋轉。其它類型的驅動機構也可以用於移動清洗機構100，從而清潔和/或保護電極。例如，可以使用螺絲或蝸杆傳動，或其它有齒或齒輪傳動機構。替換地，在一些實施方案中，電極106和108可以被串接地驅動經過清潔裝置100。例如，電極106和/或108可以圍繞類似於驅動纜繩110的驅動滑輪上鏈。電極106和108可以是細長的線或帶的形式，並可以通過相應的驅動滑輪或其它驅動機構而在相同或相反的方向中被傳送經過所述清潔裝置100。在一個特定的實施例中，細長的帶狀電極被扭曲形成莫比烏斯帶(mobius strip)。莫比烏斯帶的電極配置對於用單個清潔表面來清潔電極的相對表面是有利的。因此，在一些實施例中，兩個電極的串接清潔可以通過所述電極在相同或相反方向運動穿過清潔裝置的相應清潔表面而得以實現。清潔裝置100可以是單向移動的，使得在每個周期中所述清潔裝置100在電極106和108的交錯端部之間移動。替換地，清潔裝置100可以在單個周期中往復運動或雙向移動，或者可以在一個給定的周期中以任何所需的速度執行任意次數的移動。在一些實施例中，清潔工作可以重複、延長或按實際需要保護，以實現由清潔周期之間測量性能特點所確定的期望的清潔程度。例如，在第一個清潔周期之後，發射極電極可以獲得能量並對其測量各種性能特點，如電壓、電流、電火花等等。然後可以根據需要啟動額外的清潔周期，且執行額外的性能檢查以確定電極清潔的充分程度。繼續參考圖IA - IB中，在清潔和保護電極106和108的過程中，枝狀材料或其它有害物質可以積聚在清潔裝置100的外部，例如鄰近清潔表面102或104的位置。因此，輔助清潔裝置例如刷子126被定位為靠近清潔裝置100的行進路徑的末端，以去除清理機構100積聚的有害物質。刷子126被定位為接觸清潔裝置的外部，例如，與清潔表面102和104相鄰的前邊緣或表面，在該處從電極106或108脫落的有害物質可以積聚在清潔裝置100上。因此，可以通過刷子126或其它合適的輔助清潔機構可以去除清潔裝置100包括清潔表面102和104積聚的次級有害物質。在一些實施例中，清潔表面102或104可以包括刷子126，且輔助清潔裝置可以包括剛性結構，該剛性結構被定位為偏轉和釋放所述刷子上的刷毛以去除次級有害物質。因此，任何數量或類型的輔助清潔裝置可以與清潔裝置100的相應清潔表面102或104或其它部分一起，以去除那裡的有害物質。在特別說明的實施例中，刷子126沿清潔裝置100的行進路徑的端部進行定位，這樣清潔裝置100靠在刷子126上的推進將導致刷子126偏轉且由此擦過清潔裝置100的受影響區域。在清潔周期之間，被刷子126刷落的有害物質可以積聚在接收區域128中，接收區域的位置與清潔裝置100駐留的收藏位置相鄰。可以在接收區域128的側壁或底部中提供通道(未顯示)，允許脫落的有害物質離開系統，例如通過在輸送過程中將所述系統傾斜。在另一些實施例中，在電極線的下面提供所述通道，使得脫落的有害物質簡單地掉出電子 裝置，例如作為精細粉末掉出在較低的表面中的通風口。在某些情況下，接收區域128可以包括可移走的有害物質盒。在一些實施例中，電極106和/或108是細長的線形電極，它們被拉緊放置，且清潔裝置100限定了具有表面輪廓或其它形狀的相應清潔表面102和104以接觸電極106和108的期望部分。例如，在某些情況下，清潔表面基本上與相應電極106或108的表面輪廓或形狀相符合。因此，開槽的清潔表面可以接收拉長的電極沿其縱向範圍或表面行進。同樣地，基本上平的清潔表面可以在相應電極的基本上平的大部分尺寸上傳送。在某些情況下，電極是基本上剛性的，且所述清潔表面與電極相符合。在其它情況下，電極可以稍微與清潔表面相符合，例如，在線形電極和具有表面輪廓的清潔表面的情況下。在一些實施例中，所述相對的各個清潔表面彼此相互抵靠，或者通過施加的力靠在相應的電極上。在特定情況下，細長的各電極線間隔例如1-5_放置，它們能夠獲得能量以在其間建立電暈放電。電極拉緊放置，例如拉緊10-30克的力，並用開槽的碳清潔表面來清潔，其中在清潔表面和相應的電極之間具有40-80克的預載荷。含碳的清潔表面在初次傳送路徑和返回的傳送路徑中都沿相應的電極以大約13毫米/秒的速度被串接地輸送。出現在清潔表面上的碳優選地具有被選擇為能夠從所述電極有效地去除有害物質而不會磨損所述電極材料或電極表面塗層的硬度。在某些情況下，所述碳是足夠軟的，可以被磨下和在電極上沉積成碳塗層。但碳只是出現在清潔表面102和104上的保護材料的其中一個例子。其它保護材料也可以使用，以提供例如臭氧還原塗層、犧牲塗層、電極表面的精加工、電極潤滑或其它有用的電極保護。在各種細長電極的實施方案中，可以採用不同的電極拉緊程度和清潔速度。例如，具有柔軟的擦拭器表面的清潔表面(如毛氈或毛刷)可以採用較高的電極預載荷，例如350克。可以在清潔表面和電極之間或在清潔表面配對物之間通過彈簧、可壓縮泡沫、磁排斥力、雜散電場(fringing field)、電磁閥、電動排斥力或可提供選擇的接觸力的任何其它裝置來提供作用力。例如，拉緊電極的彈性變形可以用於提供所述作用力。在相對較短的操作時間內，在極端條件下在2-4小時內，可以在發射極電極上形成足以潛在影響電極性能的枝狀物。因此，清潔操作的啟動可以有利地依據時間的函數、枝狀物生長的檢測或響應於不同的事件如功率周期或電極的電弧放電。參考圖1B，清潔裝置100的一個實施例包括電極106和108以及與所述電極106和108分別摩擦接合的相應的清潔表面102和104。如圖所示，清潔裝置100可以基本上放置在電極106和108之間，其中從電極106和108延伸的構件使清潔表面102和104放置成與相應的電極106和108接觸。在一些實施例中，清潔表面102和/或104包括保持在清潔裝置100上的可磨損的可更換的插入物。每個清潔表面102和104做成包括兩個對應的插入物。該插入物可以通過粘接、緊固件、過盈配合或其它合適的裝置而被保持。在一些實施例中，相對的插入物可以相互抵靠或通過彈簧、泡沫塊經由清潔裝置等的保持部分彈性變形而靠在相應的電極上。清潔表面102和104可根據需要定期更換。例如，清潔表面102或104的配對件可以初始時相隔一段距離，由於持續的清潔使用而引起的清潔表面的磨損，最終可以相互接觸。因此，清潔表面配對件的接觸可以用於表示例如相應的清潔表面的使用壽命的終結。在某些情況下，清潔裝置100的操作可以導致去除清潔表面的一些材料，從而在清潔表面上形成槽或導致槽加深。清潔表面102和104可以延伸到電極106和108之外，可以與電極的尺寸共存，也可以只在電極的一部分上延伸以清潔電極的期望部分。雖然每個清潔表面102和104做成包括在相應電極的相對表面上的匹配的相對配對件，應當理解的是，本實用新型不限於如圖所示的用在線形電極上的兩部件式清潔裝置，而是可以包括用在平板電極、細長電極和其它形狀的電極上的單件式清潔裝置，如梭子、珠子、刷子或多個清潔頭及表面。因此，清潔裝置100可以與電極106和108相接觸地移動，以通過清潔裝置100的單程或多程移動或其它運動來從相應的電極表面去除有害物質。雖然電極106和108做成基本平行的，且清潔裝置的行進路徑基本上為線性，在一些實施例中，清潔表面102和104可以在對應於相應電極的基本線性的第一路徑和基本線性的第二路徑上串接地行進。例如，電極106和108中的一個或兩個可同時受到縱向的和正交的清潔運動，使得清潔表面102和104的相應行進可以是串接的，但不一定是平行的。另一方面，清潔表面102和104可以以大致相同的縱向速度串接地行進，但行過的路徑是不同的且具有不同的路徑向量和不同的總路徑長度。例如，在一些實施方案中，一個清潔表面可以行過起伏的或者說基本上非線性的路徑，而另一個清潔表面行過基本上線性的路徑。在一些實施例中，在清潔裝置100行過電極106的縱向範圍以進一步去除其上積聚的有害物質時，正交或橫向行進的清潔表面102用於使電極106橫向變形。相對於其它方向引起的其它電極變形，例如通過稍後結合圖4-7描述的清潔表面的輪廓而引起的變形，所述橫向變形是額外的。在某些情況下，細長的電極可以在第一方向彎曲或以其它方式變形，而在第二個方向被拉伸或變形。因此，電極可以沿兩個或多個正交的軸彎曲或變形。在一些實施例中，清潔塊102與電極106不是完全對齊的，而是相對於電極106可以是傾斜的、滾動的或部分旋轉的。清潔塊102的這種角度位置與由清潔塊102引起的電極106的橫向拉緊或橫向運動相結合，可以導致電極106至少部分地橫向行進穿過清潔塊102的表面。在電極106移動通過清潔塊102中引入橫向成分，能夠使清潔塊102隨時間的推移而被磨損得更多，和減少形成通常具有對齊的縱向行進的槽。因此，在某些情況下，清潔塊可以被定向在與圖示方案不同的角度，例如垂直地，且可以沿清潔塊本體的任意數量的軸被角向定位或移動，以選定的方式與所述電極接觸。參考圖2A，電動流體加速器201包括發射極電極206和集電極電極208。驅動纜繩210或其它合適的驅動結構可以位於電極的外面，基本上在流動路徑以外，而不是如圖IA - IB所示電極之間。例如，在一些實施例中，驅動纜繩210位於電極208的下遊或外面，使得清潔裝置200從電極208之間的驅動纜繩210延伸和穿過電極208到達電極206。傳動皮帶或驅動纜繩210這種另外的來自電極206的定位，可以減少從電極206周圍的電場到驅動纜繩210的充電和火花，並且有助於避免受到電極206周圍的電場的幹擾。圖2B描述了電動流體加速器201和清潔裝置200的變型，其中驅動機構(圖示為螺杆或蝸杆傳動器)位於電極206的上遊。例如，清潔裝置200可以包括配置為與螺杆驅動器嚙合的鉛螺母(lead nut)211，所述螺杆驅動器放置在電極206前足夠的距離處，以避免與電極206的電弧放電或其它幹擾。因此，通過鉛螺母211響應於驅動機構操作的運動而沿電極206和208的縱向範圍輸送清潔裝置200。在一些實施例中，電極208可作為清潔裝置200的運動和對準的引導件。在某些情況下，清潔裝置200可以滑動地保持在電極208上。例如，清潔裝置200可以在電極208之間從電極208的後面延伸到前面，從而使清潔表面204保持在電極208的相應表面附近。 已經不出，清潔表面202垂直地位於在電極206的任一側上。在一些實施例中，集電極電極(208)被配置為在行進期間作為所述清潔裝置(200)的導軌。參考圖3，可以對在電動流體加速器(EFA) 301和靜電除塵器(ESP) 303的任一個中的各種電極和電極組合進行串接清潔。清潔裝置300包括與電極306和308的表面摩擦接合的相應清潔表面302和304。清潔裝置300通過驅動纜繩310或其它合適的驅動機構(例如螺杆齒輪和蝸杆齒輪)驅動，這些驅動機構可操作用於移動清潔裝置300，並使相應的清潔表面302和304沿相應的電極306和308串接地行進，從而從相應的電極表面去除有害物質。例如，可在電介質塑料或金屬螺杆或蝸杆傳動上配置螺距，選擇的螺距允許清潔裝置300被反驅動(backdriven)運動。驅動機構300的配置使得清潔裝置300停留在「軟停止」上，而不必使清潔裝置300到達其運動的絕對末端或範圍。替換地，所述清潔裝置可以抵靠在帶有驅動機構的彈性停止件上，從而允許由所述彈性停止件推動的反驅動運動，以防止所述驅動機構的綁定(binding)。在EFA部分301中，發射極電極308和集電極電極330彼此相對定位，使得當獲得能量時在它們之間建立離子流，例如等離子體放電，以及沿流體流動路徑產生流體流。在一些實施例中，發射極電極308和集電極電極電極330至少部分地限定電動流體加速器。在一些實施例中，在流體流動路徑中電動流體加速器301的上遊或下遊設置額外的電極表面320。在一些實施例中，額外的電極可用作靜電除塵器303的一部分。例如，繼續參照圖3，EFA 303包括與發射極電極306間隔開的且平行的集電極電極320，所述集電極電極320與位於在清潔裝置300上的墊322 (如氈或馬海毛墊)接觸。墊322可用於與所述清潔裝置300沿電極306和308的運動串接地清潔接地電極320。類似地，回流電極326大致平行地與電極306間隔開。清潔裝置300可以包括額外的清潔表面，如從清潔裝置300的表面延伸的刷毛，以接觸電極326。回流電極326可被設置和充電成防止與流體流動方向相反的回流或離子運動。清潔裝置300不限於電極306、308、320或330的串接清潔，而是可以進一步用於清潔額外的裝置部件或結構。例如，冷卻葉片、流體過濾器或其它非電極元件可以與任何電極或清潔裝置300間隔開地設置，使得從清潔裝置300延伸的毛刷與部件的一部分或表面接合併沿所述一部分或表面行進，所述行進與清潔表面302和304沿相應電極306和308的運動串接。因此，任何數量的電極、電極表面、4^電極元件或它們的任何組合、或它們的任何部分都可以通過清潔裝置300的表面或延伸沿著它們的任何組合的串接移動而被清潔或者保護。在某些情況下，相應的清潔表面與相應電極的大部分尺寸摩擦接合併且在所述大部分尺寸上行進。在某些情況下，相應 的清潔表面沿電極的縱向範圍行進。參考圖4，清潔裝置400包括沿中部彎曲部分與電極408摩擦接觸的清潔表面404和406。保護材料插入物410位於清潔裝置400的外側前邊緣和尾邊緣以保護電極408。保護材料插入物410的這種結構有利於，例如在沿清潔表面404的彎曲中央部分偏轉和摩擦清潔電極408之前，沉積潤滑保護材料如石墨。雖然保護材料插入物410和清潔表面404在圖中顯示為分立的元件，在一些實施方案中，清潔表面404和406全部或主要部分可以包括保護材料。例如，整個清潔表面404和406都可以包括基本上是固體散裝或塊狀的碳保護材料。因此，在不同的實施方案中，所述保護材料可以額外提供到分立的清潔表面上或可以形成清潔表面本身。參考圖5-9，清潔塊可以被構造或設置成在清潔過程中使所述電極彈性變形或偏轉，例如通過使清潔/保護塊或電極引導件或其它合適的電極接觸部件成非線性表面輪廓而發生上述彈性變形或偏轉。在一些實施例中，電極夾在兩個保護墊/清潔塊之間，每個保護墊/清潔塊限定互補的表面以將所述電極偏轉為可控的彎曲形狀。所述彎曲形狀的半徑的選擇要避免所述電極發生塑性變形。例如，電極的直徑和彎曲形狀的半徑要選擇成使得所述電極的半徑與彎曲形狀的半徑之間的比值不超過所述電極材料的屈服應變。所述互補的表面可以包括用於誘導電極可控的彎曲應力的多個起伏，以驅散沉積在電極上的脆矽石。電極的偏轉也有利於在電極和保護墊/清潔塊之間摩擦時維持它們之間的接觸。參考圖5和圖6的剖視圖，機械的清潔裝置附件500包括相對的第一和第二清潔塊504和506，它們限定用於摩擦接觸電極的清潔表面。清潔塊504和506 —起限定非線性的電極引導件508或路徑，用於使電極彈性變形和在電極正面上摩擦清潔接觸。在清潔和保護過程中，由於清潔塊504和506經由清潔裝置被輸送經過電極，所以所述電極穿過電極弓I導件508。電極引導件508在剖視圖中限定一個通道，所述通道的大小適合接納電極。在某些情況下，電極的彈性變形可提高清潔或保護的效率或控制。例如，可控制在某些接觸點處的電極變形程度或摩擦的程度，以改變清潔和保護參數。電極的張力或在清潔塊504和506之間的間距或壓力在某些情況下是可變的。例如，清潔塊504和506最初是間隔開一段距離的，在持續的清潔和保護周期的磨損之後可以逐步移動靠近並最終互相接觸。清潔塊504和506可以由可磨損的材料(包括保護材料)形成，所述材料能夠被分解以減少粘連、減少臭氧或減輕離子轟擊或等離子體環境的不利影響，如氧化。例如，氧化銀可以既作為犧牲塗層，又可以減少臭氧。在某些情況下，純銀可以是足夠硬的以去除積聚的枝狀物材料，但仍然足夠柔軟以沉積犧牲層。在一個特定的實施方案中，清潔塊504和506由基本上固態的可磨損石墨保護材料形成。在一些實施例中，可磨損的保護材料遠比電極的鍍層更軟，以避免在清潔/保護過程中損壞電極。在某些情況下，保護材料的成分可以包括碳、銀、鉬、鎂、錳、鈀、鎳或氧化物或它們的合金。在某些情況下，保護材料的成分包括碳、在等離子體或離子轟擊條件下分解的有機金屬材料、及它們的組合。在一些實施例中，選擇的保護材料可以具有減少臭氧的功能，例如，減少由所述裝置產生的臭氧量。作為一個示範例子，包含銀(Ag)的材料可用於減少臭氧的產生，也可以用於防止或減少矽石的生長。在一些實施例中，保護材料可以提供犧牲層或保護層。這種塗層不需要在電極的整個操作表面上都是連續的。在某些情況下，該塗層可以提供低粘附或「不粘」的表面，或者可以具有排斥矽石的表面屬性，矽石是在枝狀物形成中的常見物質。作為示範例子，保護 材料可以包括碳例如石墨，對枝狀物形成和其它有害物質具有低粘附性，且更容易通過機械方式去除這種有害物質。在某些情況下，保護材料可作為犧牲層，其在等離子體環境或經離子轟擊被氧化或侵蝕。經由清潔裝置沿電極縱向範圍的運動而對該犧牲層進行補給，保護了可能被侵蝕或變薄的下層電極金屬如鎢或其它保護性塗層。在一些實施例中，塊504/506由不同材料形成或包括不同的保護材料。例如，一個塊可以包括氈或馬海毛的清潔材料，而另一個塊包括可磨損的石墨保護材料。在一些實施例中，清潔塊504/506都包含較硬的碳擦拭和保護材料。在一些實施例中，清潔塊504/506的至少一個包括較軟的擦拭材料，如氈墊。清潔塊504和506做成限定孔510，用於接收緊固件以將塊504和506連接到可移動的清潔裝置。例如，塊506可做成固定器連接在如圖I所示的可移動盒體上，以相對於電極輸送清潔塊504和506。參考圖6，圖中顯示清潔塊504和506沿其邊緣部分接觸。在一些實施例中，清潔塊504和506可以在清潔/保護操作中與電極的一側或兩側接觸。替換地，在一些實施方案中，清潔塊之間的接觸可以用於表示磨損的清潔塊的壽命終點。清潔塊504/506可以是在不同的清潔和調理位置之間是可移動的或者可變的。替換地，清潔塊504/506可以是固定的，在單個或多個行進中提供同時清潔和保護操作。參考圖7，清潔裝置部件716向相應的電極延伸，具有相應的互補清潔塊704和706，它們通過施加外力F分別與電極708接觸。外力F可以通過壓縮的泡沫塊714、彈簧、彈性彎曲件或位於清潔塊704/706的至少一個和相應的支持結構(例如清潔裝置部件716)之間的其它機構來提供。清潔塊704和泡沫塊714設置成在清潔塊704和電極708之間提供足以摩擦清潔所述電極708的壓力，它們也可被偏轉，從而用於清潔和保護。參考圖8，清潔塊804和806包括用於保護電極808的保護材料插入物810。保護材料插入物804和806位於清潔塊804和806的中間，使得清潔操作主要在清潔塊804和806的相應前邊緣清潔表面上進行，且保護操作在電極808經過保護材料插入物810時進行。保護材料插入物810可以根據需要被移除和更換，或可以與清潔塊804/806做成一體和在需要時與清潔塊804/806 —起更換。保護材料插入物810可以包括類似的或不同的保護材料成分。例如，一種保護材料成分可以提供電極屏蔽成分以防止氧化，而另一種保護材料成分可以包括臭氧還原劑。[0108]在一些實施例中，清潔塊可以包括多個清潔或保護區域或表面。在某些情況下，每個清潔塊包括通過刮除或摩擦清潔從電極去除枝狀物的至少第一區域，和用於將保護材料塗層沉積在電極上的至少第二區域。在某些情況下，清潔和保護操作可以通過清潔裝置的運動同時執行。清潔塊可以包括以下表面輪廓的任何組合，包括平坦的、彎曲的、槽形的、起伏的等等輪廓以提供在清潔過程中所需的摩擦接觸程度和/或電極的偏轉程度。所述電極可形成為線材、棒材、陣列、塊狀、條狀或其它形狀，且所述清潔裝置可被構造成接觸電極表面的任何所希望部分以對其串接地清潔。圖9是說明其中可以操作清潔裝置的一種環境實例的原理框圖。電子裝置900(例如計算機)包括EFA空氣冷卻系統920。電子裝置900包括殼體916或外殼，其具有包含顯示裝置912的蓋板910。殼體916的前表面921的一部分已被切開以露出其內部922。電子裝置900的殼體916還可以包括頂面(未顯示)，該頂面支持一個或多個輸入裝置，其中可以包括例如鍵盤、觸摸板和跟蹤裝置。電子裝置900還包括在操作時產生熱量的電子電路960。熱管理解決方案包括熱管944，用於將熱量從電子電路960傳送到遠端的熱交換器 或散熱器942。裝置920是由高壓電源930供電。電子裝置900還可以包括許多其它電路，根據其預定用途而定；為簡化該第二實施方案的示意圖，其它可以佔用殼體920的內部區域922的元件已經從圖9中省略。繼續參考圖9，在操作中，高壓電源930工作以在位於裝置920中的發射極電極和集電極電極之間產生電壓差，藉此產生使環境空氣向集電極電極移動的離子流動或流。所述移動的空氣使裝置920在箭頭902的方向中行進穿過散熱片942，並穿過在殼體916的後表面918中的排氣格柵或開口(未顯不)，從而散去積聚在散熱器942的上面和周圍的空氣中的熱量。需要注意的是，所示的元件例如電源裝置930相對於裝置920和電子電路960的位置可以與圖9所示的有所不同。控制器932連接到裝置920，且可以使用傳感器輸入來確定空氣冷卻系統的狀態，例如確定是否需要清潔電極。替換地，所述清潔可以由控制器932定時地或按計劃地啟動，或者基於系統效率的測量或基於其它確定何時清理電極的合適方法來啟動。例如，電極的電弧放電的檢測或其它電極性能特性的檢測可用於啟動清潔裝置的運動以保護所述電極。在一些實施例中，清潔或者保護是在電極未被使用時執行的。替換地，清潔操作可以相隔一定的時間間隔執行。在某些情況下，由控制器932啟動的保護或清潔基於一個或多個所施加的電壓電平、測得的電勢、通過光學裝置測定發現存在一定水平的汙染、檢測到事件或性能參數、或顯示對所述電極進行機械清潔有好處的其它方法。本文所述的熱管理系統的一些實施方案採用EFA裝置基於離子加速來產生流體流，通常為空氣流，其中所述流體流是基於電暈放電導致離子加速而產生的。其它實施方案可以採用其它離子產生技術，根據此處提供的描述性內容是完全可以理解這些技術。使用熱傳遞表面，由電子電路(如微處理器、圖形單元等)和/或其它元件所散發的熱量可以被轉移到流體流中並且被散去，其中所述熱傳遞表面可以是或不是單片的或與集電極電極集成為一體。通常，當熱管理系統被整合到操作環境中時，就會提供熱量傳遞路徑(通常由熱管或採用其它技術實現)以將熱量從其所耗散(或產生)的位置轉移到殼體內的另一個位置(或多個位置)，在該另一個位置(或多個位置)中由一個EFA裝置(或多個EFA裝置)所產生的空氣流將流過熱傳遞表面。在一些實施例中，採用電極清潔系統的EFA空氣冷卻系統或其它類似的離子作用裝置可以整合在一個工作系統中，如筆記本電腦或桌上型電腦、投影機或視頻顯示裝置等，其它的實施方案可採用子組件的形式。不同的特徵可以與包含EFA裝置的不同裝置使用，例如空氣轉換器、薄膜分離器、薄膜處理裝置、空氣微粒清潔機、複印機、以及用於例如電腦、筆記本電腦和手持電子裝置的冷卻系統，特別地，本實用新型可以用於計算裝置、投影機、複印機、傳真機、印表機、收音機、錄音或錄像裝置、音頻或視頻播放裝置、通信裝置、充電裝置、電力逆變器、光源、醫療裝置、家用電器、空氣濾清器、空調器、電動工具、玩具、遊戲機、電視機和視頻顯示裝置之一。雖然前面描述了本實用新型的不同實施方案，可以理解的是，本實用新型的特徵 由下面的權利要求限定，而且這裡沒有具體描述的其它實施方案也落在本實用新型的範圍內。
權利要求1.一種在發射極和集電極表面上串接地運動的清潔裝置，包括 電動流體加速器(201，301)； 發射極電極(106,206,306,308),所述發射極電極與一個或多個集電極電極表面(，108，208，320)間隔地設置，並且所述發射極電極和集電極電極中每個電極的表面在電動流體加速器的操作過程中容易積聚有害物質；和 清潔裝置(100，200，300)，所述清潔裝置包括相應的清潔表面(102，104，202，204，302，304，322，332)，所述清潔表面定位為與所述發射極電極表面和至少一部分所述集電極電極表面摩擦接合，所述清潔裝置由驅動機構(110，210，310)移動，以使所述相應的清潔表面沿著發射極電極的縱向範圍並且串接地在集電極電極表面的大部分尺寸上行進，從而從相應的電極表面上去除有害物質。
2.根據權利要求I的裝置，特徵在於 所述發射極電極表面和集電極電極表面彼此相對定位，能夠獲得能量從而沿流體流動路徑產生流體流，和 所述發射極電極表面和集電極電極表面一起至少部分地限定所述的電動流體加速器(201,301)。
3.根據權利要求2的裝置，特徵在於所述還包括 至少ー個額外的電極表面，所述額外的電極表面位於流體流動路徑中所述電動流體加速器的的上遊或下遊， 其中，所述清潔裝置包括至少ー個另外的清潔表面，所述另外的清潔表面與所述至少ー個額外的電極表面摩擦接合，並在其大部分尺寸上並且串接地沿發射極電極的縱向範圍行進。
4.根據權利要求I的裝置，特徵在於發射極電極表面和集電極電極表面可操作成為電動流體加速器(201，301)的一部分。
5.根據權利要求I的裝置，特徵在於 所述電動流體加速器包括發射極電極，能夠獲得能量從而沿流體流動路徑產生流體流，和 所述集電極電極表面位於流體流動路徑中電動流體加速器的上遊，並用作靜電除塵器(303)的一部分。
6.根據權利要求5的裝置，特徵在幹所述發射極電極表面和所述集電極電極表面用作靜電除塵器(303)的一部分。
7.根據權利要求5的裝置，特徵在幹所述裝置還包括用作靜電除塵器(303)的一部分的第二發射極電極(306)，所述清潔裝置包括與所述第二發射極電極摩擦接合的相應清潔表面，且所述清潔裝置可操作以沿第一和第二發射極電極兩者的縱向範圍串接地行迸。
8.根據權利要求I的裝置，特徵在於所述發射極電極用作電動流體加速器(201，301)和靜電除塵器(303)之一的一部分，且所述集電極電極表面用作所述電動流體加速器和靜電除塵器中另ー個的一部分。
9.根據權利要求I的裝置，特徵在於所述裝置還包括輔助清潔裝置(126)，所述輔助清潔裝置定位為與所述清潔裝置的表面摩擦接合以從其上去除積聚的有害物質。
10.根據權利要求9的裝置，特徵在於所述裝置還包括設於與所述清潔裝置相鄰的接收區域(128)，以接收由所述輔助清潔裝置去除的有害物質。
11.根據權利要求I的裝置，特徵在於相應的清潔表面相對於相應的電極形成角度以施加橫向分量，以使所述相應的電極移動跨過所述相應的清潔表面。
12.根據權利要求I的裝置，特徵在於相應的清潔表面的輪廓在縱向行進期間使發射極電極在第一方向彈性變形，且所述清潔裝置可橫向移動以使發射極電極在第二方向彈性變形。
13.根據權利要求I的裝置，特徵在於所述相應的清潔表面設置成在對應於相應電極的基本上線性的第一路徑和基本上非線性的第二路徑上串接地行迸。
14.根據權利要求I的裝置，特徵在於所述集電極電極(208)被配置為在行進期間作為所述清潔裝置(200)的導軌。
15.根據權利要求I的裝置，特徵在於與發射極電極摩擦接合的相應清潔表面包括可經由清潔裝置的運動而沉積在所述電極上的電極保護材料。
16.根據權利要求15的裝置，特徵在於所述保護材料至少部分地緩解由於侵蝕、腐蝕、氧化、矽石粘附和枝狀物形成而在所述發射極電極上造成的至少ー種損傷。
17.根據權利要求I的裝置，特徵在於所述裝置還包括驅動機構，且所述驅動機構包括驅動滑輪、螺絲驅動器和蝸杆傳動器的至少ー個。
18.—種在發射極和集電極表面上串接地運動的清潔裝置，包括 靜電除塵器(313)； 發射極電極(106，206，306，308)，所述發射極電極與一個或多個集電極電極(108，208,320)間隔地設置，並且所述發射極電極和集電極電極中的每個電極在靜電除塵器的運作過程中容易在其表面上形成枝狀物或積聚其它有害物質；和 清潔裝置(100，200，300)，所述清潔裝置包括包括相應的清潔表面(102，104，202，204，302，304，322，332)，所述清潔表面包括定位為與相應的發射電極的至少一部分和集電極電極表面摩擦接合，所述清潔裝置由驅動機構(110，210，310)移動以使所述相應的清潔表面沿著發射極電極的縱向範圍並且串接地在集電極電極表面的大部分尺寸上行進，從而從相應的電極表面去除有害物質。
19.根據權利要求18的裝置，特徵在於所述發射極電極用作靜電除塵器(303)和電動流體加速器(201，301)之一的一部分，所述ー個或多個集電極電極用作所述靜電除塵器和所述電動流體加速器中另ー個的一部分。
20.根據權利要求18的裝置，特徵在於所述裝置還包括控制器，所述控制器可操作用於啟動所述清潔裝置之一的運動，從而從電極表面去除有害物質，其中所述控制器響應於以下其中一種情況事件檢測、預定時間段已過、檢測到電極之間的電弧放電、和測量裝置的工作參數發生變化。
21.一種在發射極和集電極表面上串接地運動的清潔裝置，包括 外殼(916)； 熱管理組件(920)，所述熱管理組件用於對在所述外殼中的一個或多個器件的對流冷卻，所述熱管理組件限定了流動路徑(902)以在沿所述流動路徑定位的熱傳遞表面(942)上在所述外殼的各部分之間傳送空氣，對由所述ー個或多個器件產生的熱量進行散熱，所述熱管理組件包括含有集電極和發射極電極(106，206，306，308，108，208，320)的電動流體加速器(201，301)，所述集電極和發射極電極間隔地設置且能夠獲得能量從而沿流體流動路徑產生流體流，其中所述電極的至少ー個在其操作過程中容易積聚有害物質；和 清潔裝置(200，300)，所述清潔裝置包括相應的清潔表面(102，104，202，204，302，304，322，332)，所述清潔表面定位為與相應的發射極電極和集電極電極的至少一部分摩擦接合，所述清潔裝置由驅動機構移動，以使相應的清潔表面沿著發射極電極的縱向範圍以及串接地在集電極電極的大部分尺寸上行進，從而從相應的電極去除有害物質。
22.根據權利要求21的裝置，特徵在幹所述ー個或多個器件包括計算裝置、投影機、複印機、傳真機、印表機、收音機、錄音或錄像裝置、音頻或視頻播放裝置、通信裝置、充電裝置、電カ逆變器、光源、醫療裝置、家用電器、空氣濾清器、空調器、電動工具、玩具、遊戲機、電視機和視頻顯示裝置之一。
23.根據權利要求21的裝置，特徵在於所述裝置還包括驅動機構，且所述驅動機構包括驅動滑輪、螺絲驅動器和蝸杆傳動器的至少ー個。
專利摘要在發射極和集電極表面上串接地運動的清潔裝置，其中所述清潔裝置包括與發射極電極和集電極電極摩擦接合的相應清潔表面(例如102、104、202、204、302、304、322、332)。所述清潔裝置使相應的清潔表面沿著發射極電極的縱向範圍並串接地在集電極電極的大部分尺寸上行進，以從相應的電極表面去除有害物質。替換地，所述諸電極可以在相同或相反的方向中以與固定的清潔裝置摩擦接合的方式串接地被輸送。可以任選地在電極上沉積保護材料以在電極上至少部分地減輕臭氧、侵蝕、腐蝕、氧化或枝狀物的形成。所述保護材料可以包括臭氧還原劑。
文檔編號B03C3/74GK202527274SQ20112020924
公開日2012年11月14日 申請日期2011年6月20日 優先權日2010年6月21日
發明者K·A·霍納, M·K·舒維伯特, N·朱厄爾-拉森 申請人:德塞拉股份有限公司